专利摘要

本实用新型涉及一种用于一体式镜头相机的镜头滤镜，包括有环形的滤镜主体，所述滤镜主体的前端设有镜片，所述滤镜主体的圆形腔体的后端腔壁上设有与相机镜头匹配连接的连接结构，而且所述滤镜主体的圆形腔体内设有微拍避让腔，所述微拍避让腔的两端分别与镜片和连接结构连接。这样，该镜头滤镜即可安装在一体式镜头相机的镜头前端周向侧壁上使用，大大丰富了一体式镜头相机的拍摄效果，提升了拍摄质量，同时对一体式镜头机相的镜头起到保护作用，也不影响一体式镜头相机进行微拍，而且结构简单，生产加工容易，有利于大批量生产和推广使用。

权利要求

1.一种用于一体式镜头相机的镜头滤镜，其特征在于：包括有环形的滤镜主体(1)，所述滤镜主体(1)的前端设有镜片(2)，所述滤镜主体(1)的圆形腔体的后端腔壁上设有与相机镜头匹配连接的连接结构(3)，而且所述滤镜主体(1)的圆形腔体内设有微拍避让腔(4)，所述微拍避让腔(4)的两端分别与镜片(2)和连接结构(3)连接。

2.根据权利要求1所述用于一体式镜头相机的镜头滤镜，其特征在于：所述微拍避让腔(4)的腔壁表面设有遮光层(5)。

3.根据权利要求2所述用于一体式镜头相机的镜头滤镜，其特征在于：所述遮光层(5)是一层遮光海绵或遮光布，与微拍避让腔(4)的腔壁表面贴合连接。

4.根据权利要求1或2或3所述用于一体式镜头相机的镜头滤镜，其特征在于：所述连接结构(3)是与相机镜头前端周向侧壁上的镜头盖安装外螺纹匹配的内螺纹，或者是与相机镜头前端周向侧壁上的镜头盖安装卡块匹配的卡位。

5.根据权利要求2或3所述用于一体式镜头相机的镜头滤镜，其特征在于：所述镜片(2)设置在滤镜主体(1)的圆形腔体的前端，所述遮光层(5)的前端缘边与镜片(2)连接。

6.根据权利要求5所述用于一体式镜头相机的镜头滤镜，其特征在于：所述镜片(2)与滤镜主体(1)的圆形腔体的前端腔壁粘贴连接一体，或者所述镜片(2)通过压环固定在滤镜主体(1)的圆形腔体的前端。

7.根据权利要求2或3所述用于一体式镜头相机的镜头滤镜，其特征在于：所述滤镜主体(1)的前端设有的镜片(2)共有两片以上，其中一片镜片(2)设置在滤镜主体(1)的圆形腔体的前端，其余的镜片(2)可拆卸地安装在滤镜主体(1)的前端，并位于滤镜主体(1)前端的镜片(2)的前方。

8.根据权利要求7所述用于一体式镜头相机的镜头滤镜，其特征在于：所述滤镜主体(1)的前端设有镜片安装装置，所述其余的镜片(2)间隔平行地安装在镜片安装装置上。

9.根据权利要求7所述用于一体式镜头相机的镜头滤镜，其特征在于：所述镜片(2)至少包括UV镜、ND镜、GND镜和CPL镜中的两种。

10.根据权利要求1或2或3或6或8所述用于一体式镜头相机的镜头滤镜，其特征在于：所述滤镜主体(1)呈圆环形，其周侧表面设有与相机镜头盖匹配的圆环形扣合面(6)。

说明书

技术领域

本实用新型属于摄影器材技术领域，特别涉及一种用于一体式镜头相机的镜头滤镜。

背景技术

一体式镜头相机(如：富士X100)是常用的摄影相机之一，但申请人发现：现有的一体式镜头相机的镜头都是固定相机上，无法安装任何市场上任何一种滤镜，拍摄效果比较单调，难以满足摄影者的要求。

实用新型内容

为解决现有技术中存在的上述问题，本实用新型提供了一种可安装在一体式镜头相机的镜头前端周向侧壁上使用，完全解决了一体式镜头相机无法使用滤镜的问题，大大丰富了一体式镜头相机的拍摄效果，提升了拍摄质量，同时具有镜头保护作用，且结构简单，生产加工容易的镜头滤镜。

为解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术方案：

一种用于一体式镜头相机的镜头滤镜，包括有环形的滤镜主体，所述滤镜主体的前端设有镜片，所述滤镜主体的圆形腔体的后端腔壁上设有与相机镜头匹配连接的连接结构，而且所述滤镜主体的圆形腔体内设有微拍避让腔，所述微拍避让腔的两端分别与镜片和连接结构连接。

进一步地，所述微拍避让腔的腔壁表面设有遮光层。

进一步地，所述遮光层是一层遮光海绵或遮光布，与微拍避让腔的腔壁表面贴合连接。

进一步地，所述连接结构是与相机镜头前端周向侧壁上的镜头盖安装外螺纹匹配的内螺纹，或者是与相机镜头前端周向侧壁上的镜头盖安装卡块匹配的卡位。

进一步地，所述镜片设置在滤镜主体的圆形腔体的前端，所述遮光层的前端缘边与镜片连接。

进一步地，所述镜片与滤镜主体的圆形腔体的前端腔壁粘贴连接一体，或者所述镜片通过压环固定在滤镜主体的圆形腔体的前端。

进一步地，所述滤镜主体的前端设有的镜片共有两片以上，其中一片镜片设置在滤镜主体的圆形腔体的前端，其余的镜片可拆卸地安装在滤镜主体的前端，并位于滤镜主体前端的镜片的前方。

