专利摘要
本发明公开了一种整片晶圆纳米压印光刻机,它包括压印头、曝光系统、模板、承片台、脱模喷嘴、机架、大理石底座、真空管路和压力管路,其中,模板固定于压印头上,承片台置于模板的垂直正下方,并固定在大理石底座上,承片台周边设有脱模喷嘴;曝光系统的紫外光源置于压印头内;真空管路和压力管路均与压印头相连;真空管路还与承片台相连。本发明还公开了使用该设备实现整片晶圆纳米压印的方法。本发明的整片晶圆纳米压印光刻机,具有结构简单、适应性广、操作方便、制造成本低和可靠性高等优点,可应用于LED图形化、微透镜、微流体器件的制造,尤其适合光子晶体LED的低成本和规模化制造。
专利附图
一种整片晶圆纳米压印光刻机专利购买费用说明
Q:办理专利转让的流程及所需资料
A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。
1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2:按规定缴纳著录项目变更手续费。
3:同时提交相关证明文件原件。
4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q:专利转让变更,多久能出结果
A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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