专利摘要
本发明公开一种基于纳米微粒光学成像的光阱电场变化量标定装置及方法，通过直观光学成像的方法，测量恒定电场作用下的线纳米粒子平衡位置位移量实现标定，避免错误信号的引入，增加差分标定的可信度。本发明的具体标定方法与装置不仅适用于电场量的标定，对于其他如磁力等的标定同样适用。通过本发明力学量的精确标定，可促进真空光阱传感技术的发展应用。同时本发明的标定装置可以帮助使用者进行感知微粒投送过程以及微粒动力学行为如粒子吸附、掉落等的监测。
权利要求
1.一种基于纳米微粒光学成像的光阱电场变化量标定装置，其特征在于，该装置包括第一激光器（1）、第二激光器（2）、真空腔（3）、物镜（4）、电场施加单元（6）、电场量控制单元（7）、分束器（8）、滤波单元（9）、凸透镜（10）、成像仪（11）；
在所述第一激光器（1）的光轴上依次设置所述分束器（8）、所述物镜（4）和电场施加单元（6）；所述真空腔（3）包围所述物镜（4）和电场施加单元（6），为所述纳米微粒提供真空环境；所述电场施加单元（6）外接所述电场量控制单元（7），所述电场施加单元（6）能够产生x,y,z三个方向的平行电场；
所述第二激光器（2）与所述第一激光器（1）的光轴垂直，且两个光轴的交点与所述物镜（4）形成的光学势阱的焦点重合；
所述滤波单元（9）、凸透镜（10）、成像仪（11）依次设置在所述分束器（8）的反射光路上，所述滤波单元（9）能够隔离所述第一激光器（1）出射波长并透射所述第二激光器（2）出射波长。
2.根据权利要求1所述的基于纳米微粒光学成像的光阱电场变化量标定装置，其特征在于，所述成像仪（11）放置在黑箱（12）中，为所述成像仪（11）抑制杂光。
3.根据权利要求1所述的基于纳米微粒光学成像的光阱电场变化量标定装置，其特征在于，所述分束器（8）为BS分束器或双色片。
4.根据权利要求1所述的基于纳米微粒光学成像的光阱电场变化量标定装置，其特征在于，所述滤波单元（9）为隔离器或滤波片。
5.根据权利要求1所述的基于纳米微粒光学成像的光阱电场变化量标定装置，其特征在于，所述电场施加单元（6）为两对平行电极板。
6.一种基于纳米微粒光学成像的光阱电场变化量标定方法，其特征在于，该方法基于权利要求1所述的装置来实现，该方法具体包括如下步骤：
S1：所述第一激光器（1）出射波长为λ
S2：不施加电场，等待微粒冷却后，记录所述成像仪（11）的像面上的散射光分布；
S3：由所述电场量控制单元（7）控制所述电场施加单元（6）为所述纳米微粒（5）施加x方向或y方向的平行电场，分别调节电场量变化，冷却所述纳米微粒（5），记录所述成像仪（11）的像面上的散射光分布；所述x方向为光阱捕获光的偏振方向，所述第一激光器（1）出射光方向为z方向，垂直于x和z的为y方向；
S4：根据点扩散函数反卷积图像处理得到物体原像，再通过高斯图像处理，计算不同电场量作用下的的纳米微粒（5）质心位置变化；
S5：根据所述纳米微粒（5）质心位置变化与电场量变化函数关系，得到x方向或y方向的标定系数，完成标定。
基于纳米微粒光学成像的光阱电场变化量标定装置及方法专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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