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一种带有蒸发皿组件的实验装置

一种带有蒸发皿组件的实验装置

IPC分类号 : B01L3/00,B01L7/00

申请号
CN202020504498.6
可选规格
  • 专利类型: 实用新型专利
  • 法律状态: 有权
  • 申请日: 2020-04-09
  • 公开号: CN212237338U
  • 公开日: 2020-12-29
  • 主分类号: B01L3/00
  • 专利权人: 德清创赢机械科技有限公司

专利摘要

本实用新型公开了一种带有蒸发皿组件的实验装置,涉及教学技术领域,包括包括底座、立杆、支块,底座水平置于实验台上;还包括电箱,电箱内固定有开关、变压器、整流器、滤波器;电箱内腔、第一横杆内腔、第一环架内腔依次连通;电箱内腔、第二横杆内腔、第二环架内腔依次连通;还包括冷热条,第一半导体与第二半导体顶端通过第一导体锡焊连接;第二半导体与第三半导体底端通过第二导体锡焊连接;冷热条在第一环架与第二环架围成的锥面上等间距阵列分布。制冷端维持蒸发皿碗口处的低温,操作人员可裸手抓取蒸发皿13外边缘取下,省去了坩埚钳夹取的弊端;冷热条温度是从室温开始逐渐改变的,避免了温度骤变引起的炸裂,也就不需要预热操作。

权利要求

1.一种带有蒸发皿组件的实验装置,包括底座(1)、立杆(2)、支块(3),底座(1)水平置于实验台上;立杆(2)通过螺纹连接固定在底座(1)上表面一侧;支块(3)上开有通孔,所述通孔与立杆(2)间隙配合,并能够通过径向螺栓紧固,其特征在于:

还包括电箱(4),所述电箱(4)通过螺钉连接固定在支块(3)背部,电箱内固定有开关(4.1)、变压器(4.2)、整流器(4.3)、滤波器(4.4),所述开关(4.1)、变压器(4.2)、整流器(4.3)、滤波器(4.4)依次通过导线连接;所述电箱(4)侧面中间位置开有通孔,开关(4.1)触点从通孔中伸出;所述电箱(4)侧面底部开有通孔,电源线(5)穿过通孔与开关(4.1)相连;

电箱(4)上部安装有两根第一横杆(6),第一横杆(6)穿过支块(3)与第一环架(8)连接;第一横杆(6)为空心柱状结构,第一环架(8)为空心环状结构,第一环架(8)内部穿有第一环导线(8.1);电箱(4)内腔、第一横杆(6)内腔、第一环架(8)内腔依次连通;电箱(4)下部安装有两根第二横杆(7),第二横杆(7)穿过支块(3)与第二环架(9)连接;第二横杆(7)为空心柱状结构,第二环架(9)为空心环状结构,第二环架(9)内部穿有第二环导线(9.1);电箱(4)内腔、第二横杆(7)内腔、第二环架(9)内腔依次连通;

还包括冷热条(10),所述冷热条(10)包括第一半导体(10.1)、第二半导体(10.2)、第三半导体(10.3),第一半导体(10.1)、第二半导体(10.2)、第三半导体(10.3)从左至右依次排列;第一半导体(10.1)与第二半导体(10.2)顶端通过第一导体(10.4.1)锡焊连接;第二半导体(10.2)与第三半导体(10.3)底端通过第二导体(10.4.2)锡焊连接;第三半导体(10.3)顶端与第三导体(10.4.3)锡焊连接,第三导体(10.4.3)呈S状,第三导体(10.4.3)接点位于冷热条(10)顶端中心位置,且接点与第一螺旋导线(11)连接;第一半导体(10.1)底端与第四导体(10.4.4)锡焊连接,第四导体(10.4.4)呈S状,第四导体(10.4.4)接点位于冷热条(10)底端中心位置;所述冷热条(10)通过填充剂(10.5)填充缝隙并包裹为宽条状;

