专利摘要

本实用新型公开了一种目镜用胶合镜片，包括镜片基片和防护机构，所述镜片基片的顶部设置有防护机构，所述防护机构包括防紫外线膜，所述防紫外线膜胶合于镜片基片顶部的表面，所述防紫外线膜远离镜片基片的一侧胶合有电磁屏蔽膜，所述电磁屏蔽膜远离防紫外线膜的一侧胶合有防蓝光膜，所述防蓝光膜远离电磁屏蔽膜的一侧胶合有偏光膜。本实用新型通过防紫外线膜、电磁屏蔽膜、防蓝光膜、偏光膜、防污膜和防刮膜的配合使用，能够避免镜片受到刮蹭，同时能避免油污的沾染，解决了现有的目镜用胶合镜片防护性能不好，在使用时，很容易造成刮蹭的现象，同时镜片表面若滴入油污很难将其清除，降低了胶合镜片实用性的问题。

权利要求

1.一种目镜用胶合镜片，包括镜片基片（1）和防护机构（2），其特征在于：所述镜片基片（1）的顶部设置有防护机构（2），所述防护机构（2）包括防紫外线膜（21），所述防紫外线膜（21）胶合于镜片基片（1）顶部的表面，所述防紫外线膜（21）远离镜片基片（1）的一侧胶合有电磁屏蔽膜（22），所述电磁屏蔽膜（22）远离防紫外线膜（21）的一侧胶合有防蓝光膜（23），所述防蓝光膜（23）远离电磁屏蔽膜（22）的一侧胶合有偏光膜（24），所述偏光膜（24）远离防蓝光膜（23）的一侧胶合有防污膜（25），所述防污膜（25）远离偏光膜（24）的一侧胶合有防刮膜（26）。

2.根据权利要求1所述的一种目镜用胶合镜片，其特征在于：所述电磁屏蔽膜（22）的材料为导电金属氧化物。

3.根据权利要求1所述的一种目镜用胶合镜片，其特征在于：所述防蓝光膜（23）为抗蓝光物质制成，并通过蓝光阻断技术来对蓝光进行吸收与转化，实现对蓝光的有效阻断，且镜片基片（1）中加入有防蓝光因子。

4.根据权利要求1所述的一种目镜用胶合镜片，其特征在于：所述防污膜（25）的材料为纳米超双疏膜，所述防刮膜（26）的材料为聚四氟乙烯。

5.根据权利要求1所述的一种目镜用胶合镜片，其特征在于：所述防紫外线膜（21）、电磁屏蔽膜（22）、防蓝光膜（23）、偏光膜（24）、防污膜（25）和防刮膜（26）的厚度均为0.2mm-0.4mm。

说明书

技术领域

本实用新型涉及望远镜技术领域，具体为一种目镜用胶合镜片。

背景技术

目镜用来观察前方光学系统所成图像的目视光学器件，是望远镜、显微镜等目视光学仪器的组成部分，主要作用是将由物镜放大所得的实像再次放大，为消像差，目镜通常由若干个透镜组合而成，具有较大的视场和视角放大率，目镜的组成少不了镜片的使用，现有的目镜用胶合镜片防护性能不好，在使用时，很容易造成刮蹭的现象，同时镜片表面若滴入油污很难将其清除，降低了胶合镜片的实用性。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种目镜用胶合镜片，具备防护效果好的优点，解决了现有的目镜用胶合镜片防护性能不好，在使用时，很容易造成刮蹭的现象，同时镜片表面若滴入油污很难将其清除，降低了胶合镜片实用性的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种目镜用胶合镜片，包括镜片基片和防护机构，所述镜片基片的顶部设置有防护机构，所述防护机构包括防紫外线膜，所述防紫外线膜胶合于镜片基片顶部的表面，所述防紫外线膜远离镜片基片的一侧胶合有电磁屏蔽膜，所述电磁屏蔽膜远离防紫外线膜的一侧胶合有防蓝光膜，所述防蓝光膜远离电磁屏蔽膜的一侧胶合有偏光膜，所述偏光膜远离防蓝光膜的一侧胶合有防污膜，所述防污膜远离偏光膜的一侧胶合有防刮膜。

优选的，所述电磁屏蔽膜的材料为导电金属氧化物。

优选的，所述防蓝光膜为抗蓝光物质制成，并通过蓝光阻断技术来对蓝光进行吸收与转化，实现对蓝光的有效阻断，且镜片基片中加入有防蓝光因子。

优选的，所述防污膜的材料为纳米超双疏膜，所述防刮膜的材料为聚四氟乙烯。

优选的，所述防紫外线膜、电磁屏蔽膜、防蓝光膜、偏光膜、防污膜和防刮膜的厚度均为0.2mm-0.4mm。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

