IPC分类号 : C25F3/12; C25D11/32; C25B11/04; C25B11/03; C25B1/04
专利摘要
本发明涉及一种4H‑SiC一体化自支撑光阳极的制备方法及应用,属于光电催化技术领域。本发明4H‑SiC一体化自支撑光阳极的制备方法包括如下步骤:S1、清洗4H‑SiC单晶片;S2、以清洗后的4H‑SiC单晶片作为阳极,石墨片作为阴极,在刻蚀液中进行阳极氧化刻蚀,所述阳极氧化刻蚀依次包括去帽层刻蚀和连续周期刻蚀,制得光阳极半成品;S3、对光阳极半成品进行清洗、干燥,即制得4H‑SiC一体化自支撑光阳极。本发明的自支撑光阳极具有极低的光解水起始电位和较高的水分解光电流密度。
专利附图
一种4H-SiC一体化自支撑光阳极的制备方法及应用专利购买费用说明
Q:办理专利转让的流程及所需资料
A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。
1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2:按规定缴纳著录项目变更手续费。
3:同时提交相关证明文件原件。
4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q:专利转让变更,多久能出结果
A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
动态评分
0.0