专利摘要

本实用新型涉及了一种液晶电控掩模，包括：第一基板和第二基板，所述第一基板和第二基板相对设置；液晶层，设置于所述第一基板和所述第二基板之间；第一导电层和第二导电层，至少部分透光，所述第一导电层位于所述第一基板和所述液晶层之间，所述第二导电层位于所述第二基板和所述液晶层之间；驱动控制器，与所述第一导电层和所述第二导电层相连接以向所述第一导电层和所述第二导电层之间的液晶层的部分区域提供预设电压，从而使所述液晶层的部分区域导电以呈现掩模图案。本实用新型提供的液晶电控掩模，在实现复杂图案结构的曝光过程中，简化了曝光过程，提高了对准精度，且提高了掩模版的利用率，降低了工艺成本。

权利要求

1.一种液晶电控掩模，其特征在于，包括：

第一基板和第二基板，所述第一基板和第二基板相对设置；

液晶层，设置于所述第一基板和所述第二基板之间；

第一导电层和第二导电层，至少部分透光，所述第一导电层位于所述第一基板和所述液晶层之间，所述第二导电层位于所述第二基板和所述液晶层之间；

驱动控制器，与所述第一导电层和所述第二导电层相连接以向所述第一导电层和所述第二导电层之间的液晶层的部分区域提供预设电压，从而使所述液晶层的部分区域导电以呈现掩模图案。

2.根据权利要求1所述的一种液晶电控掩模，其特征在于，所述第一基板和第二基板的材质与所述液晶电控掩模的曝光波长相配合。

3.根据权利要求1所述的一种液晶电控掩模，其特征在于，所述第一导电层和所述第二导电层均为透明导电层。

4.根据权利要求1所述的一种液晶电控掩模，其特征在于，所述第一导电层和所述第二导电层均设置有多个电极，所述第一导电层和所述第二导电层通过电极与所述驱动控制器相连接。

5.根据权利要求4所述的一种液晶电控掩模，其特征在于，所述第一导电层的电极和所述第二导电层的电极对称设置。

6.根据权利要求1所述的一种液晶电控掩模，其特征在于，所述第一基板和所述第二基板为玻璃基板。

7.根据权利要求6所述的一种液晶电控掩模，其特征在于，所述液晶电控掩模的曝光波长位于紫外波段时，所述第一基板和所述第二基板为石英玻璃基板。

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种液晶电控掩模。

背景技术

掩模版简称掩模，是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。传统掩模版的制造过程涉及曝光、显影、刻蚀等工艺过程，掩模的曝光是用扫描激光束完成的，经过曝光显影后的镀铬玻璃板一般经过湿法酸腐蚀去除暴露的铬层，从而形成掩膜图形。为实现复杂图案结构，往往需要多个掩模版交替曝光，导致过程繁琐，且对准精度极低，且目前常见的传统掩模版在进行复杂图案曝光过程中，利用率极低。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型的目的在于提供一种液晶电控掩模，在实现复杂图案结构的曝光过程中，相比于传统更换掩模版的曝光形式，简化了曝光过程，提高了对准精度，且提高了掩模版的利用率，降低了工艺成本。

为达到上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种液晶电控掩模，包括：第一基板和第二基板，所述第一基板和第二基板相对设置；液晶层，设置于所述第一基板和所述第二基板之间；第一导电层和第二导电层，至少部分透光，所述第一导电层位于所述第一基板和所述液晶层之间，所述第二导电层位于所述第二基板和所述液晶层之间；驱动控制器，与所述第一导电层和所述第二导电层相连接以向所述第一导电层和所述第二导电层之间的液晶层的部分区域提供预设电压，从而使所述液晶层的部分区域导电以呈现掩模图案。

优选地，所述第一基板和第二基板的材质与所述液晶电控掩模的曝光波长相配合。

优选地，所述第一导电层和所述第二导电层均为透明导电层。

优选地，所述第一导电层和所述第二导电层均设置有多个电极，所述第一导电层和所述第二导电层通过电极与所述驱动控制器相连接。

优选地，所述第一导电层的电极和所述第二导电层的电极对称设置。

优选地，所述第一基板和所述第二基板为玻璃基板。

优选地，所述液晶电控掩模的曝光波长位于紫外波段时，所述第一基板和所述第二基板为石英玻璃基板。

本实用新型的有益效果在于：该液晶电控掩模通过在第一基板和第二基板之间设置液晶层，通过电控液晶的方式控制曝光区域，相比于传统掩模版固定区域曝光的形式，简化了曝光流程，提高了对准精度，且提高了掩模版的利用率，降低了工艺成本。

上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。

附图说明

图1为本实用新型的实施例中的液晶电控掩模的结构示意图；

图2为图1中的电控液晶片的结构示意图；

图3为图1中的液晶电控掩模分步曝光的示意图；

其中：

10.液晶电控掩模，20.电控液晶片，30.驱动控制器，21.第一基板，22.第二基板，23.第一导电层，24.第二导电层，25.液晶层。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。

参见图1和图2，本实用新型一较佳实施例所示的液晶电控掩模10，包括电控液晶片20和驱动控制器30，电控液晶片20包括相对设置的分别位于顶层和底层的第一基板21和第二基板22，在第一基板21和第二基板22之间依次设置有第一导电层23、液晶层25和第二导电层24，第一导电层23和第二导电层24至少部分透光，驱动控制器30与第一导电层23和第二导电层24相连接，向第一导电层23和第二导电层24之间的液晶层25的部分区域提供预设电压，从而使液晶层25的部分区域的液晶分子朝特定方向偏转，进而实现液晶层25部分区域的光透。该液晶电控掩模10通过驱动控制器30控制电控液晶片20内液晶分子的偏转方向，实现液晶层25特定区域光透、特定区域光不透以呈现掩模图案，进而使液晶电控掩模10实现掩模功能。该液晶电控掩模10通过电控液晶的方式控制曝光区域，相比于传统掩模版固定区域曝光的形式，简化了曝光流程，提高了对准精度，且提高了掩模版的利用率，降低了工艺成本。

本实施例中，第一基板21和第二基板22的材质与液晶电控掩模10的曝光波长相配合，第一基板21和第二基板22为玻璃基板，当液晶电控掩模10的曝光波长位于紫外波段时，在优选地实施例中，第一基板21和第二基板22为石英玻璃基板，以使液晶电控掩模10的曝光波长的透过率最佳。

本实施例中，第一导电层23和第二导电层24均为透明导电层，从而进一步确保了液晶电控掩模10的曝光波长的透过率，使其透过率最佳。

本实施例中，第一导电层23和第二导电层24均设置有多个电极，第一导电层23和第二导电层24通过电极与驱动控制器30相连接，驱动控制器30通过对部分电极之间的液晶层25的区域提供电压，使液晶层25呈现掩模图案，在优选地实施例中，第一导电层23的电极和第二导电层24的电极对称设置。

参见图3，本实施例提供了一种液晶电控掩模10的可能应用情况。本实施例提供的液晶电控掩模10，通过驱动控制器30对第一导电层23和第二导电层24之间的液晶层25的特定区域提供一定电压，此时液晶层25的特定区域的液晶分子发生旋转，形成透光区，使入射光透过，其余未施加电压区域，依然不透光，为不透光区，驱动控制器30通过对液晶层25的不同区域施加电压，控制曝光区域的分布控制，相比于传统更换掩模的曝光模式，本实用新型简化了工艺步骤，提高了对准精度，且提高了掩模版的利用率，降低了工艺成本。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

一种液晶电控掩模专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。