专利摘要

本实用新型公开了一种可屏蔽中子的狭缝结构，包括编码器一、升降基座、转轴一、升降装置、传动带、固定基座、转轴二、固定柱、电机一、触点开关一、电机二、编码器二、编码器三、触点开关二、电机三、编码器四、屏蔽基座、齿轮轴、触点开关三、移动装置、移动基座、电 机四、齿轮四、转轴三、齿轮一、限位开关一、限位开关二、凸齿一、挡板、编码器五、齿轮二、屏蔽块一、屏蔽板、锥齿轮一、螺纹轴一、屏蔽块二、锥齿轮二、屏蔽块三、锥齿轮三、转轴四、电机五、螺纹轴二、联轴器一、编码器六、狭缝基座、螺纹轴三、齿轮三、电机六、凸齿二、联轴器二、凸齿三、凸齿四、触点开关四、固定座一、固定座二。

权利要求

1.一种可屏蔽中子的狭缝结构，包括编码器一、升降基座、转轴一、升降装置、传动带、固定基座、转轴二、固定柱、电机一、电机二、编码器二、编码器三、电机三、编码器四、屏蔽基座、齿轮轴、移动装置、移动基座、电机四、齿轮四、转轴三、齿轮一、凸齿一、挡板、编码器五、齿轮二、屏蔽块一、屏蔽板、锥齿轮一、螺纹轴一、屏蔽块二、锥齿轮二、屏蔽块三、锥齿轮三、转轴四、电机五、螺纹轴二、联轴器一、编码器六、狭缝基座、螺纹轴三、齿轮三、电机六、凸齿二、联轴器二、凸齿三、凸齿四、固定座一、固定座二，其特征在于，所述屏蔽基座内部安装有编码器五、编码器六、电机五、电机六、两个齿轮轴、狭缝基座、两个锥齿轮一、两个锥齿轮二和锥齿轮三，狭缝基座位于屏蔽基座中部，编码器六和电机五位于屏蔽基座左侧，编码器五和电机六位于屏蔽基座上方，锥齿轮三位于屏蔽基座下方，狭缝基座左右两边是锥齿轮一，锥齿轮一下方是锥齿轮二，所述锥齿轮之间相互啮合，所述狭缝基座内侧左右两边安装有屏蔽块二，狭缝基座内部设有屏蔽板、屏蔽块一和屏蔽块三，所述屏蔽块三固定在屏蔽板上，屏蔽板左右两边设有凸齿二，齿轮轴分别与凸齿和屏蔽块一啮合，所述电机六安装有螺纹轴三，螺纹轴三连接屏蔽板，所述螺纹轴三安装有齿轮三，编码五安装有齿轮二，齿轮二与齿轮三啮合，所述左边的锥齿轮一安装有螺纹轴一，螺纹轴一穿过屏蔽基座连接屏蔽块二，所述右边的锥齿轮一安装有螺纹轴二，螺纹轴二穿过狭缝基座连接屏蔽块二，螺纹轴二安装有联轴器一，螺纹轴二通过联轴器一连接编码器六，所述电机五安装有转轴四，转轴四的端部连接锥齿轮四；

所述移动装置主要包括移动基座、两个转轴一、两个转轴二、八个齿轮四、传动带、四个固定基座、八个固定柱、固定座一、固定座二、屏蔽基座，屏蔽基座位于移动基座中部的位置，固定基座分别位于屏蔽基座内部上方的左右两边和下方的左右两边的位置，固定基座通过固定柱连接屏蔽基座，所述固定座一固定在屏蔽基座内部上下两边，固定座二固定在移动基座左右两边，所述转轴一分别位于屏蔽基座左右两边的位置，转轴一之间通过传动带连接，所述转轴二分别位于屏蔽基座上下两边的位置，转轴二之间通过传动带连接，所述转轴一和转轴二的两边端部分别固定有齿轮四，固定座一上下两边设有凸齿三，固定座二上下两边设有凸齿四，凸齿三和凸齿四分别与齿轮四啮合，所述转轴一和转轴二分别穿过固定基座，所述屏蔽基座内部安装有电机二、电机四、编码器二和编码器四，电机四位于屏蔽基座内部左上方的位置，电机二位于屏蔽基座内部左下方的位置，编码器二位于屏蔽基座右上方的位置，编码器四位于电机二上方的位置，所述编码器四与电机二之间设有联轴器，所述电机二通过传动带连接转轴一，电机四和编码器四分别通过传动带连接转轴二；