所述冷热条(10)、第一螺旋导线(11)、第二螺旋导线(12)均有八根,在第一环架(8)与第二环架(9)围成的锥面上等间距阵列分布;第一环架(8)上开有八个通孔,第一螺旋导线(11)穿过通孔与第一环导线(8.1)连接;所述第一环导线(8.1)穿过第一横杆(6)内腔与滤波器(4.4)输出负极连接;第二环架(9)上开有八个通孔,第二螺旋导线(12)穿过通孔与第二环导线(9.1)连接;所述第二环导线(9.1)穿过第二横杆(7)内腔与滤波器(4.4)输出正极连接。

2.根据权利要求1所述的带有蒸发皿组件的实验装置 ,其特征在于:所述第一半导体(10.1)、第三半导体(10.3)均为N型半导体;第二半导体(10.2)为P型半导体。

3.根据权利要求1所述的带有蒸发皿组件的实验装置 ,其特征在于:所述第一导体(10.4.1)、第二导体(10.4.2)、第三导体(10.4.3)、第四导体(10.4.4)均为铜材料。

4.根据权利要求1所述的带有蒸发皿组件的实验装置 ,其特征在于:所述填充剂(10.5)为泡沫陶瓷。

5.根据权利要求1所述的带有蒸发皿组件的实验装置 ,其特征在于:所述第一螺旋导线(11)与第二螺旋导线(12)的绝缘层为聚酰亚胺复合玻璃布。

说明书

技术领域

本实用新型涉及教育技术领域,具体为一种带有蒸发皿组件的实验装置。

背景技术

蒸发皿属于化学教学实验中的常用器皿,现有蒸发皿大多采用石棉网隔离的酒精灯加热,利用升温进行加速蒸发,因此蒸发皿的核心在于升高温度与增大增发面积。而酒精灯加热蒸发皿,需要多次预热以防止炸裂,还需要使用坩埚钳夹取蒸发皿防止烫伤,不仅操作复杂,而且危险系数较高。

实用新型内容

为了克服上述背景技术中蒸发皿防炸裂操作复杂、夹取操作复杂的缺陷,本实用新型提供了一种带有蒸发皿组件的实验装置。

本实用新型解决上述不足之处所采用的技术方案是:

一种带有蒸发皿组件的实验装置,包括底座、立杆、支块,底座水平置于实验台上;立杆通过螺纹连接固定在底座上表面一侧;支块上开有通孔,所述通孔与立杆间隙配合,并能够通过径向螺栓紧固。

还包括电箱,所述电箱通过螺钉连接固定在支块背部,电箱内固定有开关、变压器、整流器、滤波器,所述开关、变压器、整流器、滤波器依次通过导线连接;所述电箱侧面中间位置开有通孔,开关触点从通孔中伸出;所述电箱侧面底部开有通孔,电源线穿过通孔与开关相连。

电箱上部安装有两根第一横杆,第一横杆穿过支块与第一环架连接;第一横杆为空心柱状结构,第一环架为空心环状结构,第一环架内部穿有第一环导线;电箱内腔、第一横杆内腔、第一环架内腔依次连通;电箱下部安装有两根第二横杆,第二横杆穿过支块与第二环架连接;第二横杆为空心柱状结构,第二环架为空心环状结构,第二环架内部穿有第二环导线;电箱内腔、第二横杆内腔、第二环架内腔依次连通。

还包括冷热条,所述冷热条包括第一半导体、第二半导体、第三半导体,第一半导体、第二半导体、第三半导体从左至右依次排列;第一半导体与第二半导体顶端通过第一导体锡焊连接;第二半导体与第三半导体底端通过第二导体锡焊连接;第三半导体顶端与第三导体锡焊连接,第三导体呈S状,第三导体接点位于冷热条顶端中心位置,且接点与第一螺旋导线连接;第一半导体底端与第四导体锡焊连接,第四导体呈S状,第四导体接点位于冷热条底端中心位置;所述冷热条通过填充剂填充缝隙并包裹为宽条状。

