专利摘要

本实用新型涉及书法技术领域，具体为基于书写者蘸墨习惯的防漏墨砚台，包括砚台，所述砚台的中部开设容纳池，所述容纳池的内腔底端一体成型的设置毛笔修整体，所述毛笔修整体与容纳池的内侧壁之间形成环形墨池。本实用新型的有益效果是：通过在砚台中设置的毛笔修整体 ，能够有效的改变现有技术下在砚台边缘修整毛笔的问题，避免墨汁的浪费和墨汁污染桌面；通过在砚台边缘采用倾向墨池的内倾斜边缘的边界设计，可以让溅在砚台边缘的墨池流回内部，进一步的防止墨池流出；本实用新型相比现有技术，能够很好的解决漏墨的问题，使砚台外侧和桌面保持整洁。

权利要求

1.基于书写者蘸墨习惯的防漏墨砚台，包括砚台(1)，其特征在于：所述砚台(1)的中部开设容纳池，所述容纳池的内腔底端一体成型的设置毛笔修整体(2)，所述毛笔修整体(2)与容纳池的内侧壁之间形成环形墨池(3)。

2.根据权利要求1所述的基于书写者蘸墨习惯的防漏墨砚台，其特征在于：所述毛笔修整体(2)的上端一侧向上突出设置毛笔修整边条(5)，毛笔修整边条(5)的内侧壁呈倾斜设置为修整面，且毛笔修整边条(5)的修整面与水平面夹角不小于5°。

3.根据权利要求2所述的基于书写者蘸墨习惯的防漏墨砚台，其特征在于：所述毛笔修整体(2)的上端在远离毛笔修整边条(5)的方向上向下倾斜设置倾斜面(4)，且倾斜面(4)与修整面相接触。

4.根据权利要求1所述的基于书写者蘸墨习惯的防漏墨砚台，其特征在于：所述砚台(1)上端内侧向下倾斜设置内倾斜边缘(6)。

5.根据权利要求2所述的基于书写者蘸墨习惯的防漏墨砚台，其特征在于：所述修整面的表面呈磨砂设置。

说明书

技术领域

本实用新型涉及书法技术领域，具体为基于书写者蘸墨习惯的防漏墨砚台。

背景技术

现有的砚台除了常规必有的墨池，往往没有中心“毛笔修整体”或者中心升起的“修整体”高度低于砚台边界。在长期的书写过程中，因毛笔蘸墨后需要在砚台边界修整笔态，调整墨水含量，导致墨水会沿砚台外壁流到桌面上并弄污桌面。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供基于书写者蘸墨习惯的防漏墨砚台，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：基于书写者蘸墨习惯的防漏墨砚台，包括砚台，所述砚台的中部开设容纳池，所述容纳池的内腔底端一体成型的设置毛笔修整体，所述毛笔修整体与容纳池的内侧壁之间形成环形墨池。

优选的，所述毛笔修整体的上端一侧向上突出设置毛笔修整边条，毛笔修整边条的内侧壁呈倾斜设置为修整面，且毛笔修整边条的修整面与水平面夹角不小于5°

优选的，所述毛笔修整体的上端在远离毛笔修整边条的方向上向下倾斜设置倾斜面，且倾斜面与修整面相接触。

优选的，所述砚台上端内侧向下倾斜设置内倾斜边缘。

优选的，所述修整面的表面呈磨砂设置。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、通过在砚台中设置的毛笔修整体，能够有效的改变现有技术下在砚台边缘修整毛笔的问题，避免墨汁的浪费和墨汁污染桌面；

2、通过在砚台边缘采用倾向墨池的内倾斜边缘的边界设计，可以让溅在砚台边缘的墨池流回内部，进一步的防止墨池流出；

3、本实用新型相比现有技术，能够很好的解决漏墨的问题，使砚台外侧和桌面保持整洁。

附图说明

图1为本实用新型的立体图；

图2为本实用新型的俯视图；

图3为本实用新型的正视图；

图4为本实用新型的剖面图；

图5为本实用新型的左视图；

图6为本实用新型的右视图。

图中：砚台1、毛笔修整体2、环形墨池3、倾斜面4、毛笔修整边条5、内倾斜边缘6。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1至图6，本实用新型提供一种技术方案：基于书写者蘸墨习惯的防漏墨砚台，包括砚台1，砚台1的中部开设容纳池，

参阅图1和图4所示，容纳池的内腔底端一体成型的设置毛笔修整体2，参阅图3，毛笔修整体2与容纳池的内侧壁之间形成环形墨池3，设置凸起的毛笔修整体2，进而进行对毛笔修整的步骤，可以避免书写者将墨汁洒落出去。

砚台1上端内侧向下倾斜设置内倾斜边缘6，通过在砚台边缘采用倾向墨池的内倾斜边缘的边界设计，实际使用时，溅射在砚台边缘的墨汁可以实现很好的回收。

毛笔修整体2的上端一侧向上突出设置毛笔修整边条5，毛笔修整边条5的内侧壁呈倾斜设置为修整面，且毛笔修整边条5的修整面与水平面夹角不小于5°，修整面的表面呈磨砂设置，通过毛笔修整边条5的结构设计可以让书写者将毛笔笔尖进行修整，避免再砚台边缘修整，进而防止墨汁洒落。

参阅图3，毛笔修整体2的上端在远离毛笔修整边条5的方向上向下倾斜设置倾斜面4，且倾斜面4与修整面相接触。

本实用新型的设计，砚台1在容纳池中部设置升高的毛笔修整体2，毛笔修整体2周边的环形墨池3容纳墨汁，毛笔修整体2高度适当高于砚台边缘，并有局部上翻，引导书写者用倾斜面4和毛笔修整边条5调整毛笔笔态和含墨量。漏出的墨水则沿毛笔修整体2外侧重新流入墨池。这样就有效地避免了砚台的漏墨及污染桌面的现象。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

基于书写者蘸墨习惯的防漏墨砚台专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。