IPC分类号 : G02B5/30,B29C55/04,B29K29/00,B29L7/00,B29L9/00,B29L11/00
专利摘要
本发明的偏振性层叠膜的制造方法依次含有：在基材膜上涂敷聚乙烯醇系树脂的水溶液而得到涂敷膜的涂敷工序(S10)；将涂敷膜干燥而得到在基材膜上形成有聚乙烯醇系树脂层的层叠膜的干燥工序(S20)；对层叠膜进行单轴拉伸而得到拉伸层叠膜的拉伸工序(S30)；和对聚乙烯醇系树脂层进行染色而形成偏振片层、得到偏振性层叠膜的染色工序(S40)，拉伸工序(S40)中，在层叠膜的水分率为0.3质量％以上的状态下开始所述单轴拉伸。
权利要求
1.一种偏振性层叠膜的制造方法，其依次包含：
在基材膜上涂敷聚乙烯醇系树脂的水溶液而得到涂敷膜的涂敷工序；
将所述涂敷膜干燥而得到在基材膜上形成有聚乙烯醇系树脂层的层叠膜的干燥工序；
对所述层叠膜进行单轴拉伸而得到拉伸层叠膜的拉伸工序；和
对所述聚乙烯醇系树脂层进行染色而形成偏振片层、得到偏振性层叠膜的染色工序，并且
得到的偏振性层叠膜中的所述偏振片层的厚度为10μm以下，
所述拉伸工序中，在所述层叠膜的水分率为0.80质量％以上且1.13质量％以下、且所述聚乙烯醇系树脂层的水分率为5.52质量％以上且7.65质量％以下的状态下开始所述单轴拉伸。
2.根据权利要求1所述的偏振性层叠膜的制造方法，其中，按照所述涂敷膜的平均水分率变化为5质量％/分钟～65质量％/分钟的方式进行所述干燥工序。
3.根据权利要求1或2所述的偏振性层叠膜的制造方法，其中，在所述干燥工序之后含有调湿工序，其将所述层叠膜的水分率调节为0.80质量％以上且1.13质量％以下，将通过该调湿工序调湿后的所述层叠膜在保持其水分率的状态下供于所述拉伸工序。
4.一种偏振板的制造方法，其包含：
通过权利要求1～3中任一项所述的制造方法制造偏振性层叠膜的工序；
在所述偏振性层叠膜中所述偏振片层的与所述基材膜相反侧的面上贴合保护膜而得到多层膜的贴合工序；和
从所述多层膜中剥离所述基材膜而得到具备所述偏振片层和所述保护膜的偏振板的剥离工序。
说明书
技术领域
本发明涉及偏振性层叠膜或偏振板的制造方法。
背景技术
偏振板被广泛用作液晶显示装置等显示装置中的偏振光的供给元件等。作为该偏振板，以往使用在由聚乙烯醇系树脂形成的偏振膜(偏振片层)上粘接由三乙酰纤维素形成的保护膜的偏振板，近年来，随着液晶显示装置向笔记本个人电脑、手机等移动设备中的拓展等，要求薄壁轻量化。
以往，在对由聚乙烯醇系树脂形成的膜单独拉伸后或者进行拉伸的同时，实施染色处理、交联处理而制作偏振膜，并通过将其层叠在保护膜等上，从而制造偏振板，但是，只能薄型化至偏振膜单独的极限的厚度。另一方面，已知这样的方法：在基材膜的表面设置成为偏振片层的聚乙烯醇系树脂层后，将聚乙烯醇系树脂层连同基材膜一起进行拉伸，经过染色、交联工序以及此后的干燥工序，将聚乙烯醇系树脂层制成偏振片层，从而可以将基材膜和偏振片层的总厚度减薄至极限，可以使偏振片层(偏振膜)的厚度比以往更薄(例如，参照专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2009-93074号公报
发明内容
发明要解决的课题
本发明的目的在于，在可以制造具有薄偏振片层的偏振性层叠膜的制造方法中，提供制造具备具有优良的光学性能的偏振片层的偏振性层叠膜的方法，所述可以制造具有薄偏振片层的偏振性层叠膜的制造方法是如下的制作方法：在基材膜的表面设置聚乙烯醇系树脂层后，将聚乙烯醇系树脂层连同基材膜一起进行拉伸，经过染色、交联工序以及此后的干燥工序，将聚乙烯醇系树脂层制成偏振片层，从而可以制造具有薄偏振片层的偏振性层叠膜。
用于解决课题的手段
本发明包含下述方案。
[1]一种偏振性层叠膜的制造方法，其依次包含：在基材膜上涂敷聚乙烯醇系树脂的水溶液而得到涂敷膜的涂敷工序；将上述涂敷膜干燥而得到在基材膜上形成有聚乙烯醇系树脂层的层叠膜的干燥工序；对上述层叠膜进行单轴拉伸而得到拉伸层叠膜的拉伸工序；和对上述聚乙烯醇系树脂层进行染色而形成偏振片层、得到偏振性层叠膜的染色工序，并且上述拉伸工序中，在上述层叠膜的水分率为0.3质量％以上的状态下开始上述单轴拉伸。
[2]根据[1]所述的偏振性层叠膜的制造方法，其中，按照上述涂敷膜的平均水分率变化为5～65质量％/分钟的方式进行上述干燥工序。
[3]根据[1]或[2]所述的偏振性层叠膜的制造方法，其中，在上述干燥工序之后含有调湿工序，其将上述层叠膜的水分率调节为0.3质量％以上，将通过该调湿工序调湿后的上述层叠膜在保持其水分率的状态下供于上述拉伸工序。
[4]一种偏振性层叠膜的制造方法，其依次包含：在基材膜的一面上涂敷聚乙烯醇系树脂的水溶液而得到涂敷膜的第1涂敷工序；将上述涂敷膜干燥而得到在基材膜的一面上形成有聚乙烯醇系树脂层的层叠膜的第1干燥工序；在上述基材膜的另一面上涂敷聚乙烯醇系树脂的水溶液而得到两面涂敷膜的第2涂敷工序；将上述两面涂敷膜干燥而得到在基材膜的两面形成有聚乙烯醇系树脂层的两面层叠膜的第2干燥工序；对上述两面层叠膜进行单轴拉伸而得到拉伸层叠膜的拉伸工序；和对上述聚乙烯醇系树脂层进行染色而形成偏振片层、得到偏振性层叠膜的染色工序，并且上述拉伸工序中，在上述两面层叠膜的水分率为0.5质量％以上的状态下开始上述单轴拉伸。
[5]根据[4]所述的偏振性层叠膜的制造方法，其中，按照干燥后的上述层叠膜的水分率为0.3质量％以上的方式进行上述第1干燥工序。
[6]根据[4]或[5]所述的偏振性层叠膜的制造方法，其中，按照上述涂敷膜的平均水分率变化和上述两面涂敷膜的平均水分率变化分别为5～65质量％/分钟的方式进行上述第1干燥工序和上述第2干燥工序。
