专利摘要
本申请公开了一种双通道谱域光学相干层析成像方法，包括：相干光束通过第一光路入射至待测样品，经过待测样品内部同一截面反射产生第一反射光束以及第二反射光束；第一反射光束通过第一成像通道至第一分光镜的输入端，第二反射光束通过第二成像通道至第二分光镜的第一输入端，并经过第二分光镜的第一输出端输出至第一分光镜的输入端；从第一分光镜的输出端输出的第一反射光以及第二反射光均入射至第二光路；采集干涉光谱；当待测样品发生形变时，根据干涉光谱分别计算待测样品内部的面内位移和离面位移。经过待测样品内部同一截面同时层析成像，实现同时测量离面位移和面内位移。本申请公开了双通道谱域光学相干层析成像系统，具有上述效果。
专利附图
一种双通道谱域光学相干层析成像方法及装置专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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