专利摘要
本实用新型公开了一种曝光机用真空定位装置，涉及光刻机技术领域，包括旋转压片和吸盘，旋转压片下方连接有旋转轴，吸盘下方设有密封轴套，密封轴套内设有密封圈，密封轴套下方设有垫片；旋转轴依次穿过垫片、密封轴套、密封圈、吸盘，并与旋转压片连接，密封轴套、密封圈、垫片均与旋转轴套接，且密封轴套、密封圈、旋转轴、垫片形成密封环境。本实用新型旋转轴依次穿过垫片、密封轴套、密封圈、吸盘，并与旋转压片连接，密封轴套、密封圈、垫片均与旋转轴套接，且密封轴套、密封圈、旋转轴、垫片形成密封环境，由于吸盘套设于密封轴套上，当玻璃与吸盘接触后形成真空环境，曝光效果好，线路板的曝光质量提高。
权利要求
1.一种曝光机用真空定位装置，其特征在于，包括旋转压片和吸盘，所述旋转压片设于吸盘上方，所述旋转压片下方连接有旋转轴，所述吸盘下方设有密封轴套，所述密封轴套顶端设于吸盘内，所述密封轴套内设有密封圈，所述密封轴套下方设有垫片，所述垫片设于密封轴套下方，并与密封轴套连接；所述旋转轴依次穿过垫片、密封轴套、密封圈、吸盘，并与旋转压片连接，所述密封轴套、密封圈、垫片均与旋转轴套接，且所述密封轴套、密封圈、旋转轴、垫片形成密封环境。
2.根据权利要求1所述的一种曝光机用真空定位装置，其特征在于，所述旋转压片包括压片本体和压片连接套，所述压片本体与压片连接套一体成型，所述压片连接套呈中空状，所述旋转轴一端套接于所述压片连接套上。
3.根据权利要求1所述的一种曝光机用真空定位装置，其特征在于，所述吸盘包括吸盘本体和吸盘连接部，所述吸盘本体与吸盘连接部一体成型，所述吸盘本体和吸盘连接部均呈中空状。
4.根据权利要求1所述的一种曝光机用真空定位装置，其特征在于，所述密封轴套包括轴套本体和轴套连接部，所述轴套本体与轴套连接部一体成型，所述轴套本体和轴套连接部均呈中空状，所述轴套连接部与吸盘连接部相匹配，并套接于所述吸盘连接部上。
5.根据权利要求1所述的一种曝光机用真空定位装置，其特征在于，所述密封圈设于轴套连接部内，垫片设于轴套本体下方。
一种曝光机用真空定位装置专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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