[7]根据[4]～[6]中任一项所述的偏振性层叠膜的制造方法，其中，在上述第2干燥工序之后含有调湿工序，其将上述两面层叠膜的水分率调节为0.5质量％以上，将通过该调湿工序调湿后的上述两面层叠膜在保持其水分率的状态下供于上述拉伸工序。
[8]一种偏振板的制造方法，其包含：通过[1]～[7]中任一项所述的制造方法制造偏振性层叠膜的工序；在上述偏振性层叠膜中上述偏振片层的与上述基材膜相反侧的表面上贴合保护膜而得到多层膜的贴合工序；和从上述多层膜中剥离上述基材膜而得到具备上述偏振片层和上述保护膜的偏振板的剥离工序。
发明效果
本发明中，通过控制供于拉伸工序的层叠膜的水分率的值，可以得到具备具有优良的光学性能的偏振片层的偏振性层叠膜。
附图说明
图1为示出第1实施方式的偏振性层叠膜和偏振板的制造方法的流程图。
图2为示出第2实施方式的偏振性层叠膜和偏振板的制造方法的流程图。
具体实施方式
本说明书中，将基材膜上具备聚乙烯醇系树脂层(包含聚乙烯醇系树脂的层)的层叠体称为“层叠膜”，将基材膜的两面具备聚乙烯醇系树脂层的层叠膜称为“两面层叠膜”。
另外，将具有偏振片功能的聚乙烯醇系树脂层称为“偏振片层”，将基材膜上具备偏振片层的层叠体称为“偏振性层叠膜”，将偏振片层的至少一面具备保护膜的层叠体称为“偏振板”。以下首先对偏振性层叠膜和偏振板的各构成要素进行说明，然后进入这些的制造方法的说明。
<偏振性层叠膜及偏振板>
[基材膜]
作为在基材膜中使用的树脂，可以使用例如透明性、机械强度、热稳定性、拉伸性等优良的热塑性树脂，可以根据它们的玻璃化转变温度(Tg)或熔点(Tm)选择适当的树脂。作为热塑性树脂的具体例，可以列举：聚烯烃系树脂、聚酯系树脂、环状聚烯烃系树脂(降冰片烯系树脂)、(甲基)丙烯酸系树脂、纤维素酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚乙烯醇系树脂、乙酸乙烯酯系树脂、聚芳酯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚醚砜系树脂、聚砜系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、以及它们的混合物、共聚物等。
基材膜可以是仅由1种上述树脂形成的膜，也可以是混合有2种以上树脂的膜。该基材膜可以是单层膜，也可以是多层膜。
作为聚烯烃系树脂，可以列举：聚乙烯、聚丙烯等，其容易进行稳定且高倍率的拉伸，因此优选。另外，还可以使用通过使乙烯与丙烯共聚而得到的丙烯-乙烯共聚物等。共聚也可以利用乙烯以外的单体，作为可与丙烯共聚的其它种类的单体，可以列举例如α-烯烃。作为α-烯烃，优选使用碳原子数4以上的α-烯烃，更优选为碳原子数4～10的α-烯烃。若列举碳原子数为4～10的α-烯烃的具体例，例如为1-丁烯、1-戊烯、1-己烯、1-庚烯、1-辛烯、1-癸烯等直链状单烯烃类；3-甲基-1-丁烯、3-甲基-1-戊烯、4-甲基-1-戊烯等支链状单烯烃类；乙烯基环己烷等。丙烯和可与其共聚的其它单体的共聚物可以是无规共聚物，也可以是嵌段共聚物。共聚物中的来自该其它单体的构成单元的含有率可以按照“高分子分析手册”(1995年，纪伊国屋书店发行)的第616页记载的方法，通过进行红外线(IR)光谱测定而求得。
在上述当中，作为构成丙烯系树脂膜的丙烯系树脂，优选使用丙烯的均聚物、丙烯-乙烯无规共聚物、丙烯-1-丁烯无规共聚物和丙烯-乙烯-1-丁烯无规共聚物。
另外，构成丙烯系树脂膜的丙烯系树脂的立体规整性优选实质上为全同立构或间同立构。对包含实质上具有全同立构或间同立构的立体规整性的丙烯系树脂的丙烯系树脂膜而言，其处理性较好，并且在高温环境下的机械强度优良。
聚酯系树脂为具有酯键的聚合物，主要为多元羧酸与多元醇的缩聚物。所使用的多元羧酸主要是二羧酸、即2元羧酸或其低级烷基酯，例如对苯二甲酸、间苯二甲酸、对苯二甲酸二甲酯、萘二羧酸二甲酯等。另外，所使用的多元醇也主要是二醇、即2元醇，可以列举：丙二醇、丁二醇、新戊二醇、环己烷二甲醇等。作为具体的树脂，可以列举：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸丁二醇酯、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚萘二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸环己烷二甲酯、聚萘二甲酸环己烷二甲酯等。也可以适当使用这些树脂的混合树脂、共聚物。
作为环状聚烯烃系树脂，优选使用降冰片烯系树脂。环状聚烯烃系树脂是以环状烯烃作为聚合单元聚合而成的树脂的总称，可以列举例如：日本特开平1-240517号公报、日本特开平3-14882号公报、日本特开平3-122137号公报等中记载的树脂。作为具体例，可以列举：环状烯烃的开环(共)聚合物，环状烯烃的加聚物，环状烯烃与乙烯、丙烯等α-烯烃的共聚物(代表性的为无规共聚物)，以及用不饱和羧酸或其衍生物对它们进行改性而得到的接枝聚合物，以及它们的氢化物等。作为环状烯烃的具体例，可以列举：降冰片烯系单体。
作为环状聚烯烃系树脂，市售有各种制品。作为具体例，可以列举：TOPAS(注册商标)(Topas Advanced Plymers GmbH制)、ARTON(注册商标)(JSR(株)制)、ZEONOR(注册商标)(日本瑞翁(株)制)、ZEONEX(注册商标)(日本瑞翁(株)制)、APEL(注册商标)(三井化学(株)制)。
