专利转让平台_买专利_卖专利_中国高校专利技术交易-买卖发明专利上知查网

全部分类
全部分类
基于ZnO纳米棒/CHNHPbI/MoO结构的自驱动光电探测器及其制备方法

基于ZnO纳米棒/CHNHPbI/MoO结构的自驱动光电探测器及其制备方法

IPC分类号 : H01L31/101,H01L31/0296,H01L31/18,B82Y30/00

申请号
CN201510585551.3
可选规格
  • 专利类型: 发明专利
  • 法律状态: 有权
  • 申请日: 2015-09-15
  • 公开号: CN105304747A
  • 公开日: 2016-02-03
  • 主分类号: H01L31/101
  • 专利权人: 湖北大学

专利摘要

本发明提出了一种FTO/ZnO纳米棒/CH3NH3PbI3/MoO3/Au结构的自驱动光电探测器及其制备方法,其具体结构为FTO层,ZnO纳米棒电子传输层,也是空穴阻挡层,CH3NH3PbI3为钙钛矿吸光层,半导体氧化物MoO3为空穴传输层,也是电子阻挡层,金属电极是由Au膜组成。采用旋涂、水浴、两步法合成、蒸镀等方法制备。本发明利用了ZnO纳米棒/CH3NH3PbI3形成的有机无机杂化异质结结构及以半导体氧化物MoO3为空穴传输层,使本发明具有较高的响应度和探测器灵敏度,响应率和探测率都分别高达24.3A/W和3.56×1014cmHz1/2/W,同时有一定的自驱动能力,不需要外部偏压来驱动,有利于节约能源。其各项性能远远超过目前所报道的Si基探测器,同时还可以实现近紫外和可见红外的双重探测。本发明操作步骤简单,实验成本低廉,具有较好的应用前景。

权利要求

1.一种基于ZnO纳米棒/CH3NH3PbI3结构的自驱动光电探测器,它主要由透明导电玻璃、电子传输层、钙钛矿吸光层、空穴传输层、金属电极组成,其中ZnO纳米棒作为电子传输层,同时也是空穴阻挡层,通过两步法合成的CH3NH3PbI3是钙钛矿吸光层,半导体氧化物MoO3作为空穴传输层,同时也是电子阻挡层,金属电极是由Au膜组成。

2.一种基于ZnO纳米棒/CH3NH3PbI3结构的自驱动光电探测器的制备方法,其特征在于步骤为:

(1)FTO的预处理:将FTO玻璃片切成面积为2cm×2cm的正方形玻璃样片,依次用去离子水,丙酮,酒精,去离子水进行超声清洗,再用紫外臭氧剂(UV)清洗15min;

(2)ZnO种子层的制备:以甲醇为溶剂,配制5mmol/L的醋酸锌(Zn(CH3COO)2)溶液,搅拌5分钟,然后开始在FTO玻璃样片上旋涂,旋涂的转速为3000r/min,时间为15s,在100℃条件下烘干10分钟,然后转移到马弗炉中退火2h;

(3)ZnO纳米棒的制备:在生长有ZnO种子层FTO玻璃样片上,用水浴法生长ZnO纳米棒,水浴溶液成分为50mmol/L的六水硝酸锌(Zn(NO3)2·6H2O)、30mmol/L的六次甲基四铵(C6H12N4)和0.6g的聚醚酰亚胺(PEI),同时利用氨水将溶液的PH值控制在10.6-10.8范围内,水浴的温度为85℃-90℃,根据不同棒长需求来控制水浴的时间,水浴结束后,先后用去离子水和酒精冲洗,去除表面的杂物,最后转移到马弗炉中退火处理2h;

(4)两步法合成钙钛矿层(CH3NH3PbI3):

第一步是旋涂PbI2,即以DMF(N,N-二甲基甲酰胺)为溶剂,配制1mmol/L的PbI2溶液,在70℃的恒温条件下搅拌4h,然后采用旋涂法将PbI2甩在ZnO纳米棒上,旋涂转速为3000r/min,时间为15s,旋涂好后放置在烘干台上烘烤5min;

