专利摘要

本发明公开了一种隐藏式立体成像薄膜，包括：透明间隔层，其包括第一表面及相背而对设置的第二表面；微图文阵列层，其设置于透明间隔层的第一表面，所述微图文阵列层由多个微图文单元组成；微聚焦元件阵列层，其设置于透明间隔层的第二表面，微聚焦元件阵列层由多个微聚焦元件单元组成；反射层，其位于微聚焦元件阵列层表面；当沿所述透明间隔层表面的法线方向观察时，所述微图文阵列层的图像信息被隐藏，当偏离透明间隔层表面的法线方向观察时，能够观察到微图文阵列层的立体图像信息。其具有隐藏信息的效果，防伪性能更强，辨识度更高。

专利附图

一种隐藏式立体成像薄膜专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。