专利摘要

本发明公开了一种本发明公开了一种可见光双向吸收体结构。该吸收体结构制备步骤如下：(1)利用纳米加工技术在基底材料上制备二维纳米阵列单元，纳米结构单元周期为100‑200 nm，纳米结构单元底部宽度与周期的比值小于0.4，纳米结构单元的高度与单元底部宽度的比值大于1.5；(2)在二维纳米结构单元上蒸镀或溅射一层厚度为5‑20nm的金属层；(3)在上述金属层上蒸镀或溅射一层厚度为5‑20 nm的介质层。本发明实现了可见光的双向近完美吸收，具有结构简单、材料消耗少、广角的特性，在光电探测器、及隐身伪装等领域具有广泛的应用前景。

专利附图

一种可见光双向吸收体结构专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。