第二步是PbI2与碘甲胺反应合成钙钛矿,即以甲胺和氢碘酸、或氢氯酸、或氢溴酸为原料在低温下采用旋转蒸发法制备CH3NH3X晶体,其X为I、Br、Cl类卤簇元素,并在乙醇与乙醚溶剂中进行重结晶。以异丙醇为溶剂,配制0.1g/10ml的CH3NHI溶液,然后将烘干后上面已经旋有PbI2的FTO样片放在溶液中浸泡40s,然后再在烘干台上烘烤10min;

(5)制备空穴传输层:采用蒸镀的方法,将半导体氧化物MoO3镀到钙钛矿层上面,蒸镀时保持10-4的真空度,蒸镀的速率控制在 根据需要镀不同厚度的MoO3

(6)对电极的制备:以Au为电极材料,采用蒸镀的方法,在空穴传输层上蒸镀一层Au,蒸镀的速率控制在 蒸镀的Au的厚度为40nm;

至此,即可制作成一个完整光电探测器。

3.根据权利要求1或2所述的一种基于ZnO纳米棒/CH3NH3PbI3结构的自驱动光电探测器,其特征在于所述的ZnO薄膜的厚度为100-150nm;所述的ZnO纳米棒长度为1μm-1.5μm;所述的MoO3层厚度为5-20nm。

4.根据权利要求1或2或3所述的一种基于ZnO纳米棒/CH3NH3PbI3结构的自驱动光电探测器,其特征在于所述的ZnO薄膜的厚度为120nm;所述的ZnO纳米棒长度为1μm;所述的MoO3层厚度为12nm。

说明书

【技术领域】

本发明涉及半导体纳米材料以及自驱动光电探测器技术领域,尤其是涉及将ZnO纳米棒和钙钛矿材料结合起来形成异质结以制作高性能光电探测器。

【背景技术】

氧化锌(ZnO)是一种短波长、宽带隙的光电材料,其结晶温度较低、易刻蚀、加工方便,且具有很高的化学稳定性和耐高温性质,来源丰富,使得其在发光二极管、激光器、紫外探测器等领域有着非常广泛的应用。尤其是在1996年Tang等人在室温下实现了ZnO的微晶光泵浦紫外激光发射[1],随后曹慧等人在同样条件下也观测到了ZnO多晶粉末薄膜的自谐振腔随机紫外激光发射的现象[2],与此同时,《Nature》和《Science》杂志也相继刊登了类似的成果并对其高度评价。[3,4]近年来,基于ZnO纳米结构的发光和探测已受到越来越多的关注。[5-11]

最近,有机无机杂化钙钛矿材料在光伏电池上的应用发展非常迅速,其光伏电池的效率已达到了20%以上。[12-13]钙钛矿材料具有长的电荷载流子寿命和扩散长度,因而在合成的薄膜中载流子复合率非常低。同时,钙钛矿材料在300-800nm的光谱范围内具有很强捕获光的能力,特别是在500nm左右,它对光的吸收达到了90%以上。此外,钙钛矿类的材料能带内的缺陷密度非常低,因而基于钙钛矿材料的二极管将会有非常低的饱和电流。[14]这些优点说明了钙钛矿材料将是应用于探测器的理想材料。最近,YangYang课题组就以钙钛矿半导体材料制作探测器,他们的探测器结构为ITO/PEDOT:PSS/CH3NH3PbI3-xClx/PCBM/PFN/Al,得到的探测器性能优异,其探测度高达41014cmHz1/2/W。[15]

【参考文献】

[1]P.Yu,Z.K.Tang,G.K.L.Wong,etal.SolidStateCommum.,1997,103,459.

[2]H.Cao,Y.G.Zhao,H.C.Ong,etal.Appl.Phys.Lett.,1998,73,3656.

[3]R.F.Service,Science,1997,276,895.

[4]M.Shim,P.Guyot-Sionnest,Nature,2000,407,981.

[5]C.Soci,A.Zhang,B.Xiang,S.A.Dayeh,D.P.R.Aplin,J.Park,X.Y.Bao,Y.H.Lo,andD.Wang*,NanoLett.,2007,7,1003.

