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一种空间切片合成图像分析配光曲线的测量系统

一种空间切片合成图像分析配光曲线的测量系统

IPC分类号 : G01M11/02,G01J1/00,G01J1/02

申请号
CN202022053509.6
可选规格
  • 专利类型: 实用新型专利
  • 法律状态: 有权
  • 申请日: 2020-09-17
  • 公开号: 212646049U
  • 公开日: 2021-03-02
  • 主分类号: G01M11/02
  • 专利权人: 南京弘新锐科技有限公司 ; 东南大学江北新区创新研究院

专利摘要

本实用新型公开了一种空间切片合成图像分析配光曲线的测量系统,包括图像合成分析主机、摄像机、灯具固定架以及反射板组;摄像机、灯具固定架以及反射板组均设置于暗室内,且反射板组分布设置在摄像机以及灯具固定架的前侧;摄像机与图像合成分析主机电连接;灯具固定架用于安装待测灯具,且灯具固定架的角度可调节。该测量系统能够对复杂配光、宽配光及组合灯具的配光曲线进行测量与验证,测量快速、直观;利用角度可调节的灯具固定架,能够对待测灯具的角度进行调节,从而满足不同角度的扫描测试;利用图像合成分析主机能够合成图像,可在减小测试空间的情况下获得足够的分析图像,利用空间切片方式简化了计算、提高了测量精度。

权利要求

1.一种空间切片合成图像分析配光曲线的测量系统,其特征在于:包括图像合成分析主机(5)、摄像机(3)、灯具固定架(1)以及反射板组(2);

摄像机(3)、灯具固定架(1)以及反射板组(2)均设置于暗室(6)内,且反射板组(2)分布设置在摄像机(3)以及灯具固定架(1)的前侧;摄像机(3)与图像合成分析主机(5)电连接,用于对反射板组(2)的灯具反射亮度图像进行采集,并由图像合成分析主机(5)对灯具反射亮度图像进行分析处理获得照度值;灯具固定架(1)用于安装待测灯具,且灯具固定架(1)的角度可调节。

2.根据权利要求1所述的测量系统,其特征在于:灯具固定架(1)包括安装板调节架以及灯具安装板(12);灯具安装板(12)用于安装待测灯具;灯具安装板(12)安装在安装板调节架上,由安装板调节架对灯具安装板(12)的俯仰角和水平角进行调节。

3.根据权利要求2所述的测量系统,其特征在于:安装板调节架包括转动支架(11)、固定支架(9)、水平转动轴(7)以及倾角转动轴(13);转动支架(11)通过水平转动轴(7)旋转式安装在固定支架(9)上,且水平转动轴(7)竖向旋转式安装;灯具安装板(12)通过倾角转动轴(13)旋转式安装在转动支架(11)上,且倾角转动轴(13)水平旋转式安装。

4.根据权利要求3所述的测量系统,其特征在于:还包括一个与图像合成分析主机(5)电连接的控制器(4);在固定支架(9)上设置有水平转动驱动电机(8),用于驱动水平转动轴(7)旋转;在转动支架(11)上设置有倾角驱动电机(14),用于驱动倾角转动轴(13)旋转;控制器(4)分别与水平转动驱动电机(8)以及倾角驱动电机(14)电连接。

5.根据权利要求4所述的测量系统,其特征在于:在固定支架(9)上还设置有用于检测水平转动轴(7)旋转角度的水平角角度传感器(10);在转动支架(11)上还设置有用于检测倾角转动轴(13)旋转角度的倾角角度传感器(15);控制器(4)还分别与水平角角度传感器(10)和倾角角度传感器(15)电连接。

6.根据权利要求1所述的测量系统,其特征在于:反射板组(2)由各个竖向设置的漫反射板构成,且各个漫反射板错位设置,使得待测灯具的光线无遮挡。

7.根据权利要求6所述的测量系统,其特征在于:灯具固定架(1)的设置高度为漫反射板高度的一半。

8.根据权利要求6所述的测量系统,其特征在于:摄像机(3)位于灯具固定架(1)上待测灯具中心位置的上方或者下方。

9.根据权利要求6所述的测量系统,其特征在于:各个漫反射板的漫反射面与灯具固定架(1)上的待测灯具相对。

10.根据权利要求6所述的测量系统,其特征在于:各个漫反射板的漫反射面与灯具固定架(1)上的待测灯具之间设置为不同距离。

一种空间切片合成图像分析配光曲线的测量系统专利购买费用说明

专利买卖交易资料

Q:办理专利转让的流程及所需资料

A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。

1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2:按规定缴纳著录项目变更手续费。

3:同时提交相关证明文件原件。

4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q:专利转让变更,多久能出结果

A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。

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