所述冷热条、第一螺旋导线、第二螺旋导线均有八根,在第一环架与第二环架围成的锥面上等间距阵列分布;第一环架上开有八个通孔,第一螺旋导线穿过通孔与第一环导线连接;所述第一环导线穿过第一横杆内腔与滤波器输出负极连接;第二环架上开有八个通孔,第二螺旋导线穿过通孔与第二环导线连接;所述第二环导线穿过第二横杆内腔与滤波器输出正极连接。

所述第一半导体、第三半导体均为N型半导体,优选为Bi2Te3—Bi2Se3材料;第二半导体为P型半导体,优选为Bi2Te3—Sb2Te3材料。

所述第一导体、第二导体、第三导体、第四导体均为铜材料。

所述填充剂为泡沫陶瓷。

所述第一螺旋导线与第二螺旋导线的绝缘层为聚酰亚胺复合玻璃布。

本实用新型的有益之处在于:一种带有蒸发皿组件的实验装置,通过电箱将实验室交流电转化为直流电,并将直流电通入冷热条,冷热条上端制冷,下端制热,制热部分用于加热蒸发皿底端与蒸发皿内的溶液,制冷部分用于维持蒸发皿碗口部分的低温,由于制冷制热均为渐变式,不通过预热即可实验;由于碗口可以维持低温,实验后可直接裸手抓取蒸发皿外边缘,取下蒸发皿,省去了用坩埚钳夹取的危险操作。

附图说明

下面结合附图对本申请进一步说明:

图1为本实用新型的整体结构示意图;

图2为第一环架俯视图;

图3为蒸发皿安装示意图;

图4为冷热条主视图;

图5为冷热条结构剖面图;

图6为电箱结构示意图;

图7为电箱电路结构原理框图;

图中:1-底座,2-立杆,3-支块,4-电箱,4.1开关,4.2-变压器,4.3-整流器,4.4-滤波器,5-电源线,6-第一横杆,7-第二横杆,8-第一环架,8.1-第一环导线,9-第二环架,9.1-第二环导线,10-冷热条,10.1-第一半导体,10.2-第二半导体,10.3-第三半导体,10.4.1-第一导体,10.4.2-第二导体,10.4.3-第三导体,10.4.4-第四导体,10.5-填充剂,11-第一螺旋导线,12-第二螺旋导线,13-蒸发皿。

具体实施方式

依据本实用新型的上述结构特点,对本实用新型的实施方式做进一步说明:

参照图1~7,本实施例提供一种带有蒸发皿组件的实验装置,包括底座1、立杆2、支块3,底座1水平置于实验台上;立杆2通过螺纹连接固定在底座1上表面一侧;支块3上开有通孔,所述通孔与立杆2间隙配合,并能够通过径向螺栓紧固,以改变与固定蒸发皿13的高度,此为传统的蒸发皿13的支架结构。

还包括电箱4,所述电箱4通过螺钉连接固定在支块3背部,电箱内固定有开关4.1、变压器4.2、整流器4.3、滤波器4.4,所述开关4.1、变压器4.2、整流器4.3、滤波器4.4依次通过导线连接;所述电箱4侧面中间位置开有通孔,开关4.1触点从通孔中伸出;所述电箱4侧面底部开有通孔,电源线5穿过通孔与开关4.1相连。电箱4的作用为将实验室插座的交流电转化为稳定的直流电。

电箱4上部安装有两根第一横杆6,第一横杆6穿过支块3与第一环架8连接;第一横杆6为空心柱状结构,第一环架8为空心环状结构,第一环架8内部穿有第一环导线8.1;电箱4内腔、第一横杆6内腔、第一环架8内腔依次连通;电箱4下部安装有两根第二横杆7,第二横杆7穿过支块3与第二环架9连接;第二横杆7为空心柱状结构,第二环架9为空心环状结构,第二环架9内部穿有第二环导线9.1;电箱4内腔、第二横杆7内腔、第二环架9内腔依次连通。此结构中第一横杆6、第二横杆7、第一环架8、第二环架9的空心结构用于内部架设导线,形成通路,将电箱4中的直流电输送至冷热条。