[6]D.Guo,C.Shan,S.Qu&D.Shen,Sci.REP-UK.,2014,12,07469.

[7]H.Zhou,P.Gui,Q.Yu,J.Mei,H.WangandG.Fang,J.Mater.Chem.C,2015,3,990.

[8]X.Liu,L.Gu,Q.Zhang,J.Wu,Y.Long&Z.Fan,Nat.Commun.,2014,5,4007,DOI:10.1038/ncomms5007.

[9]C.Tian,D.Jiang,*B.Li,J.Lin,Y.Zhao,W.Yuan,J.Zhao,Q.Liang,S.Gao,J.Hou,andJ.Qin,ACSAppl.Mater.Interfaces,2014,dx.doi.org/10.1021/am405292p.

[10]J.Hwang,M.Lai,H.Chen,andM.Kao,IEEEPHOTONICSTECHNOLOGYLETTERS,2014,26,1023.

[11]M.Ghusoon,A.Muneer,andW.Mohammed,IEEE,2015,ISBN:978-1-4799-5680-7/15,212.

[12]W.Nie,H.Tsai,R.Asadpour,J.-C.Blancon,A.J.Neukirch,G.Gupta,J.J.Crochet,M.Chhowalla,S.Tretiak,M.A.Alam,H.-L.Wang,A.D.Mohite,Science,2015,347,522.

[13]NationalRenewableEnergyLaboratory.BestResearch-CellEfficiencies,2015;www.nrel.gov/ncpv/images/efficiency_chart.jpg.

[14]W.-J.Yin,T.Shi&Y.Yan,Adv.Mater.,2014,26,4653.

[15]L.Dou*,Y.(Micheal)Yang*,J.You*,Z.Hong,W.-H.Chang,G.Li&Y.Yang,Nat.Commun.,2014,5,5404,DOI:10.1038.

【发明内容】

基于上述技术背景,本发明提供一种FTO/ZnO纳米棒/CH3NH3PbI3/MoO3/Au有机无机杂化结构的自驱动光电探测器及其制备方法,该方法操作步骤简单,实验成本低廉,且所制备的ZnO纳米棒/CH3NH3PbI3杂化结构的整体结构清晰,ZnO纳米棒均匀,而且长度可控。此外,我们制作的探测器具有较高的响应度和探测灵敏度,远远超过目前所报道的Si基探测器,同时还可以实现近紫外和可见红外的双重探测。

本发明是这样实现的。它主要由透明导电玻璃、电子传输层、钙钛矿吸光层、空穴传输层、金属电极组成,其中电子传输层由在ZnO种子层上生成的ZnO纳米棒构成,同时也是空穴阻挡层,钙钛矿吸光层是通过两步法合成的CH3NH3PbI3构成,空穴传输层是由半导体氧化物MoO3构成,同时也是电子阻挡层,金属电极是由Au膜组成。

本发明的具体制备流程和工艺如下:

(1)FTO的预处理:将FTO玻璃片切成面积为2cm*2cm的正方形玻璃样片,依次用去离子水,丙酮,酒精进行超声清洗,再用紫外臭氧剂(UV)清洗15min;

(2)ZnO种子层的制备:以甲醇为溶剂,配制5mmol/L的醋酸锌(Zn(CH3COO)2)溶液,搅拌5分钟,然后开始在FTO玻璃样片上旋涂,旋涂的转速为3000r/min,时间为15s,在100℃条件下烘干10分钟,然后转移到马弗炉中退火2h。

(3)ZnO纳米棒的制备:在生长有ZnO种子层FTO玻璃样片上,用水浴法生长ZnO纳米棒,水浴溶液成分为50mmol/L的六水硝酸锌(Zn(NO3)2·6H2O)、30mmol/L的六次甲基四铵(C6H12N4)和0.6g的PEI(聚醚酰亚胺),同时利用氨水将溶液的PH值控制在10.6-10.8范围内,水浴的温度为85℃-90℃,根据不同棒长需求来控制水浴的时间。水浴结束后,先后用去离子水和酒精冲洗,去除表面的杂物,最后转移到马弗炉中退火处理2h。