作为(甲基)丙烯酸系树脂，可采用任意的适当的(甲基)丙烯酸系树脂。可以列举例如：聚甲基丙烯酸甲酯等聚甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS树脂等)、具有脂环族烃基的聚合物(例如，甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸环己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降冰片酯共聚物等)。可以优选列举：聚甲基丙烯酸甲酯等以甲基丙烯酸的C1-C6烷基酯为主要成分的聚合物。作为(甲基)丙烯酸系树脂，更优选使用以甲基丙烯酸甲酯为主要成分(50～100重量％，优选70～100重量％)的甲基丙烯酸甲酯系树脂。
纤维素酯系树脂是纤维素与脂肪酸的酯。作为这样的纤维素酯系树脂的具体例，可以列举：纤维素三乙酸酯、纤维素二乙酸酯、纤维素三丙酸酯、纤维素二丙酸酯等。另外，还可以列举：用其它种类的取代基等对这些共聚物、羟基的一部分进行修饰的物质等。其中，特别优选纤维素三乙酸酯。纤维素三乙酸酯市售有多种制品，在获得容易性、成本的方面也是有利的。作为纤维素三乙酸酯的市售品的例子，可以列举：FUJITAC(注册商标)TD80(富士胶片(株)制)、FUJITAC(注册商标)TD80UF(富士胶片(株)制)、FUJITAC(注册商标)TD80UZ(富士胶片(株)制)、FUJITAC(注册商标)TD40UZ(富士胶片(株)制)、KC8UX2M(KONICAMINOLTA(株)制)、KC4UY(KONICA MINOLTA(株)制)等。
聚碳酸酯系树脂是由经由碳酸酯基结合了单体单元的聚合物形成的工程塑料，是具有较高的耐冲击性、耐热性、阻燃性的树脂。另外，由于聚碳酸酯具有高的透明性，因此也适合用在光学用途中。在光学用途中为了降低光弹性系数而对聚合物骨架进行了修饰之类的被称作改性聚碳酸酯的树脂、改良了波长依赖性的共聚聚碳酸酯等也已经在市面上出售，并且可以适合地使用。这样的聚碳酸酯树脂在市面上已被广泛地出售，可以列举例如：Panlite(注册商标)(帝人化成(株))、Iupilon(注册商标)(三菱工程塑料(株))、SD POLYCA(注册商标)(住友陶氏(株))、CALIBER(注册商标)(陶氏化学(株))等。
在基材膜中，除上述热塑性树脂以外，还可以添加任意适当的添加剂。作为这样的添加剂，可以列举例如：紫外线吸收剂、抗氧化剂、润滑剂、增塑剂、脱模剂、防着色剂、阻燃剂、成核剂、抗静电剂、颜料以及着色剂等。基材膜中的由上述例示的热塑性树脂的含量优选为50～100重量％，更优选为50～99重量％，进一步优选为60～98重量％，特别优选为70～97重量％。这是由于，基材膜中的热塑性树脂的含量小于50重量％的情况下，有可能不能充分表现出热塑性树脂原本具有的高透明性等。
拉伸前的基材膜的厚度可以适当地决定，从强度、处理性等作业性的观点出发，以及本发明中从调整在基材膜上形成有聚乙烯醇系树脂层的层叠膜的水分率的观点出发，基材膜的厚度优选为50～200μm，进一步优选为70～130μm。另外，基材膜优选其熔点或玻璃化转变温度的值高于后述干燥工序、拉伸工序的温度范围。通过使用这样的基材膜，可以防止在干燥工序、拉伸工序中基材变得过度柔软，避免聚乙烯醇系树脂层的面内的膜厚分布恶化。
为了提高与聚乙烯醇系树脂层的密合性，可以在基材膜的至少形成有聚乙烯醇系树脂层一侧的表面进行电晕处理、等离子体处理、火焰处理等。另外，为了提高密合性，可以在基材膜的形成有聚乙烯醇系树脂层一侧的表面形成底涂层、粘接剂层等薄层。
(底涂层)
在基材膜的形成有偏振片层一侧的表面形成底涂层时，作为底涂层，只要是对基材膜和聚乙烯醇系树脂层这两者发挥某种程度的较强的密合力的材料，就没有特别的限定。例如可以使用透明性、热稳定性、拉伸性等优良的热塑性树脂。具体而言，可以列举：丙烯酸系树脂、聚乙烯醇系树脂，但并不限定为这些树脂。其中，优选使用密合性好的聚乙烯醇系树脂。
作为被用作底涂层的聚乙烯醇系树脂，可以列举例如：聚乙烯醇树脂及其衍生物。作为聚乙烯醇树脂的衍生物，除聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩乙醛等之外，还可以列举：用乙烯、丙烯等烯烃、丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等不饱和羧酸、不饱和羧酸的烷基酯、丙烯酰胺等对聚乙烯醇树脂进行改性后的物质。在上述聚乙烯醇系树脂材料中，优选使用聚乙烯醇树脂。
为了提高底涂层的强度，可以在上述热塑性树脂中添加交联剂。添加于热塑性树脂的交联剂可以使用有机系、无机系等公知的交联剂。适当选择对所使用的热塑性树脂更为合适的交联剂即可。例如，除了环氧系交联剂、异氰酸酯系交联剂、二醛系交联剂、金属螯合物系交联剂等低分子交联剂以外，还可以使用羟甲基化三聚氰胺树脂、聚酰胺环氧树脂等高分子系交联剂等。在使用聚乙烯醇系树脂作为热塑性树脂时，特别优选使用聚酰胺环氧树脂、羟甲基化三聚氰胺、二醛、金属螯合物交联剂等作为交联剂。
底涂层的厚度优选为0.05～1μm，进一步优选为0.1～0.4μm。若比0.05μm薄，则基材膜和聚乙烯醇系树脂层的密合力降低；若比1μm厚，则偏振板变厚，故而不优选。
[偏振片层]
具体而言，偏振片层是使二色性色素在拉伸后的聚乙烯醇系树脂层上吸附取向而得的层。
作为构成聚乙烯醇系树脂层的聚乙烯醇系树脂，可以使用对聚乙酸乙烯酯系树脂进行皂化后的树脂。作为聚乙酸乙烯酯系树脂，除了作为乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯之外，还可例示乙酸乙烯酯和其它能共聚的单体的共聚物等。作为能与乙酸乙烯酯共聚的其它的单体，可以列举例如：不饱和羧酸类、烯烃类、乙烯基醚类、不饱和磺酸类、具有铵基的丙烯酰胺类等。
