专利摘要

本发明属于纳米材料制备领域，尤其涉及一种竖立二硫化钼纳米片的制备方法。本发明提供了一种竖立二硫化钼纳米片的制备方法，所述制备方法为：涂有MoO3粉末的衬底与空白的衬底相对排列后水平放置，惰性气体氛围中，程序性升温至650℃～800℃，恒温加热，硫单质与气态MoO3反应，在所述空白的衬底上淀积，得二硫化钼纳米片。本发明提供的技术方案中，惰性气氛下程序性升温，可使得硫单质与钼源充分接触反应，有足够的反应时间生成MoS2；同时，涂有MoO3粉末的衬底与空白的衬底可多层叠放，实现量产。本发明提供的一种竖立二硫化钼纳米片的制备方法，解决了现有技术中，竖立MoS2纳米片的制备工艺存在着：工艺复杂、难以实现量产以及制备成本高昂的技术缺陷。

专利附图

一种竖立二硫化钼纳米片的制备方法专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。