专利摘要

本发明涉及一种基于影光组织的高花效果提花织物设计和织造方法，其特征在于通过不同粗细纬纱的比例配合和全遮盖纬重结构设计实现高花效果和影光渐变效果的结合，主要技术方案步骤是：(1)图案设计，(2)经纬纱线配置设计，(3)显色组织、背衬组织及高花组织设计，(4)全遮盖技术点设计，(5)显色组织库设计，(6)显色组织库组织、背衬组织及高花组织的组合应用。采用该设计方法生产的提花织物兼具影光渐变视觉效果和高花凹凸触觉效果，其中影光渐变最大显色组织数为(R‑J)+(R‑3)(R‑1)，影光级别数≤最大显色组织数。将发明应用于提花织物织造，可以设计生产具有影光变化的高花效果提花织物。

权利要求

1.一种基于影光组织的高花效果提花织物设计和织造方法，其特征在于采用不同粗细纬纱进行比例配置，并设计与之对应的全遮盖结构，织物表面兼具影光渐变视觉效果和凹凸立体高花触觉效果，步骤是(1)图案设计，(2)经纬纱线配置设计，(3)显色组织、背衬组织及高花组织设计，(4)全遮盖技术点设计，(5)显色组织库设计，(6)显色组织库组织、背衬组织及高花组织的组合应用，

(1)图案设计

图案为位图模式数码图案，分高花图层和地部影光渐变图层两个图层，通过两个图层叠加得到完整的数码图案，图案题材不限；

(2)经纬纱线配置设计

采用一组经线和两组纬线的经纬组合方式，两组纬线粗细不同，较细的纬线为甲纬，用于设计地部影光渐变部分；较粗的纬线为乙纬，用于设计高花凸起部分；

(3)显色组织、背衬组织及高花组织设计

①以缎纹原组织为基础设计显色组织A，飞数为S，经、纬组织循环相同为R；

②背衬组织B的组织循环数为显色组织A的整倍数，其经、纬组织循环可相同，也可不同，背衬组织B的经纱循环为P，其飞数计算公式为nS-mP，其中n为甲纬的排列比，n取正整数，S为显色组织A的飞数，m＝0，1，2......，组织A、B沿纬向n∶1排列，固定显色组织A不变，通过组织点位移获得能被显色组织A完全遮盖的背衬组织B；

③高花组织C为纬面缎纹，组织循环数为显色组织A的整数倍；

(4)全遮盖技术点设计

根据背衬组织B的组织特征及甲乙纬纱排列比，对显色组织A进行全遮盖技术点(类似一种加强缎纹)的设定，方法是将甲乙纬n∶1排列，固定乙纬的纬组织点，将乙纬纬组织点相邻两甲纬的相应位置均设置为纬组织点，再根据显色组织的组织点排列规律对甲纬进行排列得到显色组织的全遮盖技术点；

(5)显色组织库设计

在始终保持全遮盖技术点为纬组织点的情况下，对显色组织A设计一组影光组织，称为显色组织库，

当影光组织组织点加强数等于R时，组织库数目最小，为(R-J)个，

当影光组织组织点加强数等于1时，组织库数目最大，为(R-J)+(R-3)(R-1)个，

R表示显色组织A的组织循环数，J为一个组织循环内一根纬纱上的全遮盖技术点数；

(6)显色组织库组织、背衬组织及高花组织的组合应用

根据步骤(1)、(3)、(5)得到的数码图案、显色组织库、背衬组织及高花组织，对数码图案地部影光渐变部分进行去色处理成灰度图像并进行灰度数量的归纳，

①数码图案地部影光渐变部分有一组影光色，将数码图案中地部影光渐变部分进行去色处理成灰度图像，灰度级别要小于或等于最大影光组织数，即不超过最大色彩数(R-J)+(R-3)(R-1)；

②甲纬、乙纬沿纬向n∶1排列，地部影光渐变部分，将灰度图像中黑色到白色与显色组织库中的纬面到经面组织进行一一替换，得到地部影光渐变部分的织物结构图，随后在高花部分，铺入高花组织，得到完整的高花提花织物组合结构图；

③用显色组织库的第一个组织和最后一个组织分别与背衬组织进行组合，当满足显色组织在织物表面渐变显色时，背衬组织背衬不显色，将高花提花织物结构图加上选纬信息，设定经纬密度，选择一组纱线做经线，两组粗细不同的纱线做纬线，即可进行以影光组织为基础的高花效果提花织物织造。

