专利摘要

本实用新型公开了一种物理化学气相沉积装置，包括第一箱体的内腔设置有沉积箱，所述第一箱体的顶部设置有第二箱体，所述第二箱体的内腔设置有拉杆，所述拉杆的底部设置有挡板，所述拉杆的表面套设有弹簧，所述弹簧的底部与挡板的顶部固定连接，所述挡板的底部设置有棱柱，所述棱柱的底部依次贯穿第二箱体和第一箱体并延伸至第一箱体的内部，所述沉积箱的顶部开设有棱形限位槽，所述棱柱的底部与棱形限位槽的内部活动连接。本实用新型通过第一箱体、沉积箱、第二箱体、拉杆、挡板、弹簧、棱柱和棱形限位槽的设置，使气相沉积装置具有易拆卸的优点，降低了工作人员的劳动强度，同时解决了传统的气相沉积装置难以拆卸的问题。

权利要求

1.一种物理化学气相沉积装置，包括第一箱体(1)，其特征在于：所述第一箱体(1)内腔的两侧均固定连接有第一固定块(2)，所述第一固定块(2)的表面开设有第一卡槽(3)，所述第一卡槽(3)的内部活动连接有第一卡块(4)，所述第一卡块(4)的内侧固定连接有沉积箱(5)，所述第一箱体(1)内腔的底部固定连接有第二固定块(6)，所述第二固定块(6)的表面开设有第二卡槽(7)，所述第二卡槽(7)的内部活动连接有第二卡块(8)，所述第二卡块(8)的顶部与沉积箱(5)的底部固定连接，所述第一箱体(1)的顶部固定连接有第二箱体(9)，所述第二箱体(9)的内腔设置有拉杆(10)，所述拉杆(10)的顶部贯穿第二箱体(9)并延伸至第二箱体(9)的外部，所述拉杆(10)的底部固定连接有挡板(11)，所述拉杆(10)的表面套设有弹簧(12)，所述弹簧(12)的底部与挡板(11)的顶部固定连接，所述挡板(11)的底部固定连接有棱柱(13)，所述棱柱(13)的底部依次贯穿第二箱体(9)和第一箱体(1)并延伸至第一箱体(1)的内部，所述沉积箱(5)的顶部开设有棱形限位槽(14)，所述棱柱(13)的底部与棱形限位槽(14)的内部活动连接。

2.根据权利要求1所述的一种物理化学气相沉积装置，其特征在于：所述第一箱体(1)的左侧固定连接有扶手(15)，所述扶手(15)的表面设置有防滑垫(16)。

3.根据权利要求1所述的一种物理化学气相沉积装置，其特征在于：所述第一箱体(1)的底部固定连接有支架(17)，所述支架(17)的底部活动连接有车轮(18)。

4.根据权利要求1所述的一种物理化学气相沉积装置，其特征在于：所述第一箱体(1)顶部的右侧设置有蒸发源(19)，所述蒸发源(19)的右侧电性连接有控制屏(20)。

5.根据权利要求1所述的一种物理化学气相沉积装置，其特征在于：所述第一箱体(1)的正面通过合页活动连接有箱门(21)。

说明书

技术领域

本实用新型涉及气相沉积设备技术领域，具体为一种物理化学气相沉积装置。

背景技术

气相沉积技术是利用气相中发生的物理、化学过程，在工件表面形成功能性或装饰性的金属、非金属或化合物涂层，气相沉积技术按照成膜机理，可分为化学气相沉积、物理气相沉积和等离子体气相沉积，物理气相沉积技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源--固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术，物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等，发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等，化学气相沉积是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法，化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术，化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料，这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III-V、II-IV、 IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物，而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程精确控制，目前，化学气相淀积已成为无机合成化学的一个新领域。

在对物品表面进行涂层或需要形成具有功能性的薄膜时，需要用到气相沉积装置，传统的气相沉积装置难以对沉积箱进行拆卸，且沉积箱的稳定性差，不利于涂层或者薄膜的形成，降低了气相沉积装置的工作效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种物理化学气相沉积装置，具备易拆卸的优点，解决了传统的气相沉积装置难以拆卸的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种物理化学气相沉积装置，包括第一箱体，所述第一箱体内腔的两侧均固定连接有第一固定块，所述第一固定块的表面开设有第一卡槽，所述第一卡槽的内部活动连接有第一卡块，所述第一卡块的内侧固定连接有沉积箱，所述第一箱体内腔的底部固定连接有第二固定块，所述第二固定块的表面开设有第二卡槽，所述第二卡槽的内部活动连接有第二卡块，所述第二卡块的顶部与沉积箱的底部固定连接，所述第一箱体的顶部固定连接有第二箱体，所述第二箱体的内腔设置有拉杆，所述拉杆的顶部贯穿第二箱体并延伸至第二箱体的外部，所述拉杆的底部固定连接有挡板，所述拉杆的表面套设有弹簧，所述弹簧的底部与挡板的顶部固定连接，所述挡板的底部固定连接有棱柱，所述棱柱的底部依次贯穿第二箱体和第一箱体并延伸至第一箱体的内部，所述沉积箱的顶部开设有棱形限位槽，所述棱柱的底部与棱形限位槽的内部活动连接。

