IPC分类号 : B28B3/00; C04B35/44; C04B35/505; C04B35/622
专利摘要
本发明提供了一种适用于光学陶瓷的冷等静压方法和光学陶瓷的制备方法,冷等静压方法包括以下步骤:a)将干压成型后的若干光学陶瓷圆柱体状素胚堆叠成一个圆柱体,并且每两个圆柱体状素胚之间用圆形称量纸隔开;b)将步骤a)堆叠成的圆柱体用保鲜膜包裹至少2层;c)将步骤b)包裹好的圆柱体放入真空袋中抽真空,然后冷等静压,经卸压得到冷等静压后的光学陶瓷素胚。采用本发明新的冷等静压的方法,可以制备出边缘受损较少的陶瓷胚体,进而制备出具有高透过率的陶瓷片。实验证明,本发明实施例采用新型的冷等静压技术烧结出的Nd:YAG激光陶瓷边缘缺陷大大的减少,抛光后透过率可达81%。
专利附图
一种适用于光学陶瓷的冷等静压方法和光学陶瓷的制备方法专利购买费用说明
Q:办理专利转让的流程及所需资料
A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。
1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2:按规定缴纳著录项目变更手续费。
3:同时提交相关证明文件原件。
4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q:专利转让变更,多久能出结果
A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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