还包括冷热条10,所述冷热条10包括第一半导体10.1、第二半导体10.2、第三半导体10.3,第一半导体10.1、第二半导体10.2、第三半导体10.3从左至右依次排列;第一半导体10.1与第二半导体10.2顶端通过第一导体10.4.1锡焊连接;第二半导体10.2与第三半导体10.3底端通过第二导体10.4.2锡焊连接;第三半导体10.3顶端与第三导体10.4.3锡焊连接,第三导体10.4.3呈S状,第三导体10.4.3接点位于冷热条10顶端中心位置,且接点与第一螺旋导线11连接;第一半导体10.1底端与第四导体10.4.4锡焊连接,第四导体10.4.4呈S状,第四导体10.4.4接点位于冷热条10底端中心位置;所述冷热条10通过填充剂10.5填充缝隙并包裹为宽条状。所述冷热条10、第一螺旋导线11、第二螺旋导线12均有八根,在第一环架8与第二环架9围成的锥面上等间距阵列分布;第一环架8上开有八个通孔,第一螺旋导线11穿过通孔与第一环导线8.1连接;所述第一环导线8.1穿过第一横杆6内腔与滤波器4.4输出负极连接;第二环架9上开有八个通孔,第二螺旋导线12穿过通孔与第二环导线9.1连接;所述第二环导线9.1穿过第二横杆7内腔与滤波器4.4输出正极连接。

所述第一半导体10.1、第三半导体10.3均为N型半导体,优选为Bi2Te3—Bi2Se3材料;第二半导体10.2为P型半导体,优选为Bi2Te3—Sb2Te3材料。

所述第一导体10.4.1、第二导体10.4.2、第三导体10.4.3、第四导体10.4.4均为铜材料。铜材料具有优良的导热性能与力学性能。

所述填充剂10.5为泡沫陶瓷。由于填充剂10.5在冷热条10中兼顾填充支持、抗拉、绝缘的功能,因此选用泡沫陶瓷材料。

所述第一螺旋导线11、第二螺旋导线12与冷热条10、蒸发皿13接触,因此需要采用耐热优良的绝缘材料,绝缘层选用聚酰亚胺复合玻璃布。

珀尔帖效应(Peltier Effect):又称为热电第二效应,是指当电流通过两种导体/半导体组成的接触点时,除了因为电流流经电路而产生的焦耳热之外,还会在接触点产生吸热和放热的效应,它是塞贝克效应的逆反应。即两种不同的金属构成闭合回路,当回路中存在直流电时,两个接头之间将产生温差。

使用时,操作人员先将蒸发皿13内装盛液体,然后将电源线顶端的插头插入实验室插座,打开开关4.4;交流电流经变压器4.2,降低电压;流经整流器4.3,所有电流取正值;流经滤波器,电流稳定下来,变为稳定的直流电;直流电流经八个冷热条10,冷热条10顶端的热量向底端转移,形成顶端制冷、底端制热的状态,八个冷热条10的制热端用于加热蒸发皿13及内部的液体,八个冷热条10的制冷端用于维持蒸发皿13碗口处的低温,蒸发过后,操作人员可裸手抓取蒸发皿13外边缘取下(若为腐蚀性液体可佩带手套),省去了坩埚钳夹取的弊端;由于冷热条10从通电到达到最大功率这个过程中,温度是从室温开始逐渐改变的,因此避免了温度骤变引起的炸裂,也就不需要预热操作。

综上所述,对于本领域的技术人员,依据本实用新型的指导,在不脱离本实用新型的原理与精神的前提下,对本实用新型所做的改变、修改、替换、变形仍落入本实用新型的保护范围内。

一种带有蒸发皿组件的实验装置专利购买费用说明

专利买卖交易资料

Q:办理专利转让的流程及所需资料

A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。

1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2:按规定缴纳著录项目变更手续费。

3:同时提交相关证明文件原件。

4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q:专利转让变更,多久能出结果

A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。

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