专利摘要
本发明公开了一种适用于非平整衬底晶圆级纳米压印的装置和方法。其方法为:引入一种氟聚合物基薄膜结构复合软模具,压印采用气体辅助“微接触”和“流体介电泳力”驱动实现液态聚合物在很小压印力条件下对于模具纳米结构腔体的快速完全填充;脱模基于氟聚合物基极低表面能,并结合“两次固化”和“揭开”式脱模方法,采用微小的脱模力即可实现大面积脱模。本发明实现了在非平整(弯曲、翘曲或者台阶)或曲面或者易碎衬底制造大面积微纳米结构,具有复形精度高、压印面积大、效率高、成本低的显著优势,适用于LED纳米图形化技术、光学器件(如光学透镜)、蝶式太阳能聚光器、微流控器件等器件的制造。
专利附图
一种适用于非平整衬底晶圆级纳米压印的装置和方法专利购买费用说明
Q:办理专利转让的流程及所需资料
A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。
1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2:按规定缴纳著录项目变更手续费。
3:同时提交相关证明文件原件。
4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q:专利转让变更,多久能出结果
A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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