进一步地，所述滤镜主体的前端设有镜片安装装置，所述其余的镜片间隔平行地安装在镜片安装装置上。

进一步地，所述镜片至少包括UV镜、ND镜、GND镜和CPL镜中的两种。

进一步地，所述滤镜主体呈圆环形，其周侧表面设有与相机镜头盖匹配的圆环形扣合面。

本实用新型主要具有以下有益效果：

本实用新型通过上述技术方案，即可安装在一体式镜头相机的镜头前端周向侧壁上使用，完全解决了一体式镜头相机无法使用滤镜的问题，大大丰富了一体式镜头相机的拍摄效果，提升了拍摄质量，同时对一体式镜头机相的镜头起到保护作用，也不影响一体式镜头相机进行微拍，而且结构简单，生产加工容易，有利于大批量生产和推广使用。

另外，通过微拍避让腔的腔壁表面的遮光层有效遮挡杂散光，避免杂散光直接进入相机镜头，进一步提高拍摄质量。

附图说明

图1是本实用新型所述一种用于一体式镜头相机的镜头滤镜实施例的结构示意图；

图2是本实用新型所述一种用于一体式镜头相机的镜头滤镜实施例的另一结构示意图；

图3是本实用新型所述一种用于一体式镜头相机的镜头滤镜实施例的剖视结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

如图1至图3中所示，本实用新型所述一种用于一体式镜头相机的镜头滤镜，包括有环形的滤镜主体1，所述滤镜主体1的前端设有镜片2，所述滤镜主体1的圆形腔体的后端腔壁上设有与相机镜头匹配连接的连接结构3，而且所述滤镜主体1的圆形腔体内设有微拍避让腔4，所述微拍避让腔4的两端分别与镜片2和连接结构3连接。其中，所述镜片2设置在滤镜主体1的圆形腔体的前端(具体可以为：所述镜片2是UV镜、ND镜、GND镜和CPL镜中的一种，且镜片2可以与滤镜主体1的圆形腔体的前端腔壁粘贴连接一体)，所述连接结构3可以是与相机镜头前端周向侧壁上的镜头盖安装外螺纹匹配的内螺纹。

本实用新型所述镜头滤镜通过连接结构3安装在一体式镜头相机的镜头前端周向侧壁上(具体为：连接结构3匹配的旋拧在相机镜头前端周向侧壁的外螺纹上)即可使用，完全解决了一体式镜头相机无法使用滤镜的问题，大大丰富了一体式镜头相机的拍摄效果，提升了拍摄质量，同时对一体式镜头机相的镜头起到保护作用，也不影响一体式镜头相机进行微拍(当相机在微拍时，其一体式镜头可在微拍避让腔4内伸缩调整)，而且结构简单，生产加工容易，有利于大批量生产和推广使用。

当然，所述镜片2通过压环固定在滤镜主体1的圆形腔体的前端(比如：压环与滤镜主体1的圆形腔体之间螺纹连接，镜片2的周侧缘边压紧在压环与滤镜主体1的圆形腔体的腔壁之间。)，所述连接结构3可以是与相机镜头前端周向侧壁上的镜头盖安装卡块匹配的卡位。

如图3，所述微拍避让腔4的腔壁表面设有遮光层5，所述遮光层5是一层遮光海绵，与微拍避让腔4的腔壁表面贴合连接，而且所述遮光层5的前端缘边与镜片2连接。这样，遮光层5即可有效遮挡杂散光，避免杂散光直接进入相机镜头，进一步提高拍摄质量。

而且，本实用新型所述滤镜主体1呈圆环形，其周侧表面设有圆环形扣合面6，当所述镜头滤镜安装在一体式镜头相机上使用时，相机镜头盖也可匹配地卡扣在镜头滤镜的扣合面6上，可完美地与原装相机镜头盖配合使用，无需额外配置相面镜头盖，使用更灵活、更方便。

此外，本实用新型所述滤镜主体1的前端设有的镜片2可以共有两片以上，其中一片镜片2设置在滤镜主体1的圆形腔体的前端，其余的镜片2可拆卸地安装在滤镜主体1的前端，并位于滤镜主体1前端的镜片2的前方，具体为：所述滤镜主体1的前端设有镜片安装装置，所述其余的镜片2间隔平行地安装在镜片安装装置上(比如：所述镜片安装装置是滤镜主体1的前端左右两侧或上下两侧设有一组以上叠合设置的U形卡槽，所述其余的镜片2一一对应的安装在镜片安装插槽内。)，其中所述镜片2至少包括UV镜、ND镜、GND镜和CPL镜中的两种。这样，本实用新型所述镜头滤镜的滤镜效果更加多样，功能更强大，使用更方便。

以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。

一种用于一体式镜头相机的镜头滤镜专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。