专利摘要
本发明公开了一种光学镜头及成像设备，该光学镜头沿光轴从物侧到成像面依次包括：具有负光焦度的第一透镜，其物侧面为凸面、像侧面为凹面；光阑；具有正光焦度的第二透镜，其像侧面为凸面；具有正光焦度的第三透镜，其物侧面在近光轴处为凹面且具有至少一个反曲点，其像侧面为凸面；具有负光焦度的第四透镜，其物侧面在近光轴处为凸面，其像侧面在近光轴处为凹面，且第四透镜的物侧面和像侧面均具有至少一个反曲点；其中，第一透镜、第二透镜、第三透镜和第四透镜均为塑胶非球面镜片。该光学镜头能够实现广角镜头的小型化和高像素的均衡，能够有效提升用户的摄像体验。
权利要求
1.一种光学镜头，其特征在于，沿光轴从物侧到成像面依次包括：
具有负光焦度的第一透镜，所述第一透镜的物侧面为凸面，所述第一透镜的像侧面为凹面；
光阑；
具有正光焦度的第二透镜，所述第二透镜的像侧面为凸面；
具有正光焦度的第三透镜，所述第三透镜的物侧面在近光轴处为凹面且具有至少一个反曲点，所述第三透镜的像侧面为凸面；
具有负光焦度的第四透镜，所述第四透镜的物侧面在近光轴处为凸面，所述第四透镜的像侧面在近光轴处为凹面，且所述第四透镜的物侧面和像侧面均具有至少一个反曲点；
其中，所述第一透镜、所述第二透镜、所述第三透镜和所述第四透镜均为塑胶非球面镜片；
所述光学镜头满足以下条件式：1.6<TTL/IH<1.7；
其中，TTL表示所述光学镜头的光学总长，IH表示所述光学镜头的实际半像高。
2.根据权利要求1所述的光学镜头，其特征在于，所述光学镜头满足条件式：0.5<DM1/tan(HFOV) <0.51；
其中，DM1表示所述第一透镜的有效半口径，HFOV表示所述光学镜头的最大半视场角。
3.根据权利要求1所述的光学镜头，其特征在于，所述光学镜头满足条件式：-0.15<f/f1<-0.05；2.65<DM4/DM1<2.75；
其中，f表示所述光学镜头的焦距，f1表示所述第一透镜的焦距，DM1表示所述第一透镜的有效半口径，DM4表示所述第四透镜的有效半口径。
4.根据权利要求1所述的光学镜头，其特征在于，所述光学镜头满足条件式：0.13<(CT1+CT2)/TTL<0.17；
其中，CT1表示所述第一透镜的中心厚度，CT2表示所述第二透镜的中心厚度。
5.根据权利要求1所述的光学镜头，其特征在于，所述光学镜头满足条件式：0.045<CT12/TTL<0.060；1.2< CT23/CT2<1.9；
其中，CT2表示所述第二透镜的中心厚度，CT12表示所述第一透镜与所述第二透镜在光轴上的空气间隔，CT23表示所述第二透镜与所述第三透镜在光轴上的空气间隔。
6.根据权利要求1所述的光学镜头，其特征在于，所述光学镜头满足条件式：7<(R1+R2)/(R1-R2)<13；3.2<R2/tan(θ2)<3.9；
其中，R1表示所述第一透镜的物侧面的曲率半径，R2表示所述第一透镜的像侧面的曲率半径，θ2表示所述第一透镜的像侧面的最大面倾角。
7.根据权利要求1所述的光学镜头，其特征在于，所述光学镜头满足条件式：0.4<f3/f2<3.2；
其中，f2表示所述第二透镜的焦距，f3表示所述第三透镜的焦距。
8.根据权利要求1所述的光学镜头，其特征在于，所述光学镜头满足条件式：-3<R5/f<-1；1.3<f/f3<2.0；
其中，R5表示所述第三透镜的物侧面的曲率半径，f表示所述光学镜头的焦距，f3表示所述第三透镜的焦距。
9.根据权利要求1所述的光学镜头，其特征在于，所述光学镜头满足条件式：0.8<YSAG5/DM31<1.0；
其中，YSAG5表示所述第三透镜的物侧面上的反曲点与光轴的垂直距离，DM31表示所述第三透镜的物侧面的有效半口径。
10.根据权利要求1所述的光学镜头，其特征在于，所述光学镜头满足条件式：0< Nd1-Nd2<0.15；30<V2-V1 <36；
其中，Nd1表示所述第一透镜的折射率，Nd2表示所述第二透镜的折射率，V1表示所述第一透镜的阿贝数，V2表示所述第二透镜的阿贝数。
11.一种成像设备，其特征在于，包括如权利要求1-10任一项所述的光学镜头及成像元件，所述成像元件用于将所述光学镜头形成的光学图像转换为电信号。
光学镜头及成像设备专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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