专利摘要

本发明公开了含吡咯并吡咯烷酮构筑单元的荧光共轭高分子、制备方法及应用。利用Sonogashira偶联的方法，合成了主链为吡咯并吡咯烷酮结构的，侧链带不同结构的荧光共轭高分子。在本发明中，由于吡咯并吡咯烷酮作为一个缺电子的体系，与强给电子的阴离子之间可形成分子间的电荷转移，不同阴离子的给电子能力不同，进一步影响共轭聚合物的荧光，从而实现对阴离子的响应检测。将其应用于四氢呋喃溶液体系中对常见阴离子的传感检测，具有响应性检测的效果。经检测，其对OH‑、F‑、Cl‑、Br‑、I‑、AcO‑有较好的响应效果，并可通过肉眼观察聚合物溶液的颜色变化和荧光颜色的变化，方便的实现对阴离子的响应检测。

专利附图

含吡咯并吡咯烷酮构筑单元的荧光共轭高分子、制备方法及应用专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。