所述升降装置主要有两个升降基座、两个转轴三、四个齿轮一、电机一、电机三、编码器一和编码器三，升降基座分别位于移动基座上下两边，所述移动基座内部左右两侧安装有转轴三，并且转轴三穿进升降基座，所述转轴三上下两边分别安装有齿轮一，升降基座内部设有凸齿一，凸齿一与齿轮一啮合，所述升降基座左侧分别安装有编码器一和电机三，左边的转轴三两端分别连接编码器一和电机三，所述升降基座右侧分别安装电机一和编码器三，右边的转轴三两端分别连接电机一和编码器三。

2.根据权利要求1所述的一种可屏蔽中子的狭缝结构，其特征在于，所述屏蔽基座设有触点开关二和触点开关三。

3.根据权利要求1所述的一种可屏蔽中子的狭缝结构，其特征在于，所述固定座一左右两端设有触点开关一。

4.根据权利要求1所述的一种可屏蔽中子的狭缝结构，其特征在于，所述固定座二上下两端设有触点开关四。

5.根据权利要求1所述的一种可屏蔽中子的狭缝结构，其特征在于，所述升降基座固定有两个挡板。

6.根据权利要求1所述的一种可屏蔽中子的狭缝结构，其特征在于，所述移动基座内部上方的左右两边安装有限位开关一。

7.根据权利要求1所述的一种可屏蔽中子的狭缝结构，其特征在于，所述移动基座内部下方的左右两边安装有限位开关二。

说明书

技术领域

本发明涉及中子技术领域，尤其是涉及一种可屏蔽中子的狭缝结构。

背景技术

中子散射已经被证明是用来研究材料微观、磁结构以及微观动力学性质的准确性手段，随着中子散射技术的蓬勃发展，飞行时间技术作为一种重要的方法也得到了越来越多的关注。中子能谱测量对核物理的研究很有意义。例如，测量产生中子核反应的能谱，可以得到核能级的资料。测量非弹性散射中子能谱，则可以直接获得核激发能级的数据。在中子应用领域，中子能谱测量也很重要，例如，设计和实验核反应堆和核武器，需要知道裂变元素的裂变中子能谱，以及动力装置内的中子谱。推广中子源应用时，也涉及需要知道中子源的中子能谱和实验装置内的中子能谱。

如今可屏蔽中子的狭缝结构过于单调，只能调节狭缝的宽度，无法移动狭缝位置，由于中子有入射强度不稳定，造成中子束入射狭缝时，部分过强或过弱的中子束被阻挡，又或者因为狭缝的高度问题影响中子束等，因此获取中子的数据不够完整。

发明内容

本发明为克服上述情况不足，旨在提供一种能解决上述问题的技术方案。

一种可屏蔽中子的狭缝结构，包括编码器一、升降基座、转轴一、升降装置、传动带、固定基座、转轴二、固定柱、电机一、触点开关一、电机二、编码器二、编码器三、触点开关二、电机三、编码器四、屏蔽基座、齿轮轴、触点开关三、移动装置、移动基座、电机四、齿轮四、转轴三、齿轮一、限位开关一、限位开关二、凸齿一、挡板、编码器五、齿轮二、屏蔽块一、屏蔽板、锥齿轮一、螺纹轴一、屏蔽块二、锥齿轮二、屏蔽块三、锥齿轮三、转轴四、电机五、螺纹轴二、联轴器一、编码器六、狭缝基座、螺纹轴三、齿轮三、电机六、凸齿二、联轴器二、凸齿三、凸齿四、触点开关四、固定座一、固定座二，所述屏蔽基座内部安装有编码器五、编码器六、电机五、电机六、两个齿轮轴、狭缝基座、两个锥齿轮一、两个锥齿轮二和锥齿轮三，狭缝基座位于屏蔽基座中部，编码器六和电机五位于屏蔽基座左侧，编码器五和电机六位于屏蔽基座上方，锥齿轮三位于屏蔽基座下方，狭缝基座左右两边是锥齿轮一，锥齿轮一下方是锥齿轮二，所述锥齿轮之间相互啮合，所述狭缝基座内侧左右两边安装有屏蔽块二，狭缝基座内部设有屏蔽板、屏蔽块一和屏蔽块三，所述屏蔽块三固定在屏蔽板上，屏蔽板左右两边设有凸齿二，齿轮轴分别与凸齿和屏蔽块一啮合，所述电机六安装有螺纹轴三，螺纹轴三连接屏蔽板，所述螺纹轴三安装有齿轮三，编码五安装有齿轮二，齿轮二与齿轮三啮合，所述左边的锥齿轮一安装有螺纹轴一，螺纹轴一穿过屏蔽基座连接屏蔽块二，所述右边的锥齿轮一安装有螺纹轴二，螺纹轴二穿过狭缝基座连接屏蔽块二，螺纹轴二安装有联轴器一，螺纹轴二通过联轴器一连接编码器六，所述电机五安装有转轴四，转轴四的端部连接锥齿轮四；

