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一种精确喷砂雕刻的背景墙制作设备

一种精确喷砂雕刻的背景墙制作设备

IPC分类号 : B24C1/04I,B24C9/00I

申请号
CN201911162615.3
可选规格
  • 专利类型: 发明专利
  • 法律状态: 有权
  • 申请日: 2019-11-25
  • 公开号: CN110815053B
  • 公开日: 2020-02-21
  • 主分类号: B24C1/04
  • 专利权人: 杭州床邢科技有限公司

专利摘要

本发明涉及图文制作中的背景墙制作技术领域,且公开了一种精确喷砂雕刻的背景墙制作设备,包括壳体,所述壳体的底部活动连接有螺杆,螺杆的两侧均活动连接有调节杆,调节杆的内部固定连接有抽吸通道,抽吸通道远离调节杆的一侧固定连接有送料通道,所述螺杆的底部活动连接有雕刻箱,雕刻箱的内部固定连接有导向槽,导向槽的表面固定连接有送气杆。通过将壳体放置在待雕刻喷砂的瓷砖表面,启动驱动部件使螺杆旋转带动打磨球进行工作,打磨球会被反向推动并使气压杆向上挤压环形膜,调节杆被推动弯曲会使送料通道靠近打磨球与瓷砖接触的部位,从而达到了喷砂定位准确且喷砂随雕刻移动而移动的效果。

权利要求

1.一种精确喷砂雕刻的背景墙制作设备,包括壳体(1),其特征在于:所述壳体(1)的底部活动连接有螺杆(2),螺杆(2)的两侧均活动连接有调节杆(3),调节杆(3)的内部固定连接有抽吸通道(4),抽吸通道(4)远离调节杆(3)的一侧固定连接有送料通道(5);

所述螺杆(2)的底部活动连接有雕刻箱(6),雕刻箱(6)的内部固定连接有导向槽(7),导向槽(7)的表面固定连接有送气杆(8),送气杆(8)远离导向槽(7)的一侧固定连接有气囊(9),雕刻箱(6)的底部活动连接有打磨球(10)。

2.根据权利要求1所述的一种精确喷砂雕刻的背景墙制作设备,其特征在于:所述螺杆(2)远离调节杆(3)的一侧活动连接有弹簧杆(11)。

3.根据权利要求2所述的一种精确喷砂雕刻的背景墙制作设备,其特征在于:所述弹簧杆(11)的表面套接有环形膜(12)。

4.根据权利要求1所述的一种精确喷砂雕刻的背景墙制作设备,其特征在于:所述导向槽(7)的内部活动连接有气压杆(13)。

5.根据权利要求1所述的一种精确喷砂雕刻的背景墙制作设备,其特征在于:所述调节杆(3)与壳体(1)的连接处活动连接有挡持件(14)。

6.根据权利要求1所述的一种精确喷砂雕刻的背景墙制作设备,其特征在于:所述抽吸通道(4)与送料通道(5)的连接处固定连接有分流管(15)。

7.根据权利要求1所述的一种精确喷砂雕刻的背景墙制作设备,其特征在于:所述调节杆(3)为弯曲状。

8.根据权利要求1所述的一种精确喷砂雕刻的背景墙制作设备,其特征在于:所述螺杆(2)为双螺杆结构。

说明书

技术领域

本发明涉及图文制作中的背景墙制作技术领域,具体为一种精确喷砂雕刻的背景墙制作设备。

背景技术

背景墙,是一种装饰于家庭客厅电视、沙发、玄关、卧室墙等的家庭装修艺术,其具有吸音、隔音、吸波等功能;对于背景墙的制作,不同材料的背景墙具有不同的制作工艺。

对于瓷砖背景墙的制作,常采用雕刻-喷砂-彩印等工艺,其中雕刻是在瓷砖上先把图案的大概线条雕刻出来,然后用喷砂机将图案多于的部分打磨掉,使瓷砖表面形成浮雕立体感的效果。

现有的雕刻喷砂设备虽然能够制作想要的效果,但雕刻与喷砂是分布进行的,且雕刻完之后进行喷砂不利于找寻到制作的位置,导致雕刻喷砂的部位有所偏差影响制作效果;此外,现有的雕刻喷砂的工作环境多为开放式,其工作产生的粉尘碎屑会对人体造成伤害,因此一种精确喷砂雕刻的背景墙制作设备应运而生。

发明内容

为实现上述喷砂定位准确且能够精确喷砂、形成循环气流吸收粉尘杂质的目的,本发明提供如下技术方案:一种精确喷砂雕刻的背景墙制作设备,包括壳体,所述壳体的底部活动连接有螺杆,螺杆的两侧均活动连接有调节杆,调节杆的内部固定连接有抽吸通道,抽吸通道远离调节杆的一侧固定连接有送料通道,所述螺杆的底部活动连接有雕刻箱,雕刻箱的内部固定连接有导向槽,导向槽的表面固定连接有送气杆,送气杆远离导向槽的一侧固定连接有气囊,雕刻箱的底部活动连接有打磨球。

本发明的有益效果是:

1.通过将壳体放置在待雕刻喷砂的瓷砖表面,启动驱动部件使螺杆旋转带动打磨球进行工作,打磨球会被反向推动并使气压杆向上挤压环形膜,送料通道靠近打磨球与瓷砖接触的部位,从而达到了喷砂定位准确且喷砂随雕刻移动而移动的效果。