构成偏振片层(聚乙烯醇系树脂层)的聚乙烯醇系树脂优选为完全皂化物。皂化度的范围优选为80.0摩尔％～100.0摩尔％，更优选为90.0摩尔％～99.5摩尔％的范围，进而最优选为94.0摩尔％～99.0摩尔％的范围。皂化度小于80.0摩尔％时，存在制成偏振板后耐水性、耐湿热性显著劣化的不良情况。另外，使用皂化度超过99.5摩尔％的聚乙烯醇系树脂时，染色速度显著变慢，有时得不到具有充分偏振性能的偏振性层叠膜，此外有时产生如下不良情况：制造中，需要通常的数倍的染色时间。
这里所说的皂化度是用单元比(摩尔％)表示通过皂化工序使作为聚乙烯醇系树脂的原料的聚乙酸乙烯酯系树脂中含有的乙酸基变成羟基的比例，是由下式定义的数值。可以用JIS K 6726(1994)中规定的方法求出。
皂化度(摩尔％)＝(羟基的数)÷(羟基的数+乙酸基的数)×100
皂化度越高，则表示羟基的比例越高，即表示阻碍结晶化的乙酸基的比例越低。
另外，本发明中使用的聚乙烯醇系树脂可以是进行了部分改性的改性聚乙烯醇。可以列举用例如：乙烯、丙烯等烯烃，丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸等不饱和羧酸、不饱和羧酸的烷基酯，丙烯酰胺等对聚乙烯醇系树脂进行了改性的物质等。改性的比例优选为小于30摩尔％，更优选为小于10摩尔％。在进行超过30摩尔％的改性时，变得难以吸附二色性色素，产生偏振性能降低的不良情况。
对聚乙烯醇系树脂的平均聚合度也没有特别的限定，优选为100～10000，更优选为1500～8000，进而最优选为2000～5000。这里所说的平均聚合度也是通过依据JIS K6726(1994)确定的方法求得的数值。
作为具有这样的特性的聚乙烯醇系树脂，可以列举：例如(株)可乐丽制的PVA124(皂化度：98.0～99.0摩尔％)、PVA117(皂化度：98.0～99.0摩尔％)、PVA624(皂化度：95.0～96.0摩尔％)和PVA617(皂化度：94.5～95.5摩尔％)；例如日本合成化学工业(株)制的AH-26(皂化度：97.0～98.8摩尔％)、AH-22(皂化度：97.5～98.5摩尔％)、NH-18(皂化度：98.0～99.0摩尔％)和N-300(皂化度：98.0～99.0摩尔％)；例如JAPAN VAM&POVAL CO.，LTD.的JC-33(皂化度：99.0摩尔％以上)、JM-33(皂化度：93.5～95.5摩尔％)、JM-26(皂化度：95.5～97.5摩尔％)、JP-45(皂化度：86.5～89.5摩尔％)、JF-17(皂化度：98.0～99.0摩尔％)、JF-17L(皂化度：98.0～99.0摩尔％)和JF-20(皂化度：98.0～99.0摩尔％)等，可适用于本发明中。
将上述聚乙烯醇系树脂制成水溶液，将其涂敷在基材膜上并干燥，从而可形成聚乙烯醇系树脂层。
上述聚乙烯醇系树脂层与基材膜一起被拉伸，并发生取向，进而吸附取向二色性色素，从而形成偏振片层。拉伸倍率优选为超过5倍，进一步优选为超过5倍且17倍以下。
偏振片层的厚度(拉伸后的聚乙烯醇系树脂层的厚度)为10μm以下，优选为7μm以下。通过使偏振片层的厚度为10μm以下，可以构成薄型的偏振板。
作为偏振片层中使用的二色性色素，可以列举例如：碘、有机染料等。作为有机染料，例如可以使用红BR、红LR、红R、粉红LB、玉红(Rubin)BL、枣红(Bordeaux)GS、天蓝LG、柠檬黄、蓝BR、蓝2R、藏蓝(Navy)RY、绿LG、紫LB、紫B、黑H、黑B、黑GSP、黄3G、黄R、橙LR、橙3R、猩红GL、猩红KGL、刚果红、亮紫BK、苏普拉(Supra)蓝G、苏普拉蓝GL、苏普拉橙GL、直接天蓝(Direct Sky Blue)、直接坚牢橙(Direct Fast Orange)S、坚牢黑(Fast Black)等。这些二色性物质可以使用一种，也可以并用两种以上。
[保护膜]
保护膜可以不具有光学功能而仅仅是保护膜，也可以是相位差膜、亮度提高膜这样等的兼具光学功能的保护膜。
作为保护膜的材料，没有特别限定，例如可以列举出包含环状聚烯烃系树脂膜、三乙酰纤维素、二乙酰纤维素之类的树脂的乙酸纤维素系树脂膜，包含聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯之类的树脂的聚酯系树脂膜，聚碳酸酯系树脂膜，丙烯酸系树脂膜，聚丙烯系树脂膜等一直以来在本领域中被广泛使用的膜。
作为环状聚烯烃系树脂，可以适用适当的市售品，例如，TOPAS(注册商标)(TopasAdvanced Polymers GmbH制)、ARTON(注册商标)(JSR(株)制)、ZEONOR(注册商标)(日本瑞翁(株)制)、ZEONEX(注册商标)(日本瑞翁(株)制)、APEL(注册商标)(三井化学(株)制)。在对这样的环状聚烯烃系树脂进行制膜而形成膜时，可以适当使用溶剂浇铸法、熔融挤出法等公知的方法。另外，可以使用Escena(注册商标)(积水化学工业(株)制)、SCA40(积水化学工业(株)制)、ZEONOR(注册商标)膜(日本瑞翁(株)制)等预先进行了制膜的环状聚烯烃系树脂制造的膜的市售品。
环状聚烯烃系树脂膜可以是经过单轴拉伸或双轴拉伸的膜。通过进行拉伸，可以对环状聚烯烃系树脂膜赋予任意的相位差值。通常可以一边卷出膜辊一边连续地进行拉伸，并利用加热炉，向着辊的行进方向、与该行进方向垂直的方向、或者这两个方向进行拉伸。加热炉的温度通常为从环状聚烯烃系树脂的玻璃化转变温度附近至玻璃化转变温度+100℃的范围。拉伸的倍率在一个方向上通常为1.1～6倍，优选为1.1～3.5倍。
