专利摘要

本发明公开了一种提高工作效率的基于导轨、滑块的光学元件同轴等高的调节和判断方法，包括下列步骤：（1）调节2个小孔同轴等高；（2）调节激光器使激光束水平；（3）调节透镜与激光束同轴等高；（4）调节物屏、光屏与激光束同轴等高。本发明成本低、精度高、便于实现，能同时满足凸透镜、凹透镜以及胶合镜等光学透镜独立调节同轴等高的需求，还可以实现物屏、像屏等其它平面类光学元件同轴等高的调节和判断，非常适合光学实验和工程技术时采用。

专利附图

提高工作效率的基于导轨、滑块的光学元件同轴等高的调节和判断方法专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。