专利摘要

本发明涉及离子印迹聚合物制备技术领域，尤其涉及一种响应曲面法对大孔介孔离子印迹聚合物的制备工艺优化方法。本发明的目的是以大孔介孔硅基材料为基底，结合RAFT聚合方法，采用响应曲面优化镍表面离子印迹聚合物(Ni(II)‑IIP)的制备工艺，用最少的实验对RAFT试剂S,S’‑二(α,α’‑甲基‑α”‑乙酸)三硫代碳酸酯(BDAAT)的用量、功能单体丙烯酰胺(AM)的用量、反应时间(T)和引发剂偶氮二异丁腈(AIBN)试剂的用量这四个对印迹聚合物合成影响较大的条件进行优化，从而提高了镍离子的动态吸附容量，并应用于动态吸附分离水溶液中的镍离子。

专利附图

一种大孔介孔镍表面离子印迹聚合物的制备方法及应用专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。