专利摘要
本发明属于电磁防护技术领域,涉及一种ISI结构的二维光子晶体电磁辐射防护装置,ISI整体结构设置在迷彩层和附着层之间,ISI整体结构为单层、双层或多层ISI光子晶体结构,ISI光子晶体结构包括上层绝缘体、半导体介质柱、中间绝缘体和底层绝缘体;上层绝缘体和底层绝缘体之间设有均匀分布的半导体介质柱,半导体介质柱之间通过中间绝缘体填充,半导体介质柱的高度大于2mm,厚度大于5mm;其结构简单,机理明确,内容新颖,设计合理,加工和复合技术成熟,成本低,防辐射效果好。
专利附图
一种ISI结构的二维光子晶体电磁辐射防护装置专利购买费用说明
Q:办理专利转让的流程及所需资料
A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。
1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2:按规定缴纳著录项目变更手续费。
3:同时提交相关证明文件原件。
4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q:专利转让变更,多久能出结果
A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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