专利摘要
本发明是一种卧式绝热气瓶的瓶体压弯胚料预处理设备，其特征在于：包括伸缩控制操作结构、设置在伸缩控制操作结构一侧的打磨结构、设置在打磨结构一侧的喷丸处理结构以及设置在喷丸处理结构一侧的清洗架结构，所述的伸缩控制操作结构包括控制架、设置在控制架上的物料固定板、设置在物料固定板后端的横向控制缸、设置在控制架下部的转向电机以及设置在横向控制缸下部的联动座，所述的联动座与控制架之间设置转向座。本发明的有益效果：该设备结构简单、使用方便、提高了加工效率、减少人员和场地的开支。
权利要求
1.一种卧式绝热气瓶的瓶体压弯胚料预处理设备，其特征在于：包括伸缩控制操作结构、设置在伸缩控制操作结构一侧的打磨结构、设置在打磨结构一侧的喷丸处理结构以及设置在喷丸处理结构一侧的清洗架结构，所述的伸缩控制操作结构包括控制架、设置在控制架上的物料固定板、设置在物料固定板后端的横向控制缸、设置在控制架下部的转向电机以及设置在横向控制缸下部的联动座，所述的联动座与控制架之间设置转向座。
2.根据权利要求1所述的卧式绝热气瓶的瓶体压弯胚料预处理设备，其特征在于：所述的打磨结构包括设置在控制架一侧的打磨座、设置在打磨座中的磨头结构，所述的磨头结构包括中部磨头以及设置在中部磨头外侧的一组侧向磨头。
3.根据权利要求1或2所述的卧式绝热气瓶的瓶体压弯胚料预处理设备，其特征在于：所述的喷丸处理结构包括连接打磨座一侧的喷丸辊道、设置在喷丸辊道上部的喷丸仓体。
4.根据权利要求1所述的卧式绝热气瓶的瓶体压弯胚料预处理设备，其特征在于：所述的清洗架结构包括与喷丸处理结构连接引道架体、设置在引道架体后端的清洗框架。
说明书
技术领域
本发明涉及一种预处理设备，尤其是涉及一种卧式绝热气瓶的瓶体压弯胚料预处理设备。
背景技术
目前，卧式绝热气瓶的瓶体压弯胚料预处理一般都是人工处理、这样效率低下、并且需要的设备较多，也占用场地。
发明内容
本发明的目的是提供一种卧式绝热气瓶的瓶体压弯胚料预处理设备，解决卧式绝热气瓶的瓶体压弯胚料一次性处理的问题。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种卧式绝热气瓶的瓶体压弯胚料预处理设备，其特征在于：包括伸缩控制操作结构、设置在伸缩控制操作结构一侧的打磨结构、设置在打磨结构一侧的喷丸处理结构以及设置在喷丸处理结构一侧的清洗架结构，所述的伸缩控制操作结构包括控制架、设置在控制架上的物料固定板、设置在物料固定板后端的横向控制缸、设置在控制架下部的转向电机以及设置在横向控制缸下部的联动座，所述的联动座与控制架之间设置转向座。
所述的打磨结构包括设置在控制架一侧的打磨座、设置在打磨座中的磨头结构，所述的磨头结构包括中部磨头以及设置在中部磨头外侧的一组侧向磨头。
所述的喷丸处理结构包括连接打磨座一侧的喷丸辊道、设置在喷丸辊道上部的喷丸仓体。
所述的清洗架结构包括与喷丸处理结构连接引道架体、设置在引道架体后端的清洗框架。
本发明的有益效果：该设备结构简单、使用方便、提高了加工效率、减少人员和场地的开支。
以下将结合附图和实施例，对本发明进行较为详细的说明。
附图说明
图1为本发明的构造示意图。
具体实施方式
实施例1，如图1所示，一种卧式绝热气瓶的瓶体压弯胚料预处理设备，其特征在于：包括伸缩控制操作结构、设置在伸缩控制操作结构一侧的打磨结构、设置在打磨结构一侧的喷丸处理结构以及设置在喷丸处理结构一侧的清洗架结构，所述的伸缩控制操作结构包括控制架1、设置在控制架上的物料固定板2、设置在物料固定板后端的横向控制缸3、设置在控制架下部的转向电机4以及设置在横向控制缸下部的联动座5，所述的联动座与控制架之间设置转向座6。
所述的打磨结构包括设置在控制架一侧的打磨座7、设置在打磨座中的磨头结构，所述的磨头结构包括中部磨头8以及设置在中部磨头外侧的一组侧向磨头9。
所述的喷丸处理结构包括连接打磨座一侧的喷丸辊道10、设置在喷丸辊道上部的喷丸仓体11。
所述的清洗架结构包括与喷丸处理结构连接引道架体12、设置在引道架体后端的清洗框架13。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，凡依本发明权利要求范围所做的均等变化，皆应属本发明权利要求的涵盖范围。
一种卧式绝热气瓶的瓶体压弯胚料预处理设备专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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