说明书

技术领域

本发明涉及纺织品CAD数码设计技术、电子提花机织造技术、织物组织结构设计技术，具体涉及一种基于影光组织的高花效果提花织物设计和织造方法。

背景技术

高花织物是一种装饰性很强的纺织品，主要特点是织物上的花纹呈浮雕状耸立于织物表面，传统高花织物的形成方法主要有填芯法、回缩法、织造法和后整理法4种，前2种是永久性高花，后2种是暂时性高花，4种高花设计方法是基于传统单一模式且在色彩表现能力及纹样选择上都有一定的限制，而数码提花设计技术的提出和应用，使高花提花织物的结构创新有了新的空间。本发明通过不同粗细纬纱的比例配合和全遮盖纬重结构设计，使提花织物同时具有影光效果和高花效果，生产出的提花织物在表现影光渐变效果的同时又能表现出凹凸立体的高花效果。

发明内容

本发明采用织物原料和结构的差异化设计来实现，实现方法和主要技术内容为：

(1)图案设计

图案为位图模式数码图案，图案题材不限，图案设计采用分层组合设计模式，高花凸起部分为一个图层，地部影光渐变部分为一个图层，两个图层叠加得到完整的数码图案；

(2)经纬纱线配置设计

采用一组经线两组纬线的经纬组合方式，两组纬线粗细不同，较细的纬线为甲纬，用于设计地部影光渐变部分；较粗的纬线为乙纬，用于设计高花凸起部分；

(3)显色组织、背衬组织及高花组织设计

组织设计包括显色组织设计、背衬组织设计和高花组织设计，地部影光渐变部分采用全遮盖重纬结构，由较细的纬纱(即甲纬)在织物表面通过影光组织进行渐变显色，乙纬背衬在织物反面，

①以缎纹原组织为基础设计显色组织A，飞数为S，经、纬组织循环相同为R；

②背衬组织B的组织循环数是显色组织A的整倍数，其经、纬组织循环可相同，也可不同，背衬组织B的经纱循环为P，其飞数计算公式为nS-mP，其中n为甲纬的排列比，n取正整数，S为显色组织A的飞数，m＝0，1，2......，将A、B沿纬向n∶1排列，固定显色组织A不变，通过组织点位移获得能被显色组织A完全遮盖的背衬组织B；

③高花组织C为纬面缎纹，组织循环数是显色组织A的整数倍；

(4)全遮盖技术点设计

根据背衬组织B的组织特征及甲乙纬纱排列比，对显色组织A进行全遮盖技术点(类似一种加强缎纹)的设定，方法是将甲乙纬n∶1排列，固定乙纬的纬组织点，将乙纬纬组织点相邻两甲纬的相应位置均设置为纬组织点，再根据显色组织的组织点排列规律对甲纬进行排列得到显色组织的全遮盖技术点；

(5)显色组织库设计

全遮盖技术点设计后，在规避全遮盖技术点且始终保持全遮盖技术点为纬点的情况下对显色组织A设计一组影光组织，称为显色组织库，

当影光组织组织点加强数等于R时，组织库数目最小，为(R-J)个，

当影光组织组织点加强数等于1时，组织库数目最大，为(R-J)+(R-3)(R-1)个，

R表示显色组织A的组织循环数，J为一个组织循环内一根纬纱上的全遮盖技术点数；

(6)显色组织库组织、背衬组织及高花组织的组合应用

①数码图案地部影光渐变部分有一组影光色，将地部影光渐变部分进行去色处理成灰度图像，灰度级别要小于或等于最大影光组织数，即不超过最大色彩数(R-J)+(R-3)(R-1)，根据组织特征，最大显色能力与显色组织循环成正比；

②确定甲纬、乙纬沿纬向n∶1排列，地部影光渐变部分，将灰度图像中黑色到白色与显色组织库中的纬面到经面组织进行一一替换，得到地部影光渐变部分织物结构图；随后在高花部分，铺入高花组织，得到完整的高花提花织物组合结构图；

(7)检验方法

为了验证地部影光渐变部分组合结构的全遮盖性能，需要对全遮盖技术点的有效性进检验，该方法可以在织物设计和试样前检验全遮盖效果的有效性。

方法是：用显色组织库的第一个组织和最后一个组织分别与背衬组织沿纬向n∶1进行组合，如果满足显色组织显色时，背衬组织背衬不显色，说明显色组织库中的所有组织按上述实施方法与背衬组织组合都满足全遮盖的技术要求，并且在织物表面可以表现影光渐变效果，且不受设计题材的限制；

(8)该发明的生产应用

将织物组合结构图加上选纬信息，设计合适的经纬密度，选择一组纱线做经线，两组粗细不同的纱线做纬线，配合纱线颜色，可以实现黑白渐变影光效果或单彩渐变影光效果的高花提花织物，可直接用于设计生产具有影光变化的高花效果提花织物。

