专利摘要
本实用新型属于单晶叶片铸造应用技术领域，具体公开了用于单晶叶片垂直度定位的校正仪，包括底座、横支撑座、限位凸块、敞开形限位凹槽、定位螺孔、圆盘、若干个限位凸柱、L形校正支架、腰形通槽、锁紧螺钉、若干个校正限位横板和横校正限位凹槽等。本实用新型的用于单晶叶片垂直度定位的校正仪的有益效果在于：其设计结构合理，实现模壳垂直度预先的精准、高效和可靠的校正作业，进而保证后续单晶叶片铸造加热过程中不存在现有的问题，即单晶叶片铸造时完成平行或线性方式加热，加热受热均匀，有效的提高单晶叶片铸造的成品品质、降低成本。
权利要求
1.用于单晶叶片垂直度定位的校正仪，其特征在于：包括底座（1），及设置在底座（1）外壁的横支撑座（2），及设置在底座（1）一面的限位凸块（6），及设置在横支撑座（2）一面内的敞开形限位凹槽（7），及设置在敞开形限位凹槽（7）内的定位螺孔（8），及设置在底座（1）上的圆盘（3），及设置在圆盘（3）一面的若干个限位凸柱（10），及设置在横支撑座（2）上的L形校正支架（4），及设置在L形校正支架（4）一端内的腰形通槽（11），及通过腰形通槽（11）、定位螺孔（8）将横支撑座（2）、L形校正支架（4）紧固的锁紧螺钉（12），及设置在L形校正支架（4）另一端侧壁的若干个校正限位横板（5），及分别设置在若干个校正限位横板（5）一端内的横校正限位凹槽（13）；所述圆盘（3）的一面设置有与限位凸块（6）相配合使用的限位凹槽；所述L形校正支架（4）的一端与敞开形限位凹槽（7）的连接端面设置有限位卡块。
2.根据权利要求1所述的用于单晶叶片垂直度定位的校正仪，其特征在于：所述用于单晶叶片垂直度定位的校正仪，还包括固定设置在限位凸块（6）外壁的旋转轴承（14），其中，圆盘（3）底面的限位凹槽卡入限位凸块（6）、旋转轴承（14），并通过旋转轴承（14）以限位凸块（6）、旋转轴承（14）为旋转中心旋转。
3.根据权利要求2所述的用于单晶叶片垂直度定位的校正仪，其特征在于：所述用于单晶叶片垂直度定位的校正仪，还包括设置在圆盘（3）一面内，且位于若干个限位凸柱（10）对称中心的圆形定位卡孔（9）。
4.根据权利要求3所述的用于单晶叶片垂直度定位的校正仪，其特征在于：所述圆盘（3）的直径尺寸大于底座（1）的直径尺寸，其中，圆盘（3）的直径尺寸为200mm-350mm，底座（1）设置为且不仅限于圆形结构。
5.根据权利要求1所述的用于单晶叶片垂直度定位的校正仪，其特征在于：所述横支撑座（2）设置为且不仅限于条形板式结构。
6.根据权利要求1所述的用于单晶叶片垂直度定位的校正仪，其特征在于：所述若干个限位凸柱（10）的高度尺寸相同，且与圆盘（3）之间可采用拆卸式组装结构。
7.根据权利要求3所述的用于单晶叶片垂直度定位的校正仪，其特征在于：所述底座（1）、横支撑座（2）、限位凸块（6）、敞开形限位凹槽（7）和定位螺孔（8）为一体成型的合金不锈钢制得。
8.根据权利要求3所述的用于单晶叶片垂直度定位的校正仪，其特征在于：所述圆盘（3）、圆形定位卡孔（9）和若干个限位凸柱（10）为一体成型的合金不锈钢制得。
9.根据权利要求3所述的用于单晶叶片垂直度定位的校正仪，其特征在于：所述L形校正支架（4）、腰形通槽（11）、若干个校正限位横板（5）和横校正限位凹槽（13）为一体成型的合金不锈钢制得。
10.根据权利要求9所述的用于单晶叶片垂直度定位的校正仪，其特征在于：所述横校正限位凹槽（13）为且不仅限于横V形结构。
用于单晶叶片垂直度定位的校正仪专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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