环状聚烯烃系树脂膜一般表面活性差，因此优选对与偏振膜粘接的表面进行等离子体处理、电晕处理、紫外线照射处理、火焰(flame)处理、皂化处理等表面处理。其中，优选可以比较容易地实施的等离子处理、电晕处理。
作为乙酸纤维素系树脂膜，可以适用适当的市售品，例如FUJITAC(注册商标)TD80(富士胶片(株)制)、FUJITAC(注册商标)TD80UF(富士胶片(株)制)、FUJITAC(注册商标)TD80UZ(富士胶片(株)制)、FUJITAC(注册商标)TD40UZ(富士胶片(株)制)、KC8UX2M(KONICAMINOLTA(株)制)、KC4UY(KONICA MINOLTA(株)制)等。
为了改良视角特性，可以在乙酸纤维素系树脂膜的表面形成液晶层等。另外，为了赋予相位差，可以将乙酸纤维素系树脂膜拉伸。为了提高与偏振膜的粘接性，通常对乙酸纤维素系树脂膜实施皂化处理。作为皂化处理，可以采用浸渍在氢氧化钠、氢氧化钾之类的碱的水溶液中的方法。
在上述那样的保护膜的表面也可以形成硬涂层、防眩层、防反射层等光学层。在保护膜表面上形成这些光学层的方法没有特别限定，可以使用公知的方法。
根据薄型化的要求，优选使保护膜的厚度尽可能地薄，优选为90μm以下，更优选为50μm以下。相反，过薄时，强度降低，从而加工性变差，因此优选为5μm以上。
<偏振性层叠膜和偏振板的制造方法>
[第1实施方式]
图1是示出第1实施方式的偏振性层叠膜和偏振板的制造方法的流程图。第1实施方式的偏振性层叠膜的制造方法依次包含：
在基材膜的一面上涂敷聚乙烯醇系树脂的水溶液而得到涂敷膜的涂敷工序(S10)；
将上述涂敷膜干燥而得到在基材膜上形成有聚乙烯醇系树脂层的层叠膜的干燥工序(S20)；
对上述层叠膜进行单轴拉伸而得到拉伸层叠膜的拉伸工序(S30)；和
对上述聚乙烯醇系树脂层进行染色而形成偏振片层、得到偏振性层叠膜的染色工序(S40)。
为了制造偏振板，进而依次含有：
在上述偏振性层叠膜中上述偏振片层的与上述基材膜相反侧的面上贴合透明保护膜、得到多层膜的贴合工序(S50)；和
从上述多层膜中剥离上述基材膜而得到具备上述偏振片层和上述透明保护膜的偏振板的剥离工序(S60)。
<各制造工序>
以下详细说明图1中的S10～S60的各工序。
[涂敷工序(S10)]
该工序中，在基材膜的一面上涂敷聚乙烯醇系树脂的水溶液而得到涂敷膜。
适于基材膜的材料如上述偏振性层叠膜的构成要素的说明中所述。需要说明的是，基材膜优选使用可以在适于聚乙烯醇系树脂的拉伸的温度范围内拉伸的基材膜。
涂敷工序(S10)中，优选将使聚乙烯醇系树脂的粉末溶解于良溶剂而得到的聚乙烯醇系树脂溶液涂覆在基材膜的表面上从而得到涂敷膜。通过经由涂敷工序形成聚乙烯醇系树脂层，能够使聚乙烯醇系树脂更薄。作为将聚乙烯醇系树脂溶液涂敷在基材膜上的方法，可以适当选择采用线棒涂布法、反向涂布、凹版涂布等辊涂法、模涂法、逗点涂布法、模唇涂布法、旋涂法、丝网印刷法、喷注式涂布法、浸涂法、喷涂法等公知的方法。优选逗点涂布法(刮刀涂布)、模涂法、模唇涂布法。
拉伸工序(S30)中的拉伸后的拉伸层叠膜的聚乙烯醇系树脂层的厚度优选为10μm以下。因此，经由涂敷工序(S10)和干燥工序(S20)形成的树脂层的厚度优选为3～50μm，更优选为5～40μm。该树脂层的厚度为3μm以下时，拉伸后过度变薄，染色性显著恶化，因此不优选。另一方面，该树脂层的厚度超过50μm时，最终得到的偏振片层的厚度有时会超过10μm，因此不优选。
为了提高基材膜和聚乙烯醇系树脂层的密合性，可以在基材膜和聚乙烯醇系树脂层之间设置底涂层。从密合性的观点出发，优选底涂层由含有聚乙烯醇系树脂和交联剂等的组合物形成。适于底涂层的材料等如上述偏振性层叠膜的构成要素的说明中所述。
[干燥工序(S20)]
通过将涂敷工序(S10)所得到的涂敷膜干燥、将聚乙烯醇系树脂的水溶液的溶剂蒸发，从而得到在基材膜上形成有聚乙烯醇系树脂层的层叠膜。
干燥工序优选按照涂敷膜的平均水分率变化为5～65质量％/分钟的方式进行，更优选按照涂敷膜的平均水分率变化7.5～50质量％/分钟的方式进行，进一步优选按照涂敷膜的平均水分率变化7.5～30质量％/分钟的方式进行。本说明书所述的干燥工序的平均水分率变化是指将干燥开始时的涂敷膜的水分率(％)与干燥结束时的层叠膜的水分率(％)之差除以时间而得到的值。需要说明的是，涂敷膜或层叠膜的水分率的计算方法将在后文中说明。平均水分率变化大于65质量％/分钟时，需要提高干燥温度，因此有可能产生基材膜的溶解、聚乙烯醇系树脂变色等不良情况，因此不优选。平均水分率变化小于5质量％/分钟的情况下，生产率变差，因此不优选。
干燥工序中的干燥温度为例如50℃～200℃，优选为60℃～150℃。干燥方法有吹送热风的方法、与热辊接触的方法、用IR加热器加热的方法等各种方法，均可以适当使用。需要说明的是，干燥工序中，就所谓的干燥温度而言，在吹送热风的方法、设置如IR加热器等干燥炉的干燥设备的情况下，是指干燥炉内的氛围温度，在热辊之类的接触型的干燥设备的情况下，是指热辊的表面温度。经由以上的工序来制造形成有聚乙烯醇系树脂层的层叠膜。干燥时间为例如2分钟～20分钟。
[拉伸工序(S30)]
该工序中，对干燥工序(S20)所得到的层叠膜进行拉伸。拉伸工序(S30)中，在基材膜的一面上形成有聚乙烯醇系树脂层的层叠膜的水分率为0.3质量％以上的状态下，开始单轴拉伸。通过使开始单轴拉伸时的水分率为0.3质量％以上，可以制造具备具有优良的光学性能的偏振片层的偏振性层叠膜或偏振板。需要说明的是，上述水分率的调整例如可以通过调整干燥工序(S20)中的干燥程度来进行，或者通过后述调湿工序进行调整来进行。
