专利摘要
本发明涉及一种元件清洁装置及方法，装置位于超净间内，包括：高压喷射组件，位于超净间的回风地板的上方，包括相互连通的离子风枪和高压气瓶；风道，其具有风道入口和风道出口，风道入口与离子风枪位于同一水平面且共轴相向设置，风道出口位于回风地板的下方；至少一个微粒计数器，位于风道内；抽气过滤组件，包括位于风道出口下方的过滤风机箱体，过滤风机箱体具有入风口和出风口，入风口与风道出口连通，出风口则通向超净间的回风层。本发明的元件清洁装置及方法，通过在风道入口设置阻流板，能够避免大范围湍流的产生，减少微尘的扩散；通过设置控制器，可实现整个清洁流程的自动化，提高清洁效率。
权利要求
1.一种元件清洁装置，位于超净间内，其特征在于，包括：
高压喷射组件，位于所述超净间的回风地板的上方，包括相互连通的离子风枪和高压气瓶；
风道，其具有风道入口和风道出口，所述风道入口与所述离子风枪位于同一水平面且共轴相向设置，所述风道出口位于所述回风地板的下方；所述风道包括相互连通的水平段和竖直段；所述风道入口位于水平段上，所述风道出口位于所述竖直段上；所述风道入口处还安装有阻流板，所述阻流板包括插入所述风道入口的轴颈部和直径渐扩的喇叭口；
至少一个微粒计数器，位于所述风道内；
抽气过滤组件，包括位于所述风道出口下方的过滤风机箱体，所述过滤风机箱体具有入风口和出风口，所述入风口与所述风道出口连通，所述出风口则通向所述回风地板的下方。
2.根据权利要求1所述的元件清洁装置，其特征在于，所述过滤风机箱体内具有至少一组上下设置的出气风扇和过滤器。
3.根据权利要求1所述的元件清洁装置，其特征在于，所述水平段和竖直段的连接处的内壁具有呈弯弧状的导流板。
4.根据权利要求1所述的元件清洁装置，其特征在于，所述风道的水平段的内壁上依次设置有静电中和器和粘尘贴。
5.根据权利要求4所述的元件清洁装置，其特征在于，在所述静电中和器与所述风道入口之间、所述风道的竖直段的上端和下端分别安装有所述微粒计数器。
6.根据权利要求5所述的元件清洁装置，其特征在于，在所述风道外侧还安装有气管，该气管与一前级泵连通，所述气管分别与所述微粒计数器的出口连通。
7.根据权利要求6所述的元件清洁装置，其特征在于，所述高压喷射组件还包括移动支架、高压发生器和位置感应器，所述移动支架设置在所述回风地板上，所述离子风枪固定在所述移动支架上，所述高压发生器与所述离子风枪电连接，所述位置感应器固定于所述离子风枪上。
8.根据权利要求7所述的元件清洁装置，其特征在于，还包括控制器，其分别与所述微粒计数器、所述前级泵、所述高压发生器和所述位置感应器电连接。
9.一种元件清洁方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤S1：搭建一种如权利要求8中所述的元件清洁装置，通过移动支架使离子风枪与风道入口在同一水平面且距离小于等于30cm，并使离子风枪的喷口正对风道入口；
步骤S2：根据待清洁元件的结构，设置离子风枪的喷出氮气的风压和风量，并设置位置感应器的感应距离范围；
步骤S3：在控制器中设置各个微粒计数器的计数阈值；
步骤S4：将待清洁元件置于离子风枪与风道入口之间且位于步骤S2中设置的感应距离范围内，控制器控制离子风枪自动开始喷出高压氮气，调整待清洁元件的位置以使得其外表面得到充分清洁；
步骤S5：当各个微粒计数器均达到阈值后，控制器控制离子风枪停止喷气；
步骤S6：将清洁后的元件进行装配或暂存于洁净位置。
一种元件清洁装置及方法专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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