专利摘要
本发明提供了一种聚二甲基硅氧烷三维微流道表面疏水结构成型工艺,主要应用于微流控芯片的微液滴操控,解决微管道内壁面流体黏附和两相相融合问题,具体方法为:(1)用UV‑LIGA技术制作带有微流道的聚二甲基硅氧烷微流控芯片;(2)沿流道方向施加拉力于芯片两侧;(3)在发型弹性变形状态的聚二甲基硅氧烷芯片流道中嵌入直径小于微流道宽度的金属丝;(4)激光光束透过聚二甲基硅氧烷材料作用在金属丝表面上;(5)关闭激光器,以一定规律撤去拉力;本发明相对于现有技术而言,所实用的纳秒激光器成本低,制备效率高,疏水面积大小和疏水位置可控,疏水结构为规律的波状皱纹结构,结构尺寸可实现微米‑纳米级调控。
专利附图
一种聚二甲基硅氧烷三维微流道表面疏水结构成型工艺专利购买费用说明
Q:办理专利转让的流程及所需资料
A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。
1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2:按规定缴纳著录项目变更手续费。
3:同时提交相关证明文件原件。
4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q:专利转让变更,多久能出结果
A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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