干燥工序(S20)中的干燥程度除了根据上述干燥温度、干燥时间而变化外，还根据形成在基材膜上的聚乙烯醇系树脂涂敷层的厚度(或每单位面积的重量)、干燥工序中的氛围的水分浓度、水蒸气压、湿度等而变化，因此可以进行简单的预备实验来调节条件从而达到规定水分率(0.3质量％以上且3质量％以下，优选0.35质量％以上且1.8质量％以下)。某些情况下，还可以将调节至规定水蒸气压的空气引入干燥炉内。通过这种方式干燥至规定水分率的层叠膜优选在保持其水分率的状态下供于拉伸工序(S30)，也可以在通过后述的调湿工序调整为规定水分率后供于拉伸工序(S30)。
(层叠膜的水分率的计算)
本说明书中，层叠膜(或涂敷膜)的水分率为通过如下方式计算的值。首先，从层叠膜(或涂敷膜)取样，求出该测定样品的质量(A)，然后将该测定样品投入105℃的烘箱中1小时。然后，求出从烘箱取出后的测定样品的质量(B)。层叠膜(或涂敷膜)的水分率通过下式(1)来计算。
层叠膜(或涂敷膜)的水分率＝(A-B)/A×100(％)
(聚乙烯醇系树脂层的水分率的计算)
本说明书中，聚乙烯醇系树脂层的水分率为通过如下方式计算的值。首先，从层叠膜取样，求出该测定样品的质量(A)，然后将该测定样品投入105℃的烘箱中1小时。然后，求出从烘箱取出后的测定样品的质量(B)。进而，从该测定样品中除去聚乙烯醇系树脂层，求出基材膜本身的质量(C)。聚乙烯醇系树脂层的水分率通过下式(2)计算。
聚乙烯醇系树脂层的水分率＝(A-B)/(A-C)×100(％)
聚乙烯醇系树脂层的水分率优选为2.5质量％以上。聚乙烯醇系树脂层的水分率的值在上述范围时，可以抑制拉伸后的聚乙烯醇系树脂层中产生的裂纹，因此是优选的。
拉伸工序(S30)中，优选以超过5倍且17倍以下的拉伸倍率进行单轴拉伸。进一步优选以超过5倍且8倍以下的拉伸倍率进行单轴拉伸。拉伸倍率为5倍以下时，聚乙烯醇系树脂层取向不充分，因此结果是，有时产生偏振片层的偏振度不能充分提高的不良情况。另一方面，拉伸倍率超过17倍时，拉伸时容易发生层叠膜的断裂，同时拉伸后的拉伸层叠膜的厚度变薄到需要的程度以上，存在后工序中的加工性、处理性降低的风险。拉伸工序(S30)中的拉伸处理并非仅限于一个阶段的拉伸，也可以分成多个阶段来进行。在以多个阶段进行拉伸处理时，按照所有的拉伸处理的拉伸倍率合计超过5倍的方式来进行拉伸处理。
本实施方式中的拉伸工序(S30)中，可以实施对层叠膜的长度方向进行的纵拉伸处理、对宽度方向进行拉伸的横拉伸处理等。作为纵拉伸方式，可以列举辊间拉伸方法、压缩拉伸方法等，作为横拉伸方式，可以列举拉幅机法等。
另外，本发明中的拉伸处理优选使用干式拉伸方法来进行。这是由于，通过将聚乙烯醇系树脂层连同基材膜一起在染色工序之前进行干式拉伸，可以以高倍率将比以往更薄的聚乙烯醇系树脂膜(聚乙烯醇系树脂层)拉伸而不断裂，能够使所得到的偏振片层、进而使偏振板薄型化。
(调湿工序)
在干燥工序(S20)之后，还可以具有调湿工序，其将层叠膜的水分率调节为0.3质量％以上且3质量％以下，优选为0.35质量％以上且1.8质量％以下。这种情况下，将通过该调湿工序调湿后的层叠膜在保持水分率0.3质量％以上且3质量％以下的状态下供于拉伸工序(S30)。调湿工序中的调湿可以通过以下方法进行：例如，将层叠膜置于调节为合适的湿度和温度的房间内的方法、使层叠膜从调节为合适的湿度和温度的调湿炉中通过的方法等。调湿工序中，根据此前的层叠膜的状态，既可以增大水分率(加湿)也可以减少水分率(干燥)，还可以不改变水分率本身而形成聚乙烯醇系树脂层均质化的形态。
[染色工序(S40)]
该工序中，用二色性色素将层叠膜的聚乙烯醇系树脂层染色。作为二色性色素，如前所述可使用碘、有机染料。
染色工序例如通过将拉伸层叠膜整体浸渍在含有上述二色性色素的溶液(染色溶液)中来进行。作为染色溶液，可以使用在溶剂中溶解了上述二色性色素的溶液。作为染色溶液的溶剂，一般可以使用水，也可以进一步添加与水具有相溶性的有机溶剂。作为二色性色素的浓度，优选为0.01～10重量％，更优选为0.02～7重量％，特别优选为0.025～5重量％。
在使用碘作为二色性色素的情况下，从可以更进一步提高染色效率的方面出发，优选进一步添加碘化物。作为该碘化物，可以列举例如：碘化钾、碘化锂、碘化钠、碘化锌、碘化铝、碘化铅、碘化铜、碘化钡、碘化钙、碘化锡、碘化钛等。这些碘化物的添加比例优选为染色溶液的0.01～20重量％。在碘化物中，优选添加碘化钾。在添加碘化钾的情况下，碘和碘化钾的比例以重量比计优选为1∶5～1∶100的范围，更优选为1∶6～1∶80的范围，特别优选为1∶7～1∶70的范围。
拉伸层叠膜在染色溶液中的浸渍时间没有特别限定，通常优选为15秒～15分钟的范围，更优选为1分钟～3分钟。另外，染色溶液的温度优选为10～60℃的范围，更优选为20～40℃的范围。
染色工序中，可以继染色之后进行交联处理。交联处理例如通过在含有交联剂的溶液(交联溶液)中浸渍拉伸层叠膜来进行。作为交联剂，可以使用以往公知的物质。可以列举例如：硼酸、硼砂等硼化合物、乙二醛、戊二醛等。这些物质可以使用一种，也可以并用两种以上。
作为交联溶液，可以使用在溶剂中溶解了交联剂的溶液。作为溶剂，可以使用例如水，也可以进一步包含与水具有相溶性的有机溶剂。交联溶液中的交联剂的浓度并不限定于此，优选为1～20重量％的范围，更优选为6～15重量％。
交联溶液中可以添加碘化物。通过碘化物的添加，可以使聚乙烯醇系树脂层的面内的偏振特性更均匀化。作为碘化物，可以列举例如：碘化钾、碘化锂、碘化钠、碘化锌、碘化铝、碘化铅、碘化铜、碘化钡、碘化钙、碘化锡、碘化钛。碘化物的含量为0.05～15重量％，更优选为0.5～8重量％。
拉伸层叠膜在交联溶液中的浸渍時间通常优选为15秒～20分钟，更优选为30秒～15分钟。另外，交联溶液的温度优选在10～80℃的范围。