(4)两步法合成钙钛矿层(CH3NH3PbI3):第一步是旋涂PbI2,即以DMF(N,N-二甲基甲酰胺)为溶剂,配制1mmol/L(0.462g)的PbI2溶液,在70℃的恒温条件下搅拌4h,然后采用旋涂法将PbI2甩在ZnO纳米棒上,旋涂转速为3000r/min,时间为15s,旋涂好后放置在烘干台上烘烤5min;第二步是PbI2与碘甲胺反应合成钙钛矿,即以甲胺和氢碘酸、或氢氯酸、或氢溴酸为原料在低温下采用旋转蒸发法制备CH3NH3X(X为I、Br、Cl等卤素)晶体,并在乙醇与乙醚溶剂中进行重结晶。以异丙醇为溶剂,配制0.1g/10ml的CH3NHI溶液,然后将烘干后FTO样片(上面已经旋有PbI2)放在溶液中浸泡40s,然后再在烘干台上烘烤10min;

(5)制备空穴传输层:采用蒸镀的方法,将半导体氧化物MoO3镀到钙钛矿层上面,蒸镀时保持10-4的真空度,蒸镀的速率控制在 蒸镀的厚度为5--20nm,其中以蒸镀厚度为12nm效果最好。

(6)对电极的制备:以Au为电极材料,采用蒸镀的方法,在空穴传输层上蒸镀一层Au,蒸镀的速率控制在 蒸镀的Au的厚度为40nm,即可制作成一个完整光电探测器。

所述的ZnO薄膜的厚度为100---150nm,其中以120nm为佳;

所述的ZnO纳米棒长度为0.5—2μm,其中以1μm为佳;

所述的MoO3层厚度为5---20nm,其中以12n为佳;

将所制备得到的ZnO纳米棒和CH3NH3PbI3分别进行了X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)表征分析。X射线衍射分析使用的仪器是D8Advance,测定条件是0.02°/步扫描。扫描电子显微镜的测定电压是在20KV的条件下进行的。将组装好的光电探测器测试其I-V特性曲线,光电响应曲线和响应的快慢。这些测试分析结果分别列于附图中。

本发明是将优异的ZnO纳米结构和钙钛矿材料有机结合起来,同时以MoO3为空穴传输层和电子阻挡层,提出了一种新颖的溶液法制备杂化钙钛矿光电探测器,其结构为FTO/ZnO纳米棒/CH3NH3PbI3/MoO3/Au(如图1所示)。该探测器结构独特,响应率和探测率都分别高达24.3A/W和3.561014cmHz1/2/W,响应速率也比较快,同时不需要外部偏压来驱动,有利于节约能源。此外,我们的探测器可同时实现紫外光和可见光的双重探测,拓宽了其应用范围。在此器件中,我们以MoO3为空穴传输层和电子阻挡层,当MoO3的厚度为12nm时,可以得到性能最优的探测器。ZnO/钙钛矿异质结器件在低成本、低能耗、高性能光电探测器领域有着较好的应用前景,这种独特的结构为制备高性能探测器的发展提供一条新的途径。

本发明的优点和特色之处在于:

(1)本发明中制作的光电探测器结构新颖,首次提出将ZnO纳米棒和钙钛矿材料结合起来制作探测器,而且制作工艺简单,实验原料成本低廉,环境友好,这种独特的结构为制备高性能探测器的发展提供一条新的途径。

