专利摘要
本发明提出了一种微透镜阵列模具的表面测量方法。通过机床加工系统、反射焦距测量系统和上位机系统实现,其中上位机系统包括机床轨迹代码生成系统、CCD视觉处理系统和误差分析系统。在完成微透镜阵列模具的加工后,机床加工系统按照机床轨迹代码生成系统生成的测量轨迹进行运动,通过反射焦距测量系统对微透镜阵列模具上各个子单元进行焦距测量,并分析其加工误差。该方法可使用在超精密机床上,实现微透镜阵列模具的反射焦距、加工一致性的在位检测,也可确保模具在注塑时的注塑透镜阵列焦距及一致性。
专利附图
一种微透镜阵列模具车削加工中的反射焦距在位检测方法专利购买费用说明
Q:办理专利转让的流程及所需资料
A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。
1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2:按规定缴纳著录项目变更手续费。
3:同时提交相关证明文件原件。
4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q:专利转让变更,多久能出结果
A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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