通过以上的染色工序(S40)，使聚乙烯醇系树脂层具有作为偏振片层的功能，得到偏振性层叠膜。
[洗涤工序]
然后，优选进行洗涤偏振性层叠膜的洗涤工序。作为洗涤工序，可以实施水洗涤处理。水洗涤处理通常可以通过在离子交换水、蒸馏水等纯水中浸渍拉伸膜来进行。水洗涤温度通常为3～50℃，优选为4℃～20℃的范围。浸渍时间通常为2～300秒，优选为3秒～240秒。
洗涤工序可以组合利用碘化物溶液的洗涤处理和水洗涤处理，也可以使用适当地配合了甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、丙醇等液态醇的溶液。另外，洗涤工序之后，还可以设置使用夹持辊、气刀等的除水工序。
洗涤工序后，优选将偏振性层叠膜干燥。上述干燥中优选包含在60℃以上的温度下的干燥工序，更优选包含在70℃以上的温度下的干燥工序。当然，也可以包含温度不同的多个阶段的干燥工序。这种情况下，多个阶段的干燥工序中，任意一个干燥工序为60℃以上即可。
除了温度以外，为了强化干燥能力，还可以对风量、风向等热风的循环方法进行优化、或者一并设置进行局部加热的IR加热器等。通过这些辅助，干燥效率进一步提高，有助于生产率的提高。
干燥温度的上限优选为低于水的沸点的温度，优选低于100℃。进而，优选为95℃以下，最优选为90℃以下。
[贴合工序(S50)]
该工序中，在经过上述工序的偏振性层叠膜中偏振片层的与基材膜侧相反侧的面上贴合保护膜，从而得到多层膜。作为将偏振片层和保护膜贴合的方法，可以列举：经由粘合剂层、粘接剂层对偏振片层和保护膜进行贴合的方法。适合作为保护膜的材料如上述偏振板的构成要素的说明中所述。
(粘合剂层)
构成粘合剂层的粘合剂通常包含以丙烯酸系树脂、苯乙烯系树脂、硅酮系树脂等作为基础聚合物并向其中添加了异氰酸酯化合物、环氧化合物、氮丙啶化合物等交联剂的组合物。进而，也可以在粘合剂中配合微粒，从而形成显示光散射性的粘合剂层。
粘合剂层的厚度优选为1～40μm，在不损害加工性、耐久性的特性的范围内薄薄地涂布是优选的，更优选为3～25μm。在3～25μm时，具有良好的加工性，并且在抑制偏振膜的尺寸变化上也是优选的厚度。粘合剂层小于1μm时，粘合性降低，超过40μm时，容易发生粘合剂溢出等不良情况。
在保护膜、偏振片上形成粘合剂层的方法没有特别限定，可以在保护膜面或偏振片层面上涂布包含以上述基础聚合物为代表的各成分的溶液，干燥从而形成粘合剂层，然后与间隔件、其它种类的膜贴合，也可以在间隔件上形成粘合剂层后，贴付并层叠在保护膜面或偏振片层面上。另外，在保护膜或偏振片层面上形成粘合剂层时，可以根据需要对保护膜或偏振片层面、和粘合剂层的一者或两者进行密合处理例如电晕处理等。
(粘接剂层)
作为构成粘接剂层的粘接剂，可以列举例如：使用了聚乙烯醇系树脂水溶液、水系二液型氨基甲酸酯系乳胶粘接剂等的水系粘接剂。其中，可优选使用聚乙烯醇系树脂水溶液。对用作粘接剂的聚乙烯醇系树脂而言，除对作为乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯进行皂化处理而得到的乙烯醇均聚物以外，还有对乙酸乙烯酯和能够与其共聚的其它单体的共聚物进行皂化处理而得到的乙烯醇系共聚物、以及对它们的羟基进行部分改性而得到的改性聚乙烯醇系聚合物等。在水系粘接剂中可以添加多元醛、水溶性环氧化合物、三聚氰胺系化合物、氧化锆化合物、锌化合物等作为添加剂。在使用这样的水系粘接剂的情况下，由其得到的粘接剂层通常远薄于1μm，即使用通常的光学显微镜观察截面，事实上也观察不到该粘接剂层。
使用了水系粘接剂的膜的贴合方法没有特别限定，可以列举：在膜的表面均匀地涂布或浇注粘接剂，在涂布面重叠另一个膜并利用辊等进行贴合，并进行干燥的方法等。通常，粘接剂在其制备后于15～40℃的温度下进行涂布，贴合温度通常为15～30℃的范围。
在使用水系粘接剂的情况下，为了除去水系粘接剂中含有的水，而在贴合了膜之后将其干燥。干燥炉的温度优选为30℃～90℃。在小于30℃时，存在粘接面变得容易剥离的倾向。在90℃以上时，有可能因热而使偏振片等的光学性能劣化。干燥时间可以设为10～1000秒。
干燥后可以进一步在室温或比其略高的温度例如20～45℃左右的温度下养护12～600小时左右。养护时的温度一般设定为比干燥时采用的温度更低。
另外，作为非水系的粘接剂，也可以使用光固化性粘接剂。作为光固化性粘接剂，可以列举例如：光固化性环氧树脂和光阳离子聚合引发剂的混合物等。
作为用光固化性粘接剂进行膜贴合的方法，可以使用以往公知的方法，可以列举例如：利用流延法、绕线棒涂布法、凹版涂布法、逗点涂布法、刮刀法、模涂法、浸涂法、喷雾法等在膜的粘接面上涂布粘接剂，并重叠2张膜的方法。流延法是指一边使作为被涂布物的2张膜向大致垂直方向、大致水平方向或者两者间的倾斜方向移动，一边向其表面流下粘接剂并使其展开的方法。
在膜的表面涂布粘接剂后，用夹持辊等夹持而将2张膜贴合，由此进行粘接。另外，也可以适用将该层叠体用辊等加压而使其均匀铺展的方法。此时，作为辊的材质，可以使用金属、橡胶等。进而，也优选采用将该层叠体通过辊与辊之间，并进行加压而使其铺展的方法。此时，这些辊可以是相同的材质，也可以是不同的材质。使用上述夹持辊等进行了贴合后的粘接剂层的、干燥或固化前的厚度优选为5μm以下且0.01μm以上。
为了提高粘接性，可以对膜的粘接表面适当实施等离子体处理、电晕处理、紫外线照射处理、火焰(flame)处理、皂化处理等表面处理。作为皂化处理，可以列举：在氢氧化钠、氢氧化钾之类的碱的水溶液中浸渍的方法。