2.通过上述调节杆被打磨球推动移动的同时,调节杆弯曲并与气囊接触,气囊被挤压产生气体,并产生抽吸气体,此抽吸力表现在抽吸通道表面,可将此前被吹起的碎屑与粉尘收集回来,在壳体的底部形成循环气流层,从而达到了形成循环气流吸收粉尘杂质的效果。

优选的,所述螺杆远离调节杆的一侧活动连接有弹簧杆,弹簧杆起到增大调节杆移动范围的左右。

优选的,所述弹簧杆的表面套接有环形膜,环形膜被拉伸时会产生抽吸气体,环形膜被挤压时会吹出气体。

优选的,所述导向槽的内部活动连接有气压杆,气压杆起到在雕刻初期,将抽吸通道与送料通道开口打开的作用。

优选的,所述调节杆与壳体的连接处活动连接有挡持件,挡持件具有一定的弹性,起到防止壳体内部的砂件流出的作用。

优选的,所述抽吸通道与送料通道的连接处固定连接有分流管,分流管起到将抽吸通道抽吸的杂质与送料通道送出的砂件分离的作用。

优选的,所述调节杆为弯曲状,便于夹持气囊。

优选的,所述螺杆为双螺杆结构,增大调节杆的移动范围。

附图说明

图1为本发明壳体结构主视剖视图;

图2为本发明环形膜结构示意图;

图3为本发明调节杆结构移动后示意图;

图4为本发明气囊结构示意图;

图5为图4中A处局部放大图;

图6为本发明调节杆结构未移动示意图;

图7为本发明导向槽结构示意图。

图中:1-壳体、2-螺杆、3-调节杆、4-抽吸通道、5-送料通道、6-雕刻箱、7-导向槽、8-送气杆、9-气囊、10-打磨球、11-弹簧杆、12-环形膜、13-气压杆、14-挡持件、15-分流管。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

请参阅图1-7,一种精确喷砂雕刻的背景墙制作设备,包括壳体1,壳体1的内部放置有喷砂所使用的砂件,壳体1的底部活动连接有螺杆2,螺杆2为双螺杆结构,增大调节杆3的移动范围,螺杆2的两侧均活动连接有调节杆3,调节杆3与壳体1的连接处活动连接有挡持件14,挡持件14具有一定的弹性,起到防止壳体1内部的砂件流出的作用。

螺杆2远离调节杆3的一侧活动连接有弹簧杆11,弹簧杆11被拉伸时,即拉伸环形膜12,环形膜12受到拉伸产生与气囊9相反的作用,并产生抽吸气体,此抽吸力表现在抽吸通道4表面,弹簧杆11起到增大调节杆3移动范围的左右,弹簧杆11的表面套接有环形膜12,环形膜12被拉伸时会产生抽吸气体,环形膜12被挤压时会吹出气体,调节杆3的内部固定连接有抽吸通道4,抽吸通道4远离调节杆3的一侧固定连接有送料通道5,抽吸通道4与送料通道5的连接处固定连接有分流管15,分流管15起到将抽吸通道4抽吸的杂质与送料通道5送出的砂件分离的作用,螺杆2的底部活动连接有雕刻箱6,雕刻箱6的内部固定连接有导向槽7,导向槽7的内部活动连接有气压杆13,气压杆13起到在雕刻初期,将抽吸通道4与送料通道5开口打开的作用。

导向槽7的表面固定连接有送气杆8,送气杆8远离导向槽7的一侧固定连接有气囊9,调节杆3为弯曲状,便于夹持气囊9,调节杆3弯曲并与气囊9接触,气囊9被挤压产生气体,气体经导向槽7从打磨球10表面喷出,将打磨球10打磨部位产生的碎屑吹离瓷砖表面;雕刻箱6的底部活动连接有打磨球10,当调节杆3被推动弯曲会使送料通道5靠近打磨球10与瓷砖接触的部位;将壳体1放置在待雕刻喷砂的瓷砖表面,启动驱动部件使螺杆2旋转带动打磨球10进行工作,当打磨球10与瓷砖表面接触后,打磨球10会被反向推动并使气压杆13向上挤压环形膜12,此处环形膜12被挤压会吹出气体,利用此气体可将抽吸通道4表面与送料通道5表面的杂质吹掉,防止堵塞,且打磨球10与瓷砖接触产生的振动会被环形膜12吸收;由于气流具有流动性且易受外力影响,当两股气流被外力带动导向时,会形成循环气流。

在使用时,当打磨球10与瓷砖表面接触并进行工作时候,调节杆3会被推动变成如图3所示的状态,起到喷砂定位准确且喷砂随雕刻移动而移动的作用;通过上述调节杆3被打磨球10推动移动的同时,调节杆3移动的同时会拉伸弹簧杆11,可将此前被吹起的碎屑与粉尘收集回来,气囊9被挤压产生的吹力与环形膜12被拉伸产生的抽吸力,在壳体1的底部形成循环气流层,起到形成循环气流吸收粉尘杂质的作用。

以上,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

一种精确喷砂雕刻的背景墙制作设备专利购买费用说明

专利买卖交易资料

Q:办理专利转让的流程及所需资料

A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。

1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2:按规定缴纳著录项目变更手续费。

3:同时提交相关证明文件原件。

4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q:专利转让变更,多久能出结果

A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。

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