(2)本发明中制作的光电探测器性能优异,探测响应度高达24.3A/W,探测灵敏度高达3.56×1014cmHz1/2/W,其性能远高于目前的Si基探测器。

(3)本发明制作的光电探测器不仅可以探测近紫外光,同时对可见红外光具有比较强的探测能力,实现了对近紫外光和可见红外光的双重探测。

附图说明

图1是本发明的探测器结构图。

图2是本发明的ZnO纳米棒和钙钛矿层的SEM图。(a)、(b)分别为ZnO纳米棒的平面图和截面图;(c)、(d)分别为钙钛矿层的平面和截面图。

图3是本发明的探测器的不同MoO3厚度的I-V特性曲线。

图4是12nm厚度MoO3的探测器的明暗I-V特性曲线。

图5是12nm厚度MoO3的探测器的响应度曲线。

图6是12nm厚度MoO3的探测器的探测灵敏度曲线。

其中1---FTO层,2---ZnO纳米棒层,3---CH3NH3PbI3钙钛矿层,4---MoO3层,5---Au膜电极。

具体实施方式

下面通过实施例将能够更好地理解本发明。

实施例1:5nm厚度MoO3的探测器的制备:

(1)FTO的预处理:将FTO玻璃片切成面积为2cm*2cm的正方形玻璃样片,然后依次采用用去离子水,丙酮,酒精,去离子水进行超声清洗20分钟,将玻璃片表面的杂质清洗干净,再用紫外臭氧(UV)清洗15min,除去表面附着的有机物。

(2)ZnO种子层的制备:以甲醇为溶剂,配制5mmol/L的醋酸锌(Zn(CH3COO)2)溶液,搅拌5分钟,然后开始在FTO玻璃样片上旋涂,旋涂的转速为3000r/min,时间为15s,在100℃条件下烘干15分钟,然后转移到马弗炉中退火1h。

(3)ZnO纳米棒的制备:在生长有ZnO种子层FTO玻璃样片上,用水浴法生长ZnO纳米棒,水浴溶液成分为50mmol/L的六水硝酸锌(Zn(NO3)2·6H2O)、30mmol/L的六次甲基四铵(C6H12N4)和0.6g的PEI(聚醚酰亚胺),同时利用氨水将溶液的PH值控制在10.6-10.8范围内,水浴的温度为85℃-90℃,根据不同棒长需求来控制水浴的时间。水浴结束后,先后用去离子水和酒精冲洗,去除表面的杂物,最后将其放入马弗炉中退火2h。

(4)两步法合成钙钛矿层(CH3NH3PbI3):第一步是旋涂PbI2,即以DMF(N,N-二甲基甲酰胺)为溶剂,配制1mmol/L(0.462g)的PbI2溶液,在70℃的恒温条件下搅拌4h,然后采用旋涂法将PbI2甩在PCBM层上,旋涂转速为3000r/min,时间为15s,旋涂好后放置在烘干台上烘烤5min;第二步是PbI2与碘甲胺反应合成钙钛矿,即以甲胺和氢碘酸、或氢氯酸、或氢溴酸为原料在低温下采用旋转蒸发法制备CH3NH3X(X为I、Br、Cl等卤素)晶体,并在乙醇与乙醚溶剂中进行重结晶。以异丙醇为溶剂,配制0.1g/10ml的CH3NHI溶液,然后将烘干后FTO样片(上面已经旋有PbI2)的放在溶液中浸泡40s,然后再在烘干台上烘烤10min;

(5)制备空穴传输层:采用蒸镀的方法,将半导体氧化物MoO3镀到钙钛矿层上面,蒸镀时保持10-4的真空度,蒸镀的速率控制在 蒸镀的厚度为5nm。

(6)对电极的制备:以Au为电极材料,采用蒸镀的方法,蒸镀的速率控制在 蒸镀的Au的厚度为40nm,即可制作成一个完整光电探测器。

将所制备得到的ZnO纳米棒和CH3NH3PbI3分别进行了X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)表征分析。X射线衍射分析使用的仪器是D8Advance,测定条件是0.02°/步扫描。扫描电子显微镜的测定电压是在20KV的条件下进行的。将组装好的光电探测器测试其I-V特性曲线,光电响应曲线和响应的快慢。这些测试分析结果分别列于附图中。

实施例2:8nm厚度MoO3的探测器的制备:

(1)、(2)、(3)、(4)步骤与实施例1相同;

