专利摘要
本发明公开了一种适用于整片晶圆纳米压印的自适应承片台,它包括固定基座、浮动底座、真空吸盘和真空管路。其中,真空吸盘固定于浮动底座的上平面;固定基座具有凹形球形结构,浮动底座具有凸形球形结构,固定基座与浮动底座之间为半球形接触。本发明通过固定基座与浮动底座之间的球形接触配合产生相对滑动实现模板与基片平行自适应调整和楔形误差的补偿;采用真空负压实现浮动底座在固定基座上的锁紧和固定,保持调平后基片和模板之间的相对位姿,确保在压印过程中模板与基片之间的平行。本发明具有结构简单、调整方便、成本低、适应性广和柔性高等优点,可应用于整片晶圆纳米压印,尤其适用于大尺寸晶圆整片纳米压印工艺和装备。
专利附图
一种用于整片晶圆纳米压印自适应承片台专利购买费用说明
Q:办理专利转让的流程及所需资料
A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。
1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2:按规定缴纳著录项目变更手续费。
3:同时提交相关证明文件原件。
4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q:专利转让变更,多久能出结果
A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
动态评分
0.0