1、本实用新型通过防紫外线膜、电磁屏蔽膜、防蓝光膜、偏光膜、防污膜和防刮膜的配合使用，能够避免镜片受到刮蹭，同时能避免油污的沾染，解决了现有的目镜用胶合镜片防护性能不好，在使用时，很容易造成刮蹭的现象，同时镜片表面若滴入油污很难将其清除，降低了胶合镜片实用性的问题。

2、本实用新型通过防紫外线膜和电磁屏蔽膜的使用，能够有效减少阳光中的有害紫外线等，通过防蓝光膜的使用，能够有效减少蓝光对眼睛的持续伤害，通过偏光膜的使用，能够屏蔽光线中的杂光使视线更加清晰，通过防污膜的使用，能够避免镜片受到油污的沾染，通过防刮膜的使用，能够避免镜片受到刮蹭。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型局部剖视结构图；

图3为本实用新型防护机构结构示意图。

图中：1镜片基片、2防护机构、21防紫外线膜、22电磁屏蔽膜、23防蓝光膜、24偏光膜、25防污膜、26防刮膜。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

本实用新型的镜片基片1、防紫外线膜21、电磁屏蔽膜22、防蓝光膜23、偏光膜24、防污膜25和防刮膜26部件或材料均为通用标准件或本领域技术人员知晓的部件或材料，其结构和原理都为本技术人员均可通过技术手册得知或通过常规实验方法获知。

请参阅图1-3，一种目镜用胶合镜片，包括镜片基片1和防护机构2，镜片基片1的顶部设置有防护机构2，防护机构2包括防紫外线膜21，防紫外线膜21胶合于镜片基片1顶部的表面，防紫外线膜21远离镜片基片1的一侧胶合有电磁屏蔽膜22，电磁屏蔽膜22的材料为导电金属氧化物，通过防紫外线膜21和电磁屏蔽膜22的使用，能够有效减少阳光中的有害紫外线等，电磁屏蔽膜22远离防紫外线膜21的一侧胶合有防蓝光膜23，防蓝光膜23为抗蓝光物质制成，并通过蓝光阻断技术来对蓝光进行吸收与转化，实现对蓝光的有效阻断，且镜片基片1中加入有防蓝光因子，通过防蓝光膜23的使用，能够有效减少蓝光对眼睛的持续伤害，防蓝光膜23远离电磁屏蔽膜22的一侧胶合有偏光膜24，通过偏光膜24的使用，能够屏蔽光线中的杂光使视线更加清晰，偏光膜24远离防蓝光膜23的一侧胶合有防污膜25，防污膜25的材料为纳米超双疏膜，通过防污膜25的使用，能够避免镜片受到油污的沾染，防污膜25远离偏光膜24的一侧胶合有防刮膜26，防刮膜26的材料为聚四氟乙烯，防紫外线膜21、电磁屏蔽膜22、防蓝光膜23、偏光膜24、防污膜25和防刮膜26的厚度均为0.2mm-0.4mm，通过防刮膜26的使用，能够避免镜片受到刮蹭，通过防紫外线膜21、电磁屏蔽膜22、防蓝光膜23、偏光膜24、防污膜25和防刮膜26的配合使用，能够避免镜片受到刮蹭，同时能避免油污的沾染，解决了现有的目镜用胶合镜片防护性能不好，在使用时，很容易造成刮蹭的现象，同时镜片表面若滴入油污很难将其清除，降低了胶合镜片实用性的问题。

使用时，将防紫外线膜21、电磁屏蔽膜22、防蓝光膜23、偏光膜24、防污膜25和防刮膜26依次胶合于镜片基片1顶部的表面，通过防紫外线膜21和电磁屏蔽膜22的使用，能够有效减少阳光中的有害紫外线等，通过防蓝光膜23的使用，能够有效减少蓝光对眼睛的持续伤害，通过偏光膜24的使用，能够屏蔽光线中的杂光使视线更加清晰，通过防污膜25的使用，能够避免镜片受到油污的沾染，通过防刮膜26的使用，能够避免镜片受到刮蹭。

综上所述：该目镜用胶合镜片，通过防紫外线膜21、电磁屏蔽膜22、防蓝光膜23、偏光膜24、防污膜25和防刮膜26的配合使用，解决了现有的目镜用胶合镜片防护性能不好，在使用时，很容易造成刮蹭的现象，同时镜片表面若滴入油污很难将其清除，降低了胶合镜片实用性的问题。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

一种目镜用胶合镜片专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。