IPC分类号 : C08F299/02,C08G77/60,C04B35/58,C04B35/56
专利摘要
本发明涉及一种光敏感性Zr‑B‑Si‑C陶瓷前驱体及其原位制备方法。所述方法为：将甲基乙烯基二氯硅烷和硼烷二甲硫醚混合均匀，然后加入金属钠进行脱氯，得到甲基乙烯基硼硅烷；将氯甲基三氯硅烷、甲基氯甲基二氯硅烷和二氯二茂锆混合均匀，然后加入金属镁进行第一保温反应，再加入还原剂进行第二保温反应，得到聚锆碳硅烷；将甲基乙烯基硼硅烷和聚锆碳硅烷混合均匀，得到乙烯基Zr‑B‑Si‑C烷；将乙烯基Zr‑B‑Si‑C烷与巯基丙酸酯混合均匀，然后加入光引发剂引发聚合反应，制得所述陶瓷前驱体。本发明解决了传统光固化体系粘度大、热应力大、结构件力学性能衰减等问题，为光固化3D打印超高温陶瓷结构件提供了优质的原材料。
一种光敏感性Zr-B-Si-C陶瓷前驱体及其原位制备方法专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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