应用该发明所述的技术方案，可开发出具有影光变化的高花效果提花织物，该织物的主要特征是：织物兼具影光渐变视觉效果和凹凸立体高花触觉效果，高花部分由较粗的纬线表现，地部影光渐变部分由较细的纬线表现，采用全遮盖重纬结构，可以实现黑白渐变影光效果或单彩渐变影光效果的高花提花织物，影光效果最大显色数目为(R-J)+(R-3)(R-1)，R表示显色组织A的组织循环数，J为一个组织循环内一根纬纱上的全遮盖技术点数，其显色效果可以通过简单的方法验证，在该发明技术方案约束下，可以设计开发新颖的具有影光变化的高花效果数码提花产品，也能满足设计织物大批量生产的技术要求；在该发明技术方案约束下，不论数码图案题材如何变化，都能用于设计具有影光变化的高花效果提花织物。

附图说明

图1为以影光组织为基础的高花效果提花织物设计流程图；

图2为数码图案高花层、影光层及数码图案的设计；

图3为显色组织A的设计示意图；

图4为背衬组织B的设计示意图；

图5为高花组织C的设计示意图；

图6为全遮盖技术点的设计示意图；

图7为以显色组织A为基础的最大影光组织(一次加强1个点)；

图8为显色组织库中第一个组织与背衬组织B沿纬向4∶1组合的全遮盖结构示意图；

图9为显色组织库中最后一个组织与背衬组织B沿纬向4∶1组合的全遮盖结构示意图；

图10为本申请所形成具有影光变化的高花效果提花织物结构的局部效果；

图11为本申请所形成具有影光变化的高花效果提花织物实物图和细节图。

具体实施方式

以下以8枚纬面缎纹为显色组织，甲乙纬纱排列比4∶1为例，详细说明该发明的实施方法。

1.以影光组织为基础的高花效果提花织物设计过程包括图案设计和组织结构设计两个与传统设计方法不同的主要部分，设计流程图如图1示。

2.图2中，采用分层组合模式进行图案设计，高花部分为一个图层，地部影光渐变部分为一个图层，两个图层叠加得到设计图，设计的数码图案是位图模式，图案题材不限。

3.采用一组经线两组纬线的组合方式，两组纬线粗细不同，较细的纬线为甲纬，用于设计地部影光渐变部分；较粗的纬线为乙纬，用于设计高花部分。

4.图3-6中，选择8枚5飞纬面缎为显色组织，确定组织起始点为左上角(经，纬)＝(1，1)的组织为显色组织A；根据排列比及遮盖关系设计背衬组织B，飞数为nS-mP＝4×5-16＝4，将组织A、B沿纬向4∶1排列，固定显色组织A不变，将组织B的起始点逐点向右位移，使显色组织A能完全遮盖组织B，确定背衬组织B起始点为左上角(经，纬)＝(1，2)的16枚经面组织；选择32枚7飞纬面缎纹为高花组织，确定组织起始点为左上角(经，纬)＝(1，1)的组织为高花组织C。根据A、B的组织特点，对A进行全遮盖技术点的设定：方法是将甲乙纬纱以4∶1进行排列，固定乙纬的纬组织点，将乙纬纬组织点相邻两甲纬的相应位置均设置为纬组织点，根据显色组织A的组织点排列规律，将甲纬的纬点排列成8枚5飞加强缎纹，图6中组织V的纬组织点即为显色组织的全遮盖技术点。

5.图7中，以显色组织A为基础设计一组影光组织，影光组织组织点加强数等于1，加强时使组织点尽可能连续且不破坏全遮盖技术点，图7中加强方向先右后左，全遮盖技术点保持为纬组织点，设计形成一组(R-J)+(R-3)(R-1)＝(8-2)+(8-3)×(8-1)＝6+5×7＝41个影光效果的显色组织库。

6.图8-9中，用显色组织库中的第一个组织和最后一个组织与背衬组织B进行全遮盖组合验证。

7.确定甲纬、乙纬沿纬向4∶1交替排列，地部影光渐变部分，将灰度图像中黑色到白色与显色组织库中的纬面到经面组织进行一一替换，得到地部影光渐变部分的织物结构图；随后在高花部分，铺入高花组织，得到完整的高花提花织物组合结构图，图10是具有影光变化的高花效果提花织物结构的局部效果。

8.将具有影光变化的高花效果提花织物组合结构图加上选纬信息，设定经密和纬密75×55，选择一组纱线做经线，两组粗细不同的纱线做纬线，可以设计和生产具有影光变化的高花效果提花织物，织物表面兼具影光渐变视觉效果和凹凸高花触觉效果，织物实物图及细节图如图11示。

上述实施例用来解释和说明本发明，而不是对本发明的限制，本发明的精神和权利要求的保护范围内，对本发明做出任何修改和改变，都落入本发明的保护范围。

一种基于影光组织的高花效果提花织物设计和织造方法专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。