所述移动装置主要包括移动基座、两个转轴一、两个转轴二、八个齿轮四、传动带、四个固定基座、八个固定柱、固定座一、固定座二、屏蔽基座，屏蔽基座位于移动基座中部的位置，固定基座分别位于屏蔽基座内部上方的左右两边和下方的左右两边的位置，固定基座通过固定柱连接屏蔽基座，所述固定座一固定在屏蔽基座内部上下两边，固定座二固定在移动基座左右两边，所述转轴一分别位于屏蔽基座左右两边的位置，转轴一之间通过传动带连接，所述转轴二分别位于屏蔽基座上下两边的位置，转轴二之间通过传动带连接，所述转轴一和转轴二的两边端部分别固定有齿轮四，固定座一上下两边设有凸齿三，固定座二上下两边设有凸齿四，凸齿三和凸齿四分别与齿轮四啮合，所述转轴一和转轴二分别穿过固定基座，所述屏蔽基座内部安装有电机二、电机四、编码器二和编码器四，电机四位于屏蔽基座内部左上方的位置，电机二位于屏蔽基座内部左下方的位置，编码器二位于屏蔽基座右上方的位置，编码器四位于电机二上方的位置，所述编码器四与电机二之间设有联轴器，所述电机二通过传动带连接转轴一，电机四和编码器四分别通过传动带连接转轴二；

所述升降装置主要有两个升降基座、两个转轴三、四个齿轮一、电机一、电机三、编码器一和编码器三，升降基座分别位于移动基座上下两边，所述移动基座内部左右两侧安装有转轴三，并且转轴三穿进升降基座，所述转轴三上下两边分别安装有齿轮一，升降基座内部设有凸齿一，凸齿一与齿轮一啮合，所述升降基座左侧分别安装有编码器一和电机三，左边的转轴三两端分别连接编码器一和电机三，所述升降基座右侧分别安装电机一和编码器三，右边的转轴三两端分别连接电机一和编码器三。

作为本发明进一步的方案：所述屏蔽基座设有触点开关二和触点开关三。

作为本发明进一步的方案：所述固定座一左右两端设有触点开关一。

作为本发明进一步的方案：所述固定座二上下两端设有触点开关四。

作为本发明进一步的方案：所述升降基座固定有两个挡板。

作为本发明进一步的方案：所述移动基座内部上方的左右两边安装有限位开关一。

作为本发明进一步的方案：所述移动基座内部下方的左右两边安装有限位开关二。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：屏蔽块一、屏蔽块二和屏蔽块三可以调节穿过狭缝基座的中子导通量，从而更好观察中子能谱图；移动装置可以调节中子穿过狭缝基座的位置，从而更好准直中子束入射的位置；升降装置可以调节狭缝的高度，从而更好观测中子能谱图的变化。

本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明正视图。

图2是本发明左视图。

图3是本发明狭缝基座的结构示意图。

图4是本发明狭缝基座的左视图。

图中：1、编码器一，2、升降基座，3、转轴一，4、升降装置，5、传动带，6、固定基座，7、转轴二，8、固定柱，9、电机一，10、触点开关一，11、电机二，12、编码器二，13、编码器三，14、触点开关二，15、电机三，16、编码器四，17、屏蔽基座，18、齿轮轴，19、触点开关三，20、移动装置，21、移动基座，22、电机四，23、齿轮四，24、转轴三，25、齿轮一，26、限位开关一，27、限位开关二，28、凸齿一，29、挡板，30、编码器五，31、齿轮二，32、屏蔽块一，33、屏蔽板，34、锥齿轮一，35、螺纹轴一，36、屏蔽块二，37、锥齿轮二，38、屏蔽块三，39、锥齿轮三，41、转轴四，42、电机五，43、螺纹轴二，44、联轴器一，45、编码器六，47、狭缝基座，48、螺纹轴三，49、齿轮三，50、电机六，51、凸齿二，52、联轴器二，53、凸齿三，54、凸齿四，55、触点开关四，56、固定座一，57、固定座二。

