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申请号
专利名称
CN201710257013.0
一种用于增强光刻分辨率的离轴照明结构和光刻系统
CN201410328696.0
一种大面积数字光刻光学系统
CN201710257554.3
一种焦点探测侧面式光刻焦面位置的检测装置及方法
CN202110238502.8
一种DMD光刻机中灰度图像数据存储方法
CN201880004942.3
一种全息光栅光刻系统及其干涉光路自准直的调节方法
CN201811581256.0
一种条纹锁定式全息干涉光刻系统及条纹锁定方法
CN201710288631.1
具有荧光效应的碳纳米点光刻胶及其成像方法
CN202011243536.8
一种PDMS微流控芯片加工中套刻工艺的对准操作流程
CN201610283114.0
一种低成本精密芯片模具光刻掩膜的制备方法
CN201110266266.7
一种用于整片晶圆纳米压印自适应承片台
CN201210050010.7
一种适用于非平整衬底晶圆级纳米压印的装置和方法
CN201110266251.0
一种整片晶圆纳米压印光刻机
CN201210049910.X
用于蓝宝石衬底图形化的纳米压印装置及方法
CN201210050571.7
一种大面积纳米压印光刻的装置和方法
CN201010600735.X
整片晶圆纳米压印的装置和方法
CN201210372124.3
用于非平整衬底晶圆级纳米压印的复合软模具及制造方法
CN201510490978.5
一种掩模板及在同一硅片上加工多种深度结构的方法
CN200710102553.8
防护薄膜组件及防护薄膜组件剥离装置
CN201910193576.7
一种光掩膜版及曝光系统
CN202022053235.0
一种接近接触式光刻真空曝光工件台装置
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