专利摘要

本实用新型公开了一种用于半导体元件加工的清洗架，包括清洗架本体，所述清洗架本体前侧靠近底部处开设有开口，所述清洗架本体前侧设有与开口相匹配的开关门，所述开关门的左侧设有若干个合页，通过设置喷洒机构，通过齿条板、横杆、第一锥形齿轮、第二锥形齿轮、转动轴、主动齿轮、半齿轮和转动杆这些部件的相互配合对半导体元件进行往复清洗，增强了清洗效果，提高了工作效率，通过设置夹持机构，通过移动板、固定板、竖杆、弹簧、拉环、螺纹杆、螺纹套、活动板、C形板和直杆这些部件的相互配合对半导体清洗时进行夹持，提高了夹持的稳定性，避免夹持不稳定导致半导体元件脱落，造成半导体元件损坏。

权利要求

1.一种用于半导体元件加工的清洗架，包括清洗架本体(1)，其特征在于：所述清洗架本体(1)前侧靠近底部处开设有开口，所述清洗架本体(1)前侧设有与开口相匹配的开关门，所述开关门的左侧设有若干个合页，所述开关门通过若干个合页与清洗架本体(1)活动连接，且所述开关门前侧靠近右侧处固定连接有把手，所述清洗架本体(1)的底部靠近四角处均固定连接有支撑腿(2)，所述清洗架本体(1)的底部靠近中间位置处插接有阀门(3)，所述清洗架本体(1)的顶部靠近中间位置处固定连接有水箱(4)，所述水箱(4)的顶部插接有进水口，所述水箱(4)的右侧靠近底部处插接有软管(6)，所述软管(6)的外侧固定连接有水泵(5)，所述清洗架本体(1)的顶部靠近右侧处和清洗架本体(1)的右侧靠近顶部处均固定连接有安装板，所述软管(6)远离水箱(4)的一端贯穿相邻安装板和清洗架本体(1)的右侧壁，并固定连接有第一喷头，所述清洗架本体(1)的左侧靠近中间位置处固定连接有支撑板(20)，所述支撑板(20)的顶部固定连接有驱动电机(9)，所述驱动电机(9)的动力输出轴外侧套设有双槽轮(10)，所述清洗架本体(1)的左侧靠近底部处固定连接有风箱(22)，所述风箱(22)的顶部开设有若干个进风口，所述风箱(22)的顶部和支撑板(20)的底部均开设有第一通孔，所述风箱(22)内腔左侧中间位置处固定连接有第一轴承，所述第一轴承的内腔插接有转轴(25)，所述转轴(25)的外侧靠近中间位置处套设有第二单槽轮(23)，所述第二单槽轮(23)与双槽轮(10)之间设有第二皮带(21)，所述第二皮带(21)穿过相邻第一通孔内腔，所述双槽轮(10)与第二单槽轮(23)之间通过第二皮带(21)传动连接，所述转轴(25)的外侧靠近右端处固定连接有若干个扇叶，所述风箱(22)的底部靠近右侧处插接有L形管(24)，所述L形管(24)远离风箱(22)的一端贯穿清洗架本体(1)左侧壁，并固定连接有第二喷头，所述清洗架本体(1)内腔左右两侧靠近顶部处固定连接有限位板(7)，所述限位板(7)的顶部设有喷洒机构，所述清洗架本体(1)内腔靠近底部处设有夹持机构。

2.如权利要求1所述的一种用于半导体元件加工的清洗架，其特征在于：所述喷洒机构包括齿条板(8)，所述齿条板(8)位于限位板(7)的前侧，所述齿条板(8)的底部与第一喷头的顶部固定连接，所述齿条板(8)的后侧固定连接有第一滑块，所述限位板(7)的前侧开设有第一滑槽，所述第一滑块活动连接在第一滑槽的内腔，所述清洗架本体(1)内腔前后两侧均固定连接有两个第二轴承，若干个相邻所述第二轴承的内腔共同插接有转动轴(16)和转动杆(19)，所述转动轴(16)和转动杆(19)的外侧靠近中间位置处分别套设有主动齿轮(17)和半齿轮(18)，所述主动齿轮(17)和半齿轮(18)的底部均与齿条板(8)的顶部相互啮合，所述转动轴(16)的外侧靠近前端处套设有第二锥形齿轮(15)。

3.如权利要求2所述的一种用于半导体元件加工的清洗架，其特征在于：所述第二锥形齿轮(15)的左侧啮合有第一锥形齿轮(14)，所述第一锥形齿轮(14)左侧圆心处固定连接有横杆(13)，所述清洗架本体(1)内腔左侧靠近顶部处固定连接有第三轴承，所述横杆(13)的左端贯穿第三轴承的内腔，并固连接有第一单槽轮(12)。

4.如权利要求3所述的一种用于半导体元件加工的清洗架，其特征在于：所述第一单槽轮(12)与双槽轮(10)之间设有第一皮带(11)，所述第一单槽轮(12)与双槽轮(10)之间通过第一皮带(11)传动连接。

5.如权利要求1所述的一种用于半导体元件加工的清洗架，其特征在于：所述夹持机构包括两个C形板(35)，两个所述C形板(35)均位于清洗架本体(1)内腔靠近底部处，两个所述C形板(35)相远离的一侧均固定连接有直杆(36)，所述清洗架本体(1)内腔左右两侧靠近底部处均固定连接有第四轴承，位于左侧所述直杆(36)插接在相邻第四轴承的内腔，位于右侧所述直杆(36)贯穿相邻第四轴承的内腔，并固定连接有第一手摇轮，两个所述C形板(35)的顶部均固定连接有螺纹套(33)。

6.如权利要求5所述的一种用于半导体元件加工的清洗架，其特征在于：两个所述螺纹套(33)的内腔均活动连接有螺纹杆(32)，两个所述螺纹杆(32)的顶端均固定连接有第二手摇轮，两个所述C形板(35)相对的一侧均开设有第二滑槽，两个所述第二滑槽的内腔均活动连接有第二滑块，相邻所述第二滑块相对的一侧均固定连接有活动板(34)，两个所述活动板(34)的顶部均固定连接有第五轴承，两个所述螺纹杆(32)的底端均插接在相邻第五轴承的内腔。

7.如权利要求5所述的一种用于半导体元件加工的清洗架，其特征在于：位于右侧所述直杆(36)外侧靠近右端处套设有从动齿轮(26)，所述清洗架本体(1)右侧靠近底部处固定连接有固定板(28)，所述固定板(28)的顶部开设有第二通孔，所述固定板(28)的顶部靠近中间位置处固定连接有两个弹簧(30)，两个所述弹簧(30)的顶端共同固定连接有拉环(31)，所述拉环(31)的底部中间位置处固定连接有竖杆(29)，所述竖杆(29)的底端固定连接有移动板(27)，所述移动板(27)的底部固定连接有若干个齿块，若干个所述齿块与从动齿轮(26)之间相互啮合设置。

一种用于半导体元件加工的清洗架专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。