具体实施方式

下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1～4，本发明实施例中，一种可屏蔽中子的狭缝结构，包括编码器一1、升降基座2、转轴一3、升降装置4、传动带5、固定基座6、转轴二7、固定柱8、电机一9、触点开关一10、电机二11、编码器二12、编码器三13、触点开关二14、电机三15、编码器四16、屏蔽基座17、齿轮轴18、触点开关三19、移动装置20、移动基座21、电机四22、齿轮四23、转轴三24、齿轮一25、限位开关一26、限位开关二27、凸齿一28、挡板29、编码器五30、齿轮二31、屏蔽块一32、屏蔽板33、锥齿轮一34、螺纹轴一35、屏蔽块二36、锥齿轮二37、屏蔽块三38、锥齿轮三39、转轴四41、电机五42、螺纹轴二43、联轴器一44、编码器六45、狭缝基座47、螺纹轴三48、齿轮三49、电机六50、凸齿二51、联轴器二52、凸齿三53、凸齿四54、触点开关四55、固定座一56、固定座二57，所述屏蔽基座17内部安装有编码器五30、编码器六45、电机五42、电机六50、两个齿轮轴18、狭缝基座47、两个锥齿轮一34、两个锥齿轮二37和锥齿轮三39，狭缝基座47位于屏蔽基座17中部，编码器六45和电机五42位于屏蔽基座17左侧，编码器五30和电机六50位于屏蔽基座17上方，锥齿轮三39位于屏蔽基座17下方，狭缝基座47左右两边是锥齿轮一34，锥齿轮一34下方是锥齿轮二37，所述锥齿轮之间相互啮合，所述狭缝基座47内侧左右两边安装有屏蔽块二36，狭缝基座47内部设有屏蔽板33、屏蔽块一32和屏蔽块三38，屏蔽板33穿过屏蔽块二36，同时屏蔽块一32和屏蔽块三38分别进入屏蔽块二36里面，所述屏蔽基座17设有触点开关三19和触点开关二14，触点开关二14位于锥齿轮三39上方，触点开关三19位于齿轮三49下方，所述屏蔽块三38固定在屏蔽板33上，屏蔽板33左右两边设有凸齿二51，齿轮轴18分别与凸齿和屏蔽块一32啮合，所述电机六50安装有螺纹轴三48，螺纹轴三48连接屏蔽板33，所述螺纹轴三48安装有齿轮三49，编码五安装有齿轮二31，齿轮二31与齿轮三49啮合，所述左边的锥齿轮一34安装有螺纹轴一35，螺纹轴一35穿过屏蔽基座17连接屏蔽块二36，所述右边的锥齿轮一34安装有螺纹轴二43，螺纹轴二43穿过狭缝基座47连接屏蔽块二36，螺纹轴二43安装有联轴器一44，螺纹轴二43通过联轴器一44连接编码器六45，所述电机五42安装有转轴四41，转轴四41的端部连接锥齿轮四23。

所述移动装置20主要包括移动基座21、两个转轴一3、两个转轴二7、八个齿轮四23、传动带5、四个固定基座6、八个固定柱8、固定座一56、固定座二57、屏蔽基座17，屏蔽基座17位于移动基座21中部的位置，固定基座6分别位于屏蔽基座17内部上方的左右两边和下方的左右两边的位置，所述固定座一56固定在屏蔽基座17内部上下两边，固定座二57固定在移动基座21左右两边，并且固定座一56位于固定座二57上方，固定基座6通过固定柱8连接屏蔽基座17，所述转轴一3分别位于屏蔽基座17左右两边的位置，转轴一3之间通过传动带5连接，所述转轴二7分别位于屏蔽基座17上下两边的位置，并且转轴二7位于转轴一3上方，转轴二7之间通过传动带5连接，所述转轴一3和转轴二7的两边端部分别固定有齿轮四23，固定座一56上下两边设有凸齿三53，固定座二57上下两边设有凸齿四54，凸齿三53和凸齿四54分别与齿轮四23啮合，所述固定座一56左右两端设有触点开关一10，固定座二57上下两端设有触点开关四55，所述转轴一3和转轴二7分别穿过固定基座6，同时支撑固定基座6不动，所述屏蔽基座17内部安装有电机二11、电机四22、编码器二12和编码器四16，电机四22位于屏蔽基座17内部左上方的位置，电机二11位于屏蔽基座17内部左下方的位置，编码器二12位于屏蔽基座17右上方的位置，编码器四16位于电机二11上方的位置，所述编码器四16与电机二11之间设有联轴器，所述电机二11通过传动带5连接转轴一3，电机四22和编码器四16分别通过传动带5连接转轴二7。