(5)制备空穴传输层:采用蒸镀的方法,将半导体氧化物MoO3镀到钙钛矿层上面,蒸镀时保持10-4的真空度,蒸镀的速率控制在 蒸镀的厚度为8nm。

(6)对电极的制备:以Au为电极材料,采用蒸镀的方法,蒸镀的速率控制在 蒸镀的Au的厚度为40nm,即可制作成一个完整光电探测器。

将所制备得到的ZnO纳米棒和CH3NH3PbI3分别进行了X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)表征分析。X射线衍射分析使用的仪器是D8Advance,测定条件是0.02°/步扫描。扫描电子显微镜的测定电压是在20KV的条件下进行的。将组装好的光电探测器测试其I-V特性曲线,光电响应曲线和响应的快慢。这些测试分析结果分别列于附图中。

实施例3:12nm厚度MoO3的探测器的制备:

(1)、(2)、(3)、(4)步骤与实施例1相同;

(5)制备空穴传输层:采用蒸镀的方法,将半导体氧化物MoO3镀到钙钛矿层上面,蒸镀时保持10-4的真空度,蒸镀的速率控制在 蒸镀的厚度为12nm。

(6)对电极的制备:以Au为电极材料,采用蒸镀的方法,蒸镀的速率控制在 蒸镀的Au的厚度为40nm,即可制作成一个完整光电探测器。

将所制备得到的ZnO纳米棒和CH3NH3PbI3分别进行了X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)表征分析。X射线衍射分析使用的仪器是D8Advance,测定条件是0.02°/步扫描。扫描电子显微镜的测定电压是在20KV的条件下进行的。将组装好的光电探测器测试其I-V特性曲线,光电响应曲线和响应的快慢。这些测试分析结果分别列于附图中。

实施例4:16nm厚度MoO3的探测器的制备:

(1)、(2)、(3)、(4)步骤与实施例1相同;

(5)制备空穴传输层:采用蒸镀的方法,将半导体氧化物MoO3镀到钙钛矿层上面,蒸镀时保持10-4的真空度,蒸镀的速率控制在 蒸镀的厚度为16nm。

(6)对电极的制备:以Au为电极材料,采用蒸镀的方法,蒸镀的速率控制在 蒸镀的Au的厚度为40nm,即可制作成一个完整光电探测器。

将所制备得到的ZnO纳米棒和CH3NH3PbI3分别进行了X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)表征分析。X射线衍射分析使用的仪器是D8Advance,测定条件是0.02°/步扫描。扫描电子显微镜的测定电压是在20KV的条件下进行的。将组装好的光电探测器测试其I-V特性曲线,光电响应曲线和响应的快慢。这些测试分析结果分别列于附图中。

实施例5:20nm厚度MoO3的探测器的制备:

(1)、(2)、(3)、(4)步骤与实施例1相同;

(5)制备空穴传输层:采用蒸镀的方法,将半导体氧化物MoO3镀到钙钛矿层上面,蒸镀时保持10-4的真空度,蒸镀的速率控制在 蒸镀的厚度为20nm。

(6)对电极的制备:以Au为电极材料,采用蒸镀的方法,蒸镀的速率控制在 蒸镀的Au的厚度为40nm,即可制作成一个完整光电探测器。

将所制备得到的ZnO纳米棒和CH3NH3PbI3分别进行了X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)表征分析。X射线衍射分析使用的仪器是D8Advance,测定条件是0.02°/步扫描。扫描电子显微镜的测定电压是在20KV的条件下进行的。将组装好的光电探测器测试其I-V特性曲线,光电响应曲线和响应的快慢。这些测试分析结果分别列于附图中。

基于ZnO纳米棒/CHNHPbI/MoO结构的自驱动光电探测器及其制备方法专利购买费用说明

专利买卖交易资料

Q:办理专利转让的流程及所需资料

A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。

1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2:按规定缴纳著录项目变更手续费。

3:同时提交相关证明文件原件。

4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q:专利转让变更,多久能出结果

A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。

动态评分

0.0

没有评分数据
没有评价数据
×

打开微信,点击底部的“发现”

使用“扫一扫”即可将网页分享至朋友圈

×
复制
用户中心
我的足迹
我的收藏

您的购物车还是空的,您可以

  • 微信公众号

    微信公众号
在线留言
返回顶部