专利摘要
本发明公开了一种PDMS微流控芯片加工中套刻工艺的对准操作流程，本发明在光刻之前充分、系统地做好准备工作，光刻时便得心应手，可以快速而顺利完成套刻对准。准备工作完成后，光刻机操作时间可以控制在半小时以内，提高了工作效率，也减少了机器的消耗。使用本发明的技术方案，初学者也能较好地完成高难度的套刻对准。使用本技术方案在普通国产曝光机JKG‑2A进行套刻也可以实现与进口光刻机ABM.Inc.Mask Aligner相同的套刻结果，使用本技术进行微流控加工的套刻对准，对准偏差小于5微米，然而对准精度要求为只要能连通高低通道即可，完全满足微流控芯片加工使用。
专利附图
一种PDMS微流控芯片加工中套刻工艺的对准操作流程专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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