所述升降装置4主要有两个升降基座2、两个转轴三24、四个齿轮一25、电机一9、电机三15、编码器一1和编码器三13，升降基座2分别位于移动基座21上下两边，所述移动基座21内部左右两侧安装有转轴三24，并且转轴三24穿进升降基座2，所述转轴三24上下两边分别安装有齿轮一25，升降基座2内部设有凸齿一28，凸齿一28与齿轮一25啮合，所述升降基座2左侧分别安装有编码器一1和电机三15，左边的转轴三24两端分别连接编码器一1和电机三15，所述升降基座2右侧分别安装电机一9和编码器三13，右边的转轴三24两端分别连接电机一9和编码器三13，所述升降基座2固定有两个挡板29，挡板29之间垂直对齐，移动基座21内部上方的左右两边安装有限位开关一26，移动基座21内部下方的左右两边安装有限位开关二27，限位开关一26和限位开关二27能与挡板29相互接触。

本发明的工作原理是：中子可以从狭缝基座47上穿过，而屏蔽块一32、屏蔽块二36和屏蔽块三38可以调节穿过狭缝基座47的中子导通量，从而更好观察中子能谱图，同时屏蔽块具备阻挡和吸收中子的能力，当电机五42启动时，带动锥齿轮二37，锥齿轮二37带动其他锥齿轮，两个锥齿轮一34分别带动螺纹轴一35和螺纹轴二43，两个屏蔽块一32分别被螺纹轴一35和螺纹轴二43带动，屏蔽块一32可以调节狭缝的宽度，螺纹轴二43通过联轴器一44带动编码器六45，编码器六45可以测出狭缝的宽度，电机六50通过螺纹轴三48带动屏蔽板33，屏蔽板33带动屏蔽块三38，使屏蔽块三38向上移动，齿轮轴18被屏蔽板33上的凸齿二51带动，从而带动屏蔽块二36，使屏蔽块二36向下移动，屏蔽块二36和屏蔽块三38可以调节狭缝的长度，触点开关二14和触点开关三19可以限制屏蔽板33移动位置，避免屏蔽板33撞击其他结构，螺纹轴三48上的齿轮三49带动齿轮二31上的编码器五30，编码器五30可以测出狭缝的长度，移动装置20可以调节中子穿过狭缝基座47的位置，从而更好准直中子束入射的位置，移动装置20主要由电机二11和电机四22带动，电机二11带动转轴一3上的齿轮四23，同时转轴一3可以推动固定基座6，从而使固定基座6上的屏蔽基座17左右移动，电机二11通过联轴器二52带动编码器四16，编码器四16可以测出屏蔽基座17左右移动的范围，电机四22带动转轴二7上的齿轮，同时转轴二7可以推动固定基座6，从而使屏蔽基座17上下移动，转轴二7通过传动带5带动编码器二12，编码器二12可以测出屏蔽基座17上下移动的范围，触点开关一10和触点开关四55可以限制齿轮移动的位置，避免齿轮超过规定移动范围，升降装置4可以调节狭缝的高度，从而更好观测中子能谱图的变化，当电机一9和电机三15启动时，同时电机一9和电机三15分别带动转轴三24上的齿轮一25，在齿轮一25在升降基座2内部上下移动，转轴三24带动移动基座21，当升降基座2上的挡板29与移动基座21上的限位开关一26或者限位开关二27触碰时，停止动作，避免移动基座21超过规定位置，编码器一1和编码器三13可以测出移动基座21的位置。

对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

一种可屏蔽中子的狭缝结构专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。