IPC分类号 : H01L31/0264; H01L31/0336; H01L31/0352; H01L31/18
专利摘要
本发明公开了一种阵列异质结的自组装生长方法,包括如下步骤:配置PSS溶液;将阵列基底置于PSS溶液中浸泡,形成PSS修饰的阵列基底,显负电性;配置聚乙烯亚胺辅助的金属离子前驱体溶液,形成带正电的离子团;将前驱体溶液滴加到PSS修饰的阵列基底上,正负基团的吸附作用将前驱体溶液吸附在阵列表面;热处理即可形成稳定牢固的异质结阵列。本发明首次公开了一种通过PSS修饰显负电性和PEI辅助形成的离子基团显正电性的金属离子前驱体溶液之间的正负吸引作用,将金属离子前驱体溶液与阵列表面相连热处理后形成稳定的异质结的自组装的生长方法,该方法形成的异质结表面均匀,可控性强,为异质结的生长提供了可选择的通用方法。
专利附图
一种阵列异质结的自组装生长方法专利购买费用说明
Q:办理专利转让的流程及所需资料
A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。
1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2:按规定缴纳著录项目变更手续费。
3:同时提交相关证明文件原件。
4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q:专利转让变更,多久能出结果
A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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