优选的，所述第一箱体的左侧固定连接有扶手，所述扶手的表面设置有防滑垫。

优选的，所述第一箱体的底部固定连接有支架，所述支架的底部活动连接有车轮。

优选的，所述第一箱体顶部的右侧设置有蒸发源，所述蒸发源的右侧电性连接有控制屏。

优选的，所述第一箱体的正面通过合页活动连接有箱门。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

1、本实用新型通过第一箱体、沉积箱、第二箱体、拉杆、挡板、弹簧、棱柱和棱形限位槽的设置，使气相沉积装置具有易拆卸的优点，降低了工作人员的劳动强度，同时解决了传统的气相沉积装置难以拆卸的问题。

2、本实用新型通过第一固定块、第一卡槽、第一卡块、第二固定块、第二卡槽和第二卡块的配合使用，可以对沉积箱进行左右固定，增强沉积箱的稳定性，利于气相沉积装置内涂层或薄膜的形成，通过扶手和防滑垫的配合使用，增大扶手表面的摩擦力，方便工作人员对扶手进行抓取，通过支架和车轮的配合使用，方便工作人员对装置进行移动，降低了工作人员的劳动强度，通过蒸发源的使用，可以对第一箱体内进行加温处理，通过控制屏的使用，方便工作人员对装置进行控制，通过箱门的使用，可以对第一箱体进行密闭处理，对第一箱体内部的零件进行保护。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型结构主视图。

图中：1第一箱体、2第一固定块、3第一卡槽、4第一卡块、5沉积箱、6 第二固定块、7第二卡槽、8第二卡块、9第二箱体、10拉杆、11挡板、12弹簧、13棱柱、14棱形限位槽、15扶手、16防滑垫、17支架、18车轮、19蒸发源、20控制屏、21箱门。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-2，一种物理化学气相沉积装置，包括第一箱体1，第一箱体1 的左侧固定连接有扶手15，扶手15的表面设置有防滑垫16，通过扶手15和防滑垫16的配合使用，增大扶手15表面的摩擦力，方便工作人员对扶手15进行抓取，第一箱体1的底部固定连接有支架17，支架17的底部活动连接有车轮 18，通过支架17和车轮18的配合使用，方便工作人员对装置进行移动，降低了工作人员的劳动强度，第一箱体1顶部的右侧设置有蒸发源19，蒸发源19的右侧电性连接有控制屏20，通过蒸发源19的使用，可以对第一箱体1内进行加温处理，通过控制屏20的使用，方便工作人员对装置进行控制，第一箱体1的正面通过合页活动连接有箱门21，通过箱门21的使用，可以对第一箱体1进行密闭处理，对第一箱体1内部的零件进行保护，第一箱体1内腔的两侧均固定连接有第一固定块2，第一固定块2的表面开设有第一卡槽3，第一卡槽3的内部活动连接有第一卡块4，第一卡块4的内侧固定连接有沉积箱5，第一箱体1 内腔的底部固定连接有第二固定块6，第二固定块6的表面开设有第二卡槽7，第二卡槽7的内部活动连接有第二卡块8，通过第一固定块2、第一卡槽3、第一卡块4、第二固定块6、第二卡槽7和第二卡块8的配合使用，可以对沉积箱 5进行左右固定，增强沉积箱5的稳定性，利于气相沉积装置内涂层或薄膜的形成，第二卡块8的顶部与沉积箱5的底部固定连接，第一箱体1的顶部固定连接有第二箱体9，第二箱体9的内腔设置有拉杆10，拉杆10的顶部贯穿第二箱体9并延伸至第二箱体9的外部，拉杆10的底部固定连接有挡板11，拉杆10的表面套设有弹簧12，弹簧12的底部与挡板11的顶部固定连接，挡板11的底部固定连接有棱柱13，棱柱13的底部依次贯穿第二箱体9和第一箱体1并延伸至第一箱体1的内部，沉积箱5的顶部开设有棱形限位槽14，棱柱13的底部与棱形限位槽14的内部活动连接，通过第一箱体1、沉积箱5、第二箱体9、拉杆 10、挡板11、弹簧12、棱柱13和棱形限位槽14的设置，使气相沉积装置具有易拆卸的优点，降低了工作人员的劳动强度，同时解决了传统的气相沉积装置难以拆卸的问题。

使用时，打开箱门21，拉伸拉杆10，拉杆10的移动带动棱柱13进行移动，随后棱柱13从棱形限位槽14中脱离，此时，将沉积箱5塞入第一箱体1中，随后将拉杆10推入第二箱体9中，同时，棱柱13随即插入棱形限位槽14中，随后关闭箱门21，通过控制屏20对装置进行操作。

综上所述：该物理化学气相沉积装置，通过第一箱体1、沉积箱5、第二箱体9、拉杆10、挡板11、弹簧12、棱柱13和棱形限位槽14的配合使用，解决了传统的气相沉积装置难以拆卸的问题。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

一种物理化学气相沉积装置专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。