在使用光固化性树脂作为粘接剂的情况下，在将膜层叠后，通过照射活性能量射线使光固化性粘接剂固化。活性能量射线的光源没有特别限定，优选在波长400nm以下具有发光分布的活性能量射线，具体而言，可优选使用低压汞灯、中压汞灯、高压汞灯、超高压汞灯、化学灯、黑光灯、微波激发汞灯、金属卤化物灯等。
对光固化性粘接剂的光照射强度可根据光固化性粘接剂的组成而适当决定，没有特别限定，对聚合引发剂的活化有效的波长区域的照射强度优选为0.1～6000mW/cm
在通过活性能量射线的照射使包含偏振片层、保护膜的膜的光固化性粘接剂发生固化时，优选在不降低偏振片层的偏振度、透射率和色调、以及保护膜的透明性等偏振板的诸多功能的条件下进行固化。
在将偏振片层和保护膜贴合的贴合工序(S50)中，使用含有溶剂的溶液以形成粘接剂层或粘合剂层的情况下，实施多层膜的干燥。上述干燥主要目的是实施粘接剂层或粘合剂层的干燥，干燥条件等与前面所述的洗涤工序后的干燥大体相同。特别是使用聚乙烯醇系树脂水溶液等以形成粘接剂层的情况下，优选实施60℃以上的温度下的干燥。
[剥离工序(S60)]
在贴合工序(S50)之后，进行从多层膜中将基材膜剥离而得到具备偏振片层和保护膜的偏振板的剥离工序(S60)。从多层膜中剥离基材膜的方法没有特别限定，可以采用与通常的带粘合剂的偏振板中进行的剥离膜剥离工序同样的方法。贴合工序(S50)之后，可以直接立即进行剥离，也可以暂时卷绕成卷状后，另行设置剥离工序而进行剥离。
[其它光学层]
本发明所得到的偏振板在实际使用时可以以层叠有其它光学层的偏振板的形式来使用。另外，上述保护膜还可以具有这些光学层的功能。
作为其它光学层的例子，可以列举：透射某种偏振光并将显示与其相反的性质的偏振光反射的反射型偏振膜，表面具有凹凸形状的带防眩功能的膜，带表面防反射功能的膜，表面具有反射功能的反射膜，兼具反射功能和透射功能的半透射反射膜，视角补偿膜。
作为与透射某种偏振光并将显示与其相反的性质的偏振光反射的反射型偏振膜相当的市售品，可以列举例如：DBEF(3M公司制，可以从Sumitomo 3M株式会社获得)、APF(3M公司制，可以从Sumitomo 3M株式会社获得)。作为视角补偿膜，可以列举：在基材表面涂布液晶性化合物并使之取向的光学补偿膜、由聚碳酸酯系树脂形成的相位差膜、包含环状聚烯烃系树脂的相位差膜。作为与在基材表面涂布液晶性化合物并使之取向的光学补偿膜相当的市售品，可以列举：WV膜(富士胶片(株)制)、NH膜(JX日矿日石能源株式会社制)、NV膜(JX日矿日石能源株式会社制)等。另外，作为与包含环状聚烯烃系树脂的相位差膜相当的市售品，可以列举：ARTON(注册商标)膜(JSR(株)制)，ESCENA(注册商标)(积水化学工业株式会社制)，ZEONOR(注册商标)膜(日本瑞翁(株)制)等。
[第2实施方式]
图2为示出第2实施方式的偏振性层叠膜和偏振板的制造方法的流程图。第2实施方式的偏振性层叠膜的制造方法依次包含：
在基材膜的一面上涂敷聚乙烯醇系树脂的水溶液而得到涂敷膜的第1涂敷工序(S11)；
将上述涂敷膜干燥而得到在基材膜的一面上形成有聚乙烯醇系树脂层的层叠膜的第1干燥工序(S21)；
在上述基材膜的另一面涂敷聚乙烯醇系树脂的水溶液而得到两面涂敷膜的第2涂敷工序(S12)；
将上述两面涂敷膜干燥而得到在基材膜的两面形成有聚乙烯醇系树脂层的两面层叠膜的第2干燥工序(S22)；
对上述两面层叠膜进行单轴拉伸而得到拉伸层叠膜的拉伸工序(S31)；和
对上述聚乙烯醇系树脂层进行染色而形成偏振片层、得到偏振性层叠膜的染色工序(S40)。
为了制造偏振板，进而依次包含：
在上述偏振性层叠膜中上述偏振片层的与上述基材膜相反侧的面贴合透明保护膜而得到多层膜的贴合工序(S50)；和
从上述多层膜中剥离上述基材膜而得到具备上述偏振片层和上述透明保护膜的偏振板的剥离工序(S60)。
本实施方式中，通过在基材膜的两面形成聚乙烯醇系树脂层，可以同时形成二个偏振片层。
<各制造工序>
以下对于图2中的第2实施方式的各工序，与图1中的第1实施方式的对应工序进行对比、说明。需要说明的是，没有特别说明的特征与第1实施方式的对应工序同样进行。另外，相同的工序带有相同的符号并省略说明。
[第1涂敷工序(S11)]
第1涂敷工序(S11)是与图1中的涂敷工序(S10)同样的工序。
[第1干燥工序(S21)]
第1干燥工序(S21)优选按照干燥后的层叠膜的水分率为0.3质量％以上且3质量％以下、优选0.35质量％以上且1.8质量％以下的方式来进行。通过设为这样的水分率，在后述拉伸工序(S31)中，容易将单轴拉伸开始时的水分率调整为期望的值。第1干燥工序(S21)中的涂敷膜的平均水分率变化的优选数值范围、优选干燥条件等如第1实施方式中的干燥工序(S20)中所说明。
[第2涂敷工序(S12)]
第2涂敷工序(S12)是在基材膜的面中的、与第1涂敷工序(S11)中涂敷了聚乙烯醇系水溶液的面相反侧的面上涂敷聚乙烯醇系树脂的水溶液而得到两面涂敷膜的工序。第2涂敷工序(S12)中的聚乙烯醇系树脂的水溶液的涂敷条件如第1实施方式的涂敷工序(S10)中所说明。
[第2干燥工序(S22)]
第2干燥工序(S22)为与第1实施方式中的干燥工序(S20)同样的工序。第2干燥工序(S22)中涂敷膜的平均水分率变化的优选数值范围、优选干燥条件等也如第1实施方式中的干燥工序(S20)中所说明。
[拉伸工序(S31)]
该工序中，对第2干燥工序(S22)所得到的两面层叠膜进行拉伸。拉伸工序(S31)中，在两面层叠膜的水分率为0.5质量％以上的状态下开始单轴拉伸。通过使单轴拉伸开始时的水分率为0.5质量％以上，可以制造具备具有优良的光学性能的偏振片层的偏振性层叠膜或偏振板。需要说明的是，上述水分率的调整例如可以通过调整第1干燥工序(S21)和第2干燥工序(S22)中的干燥程度来进行，或可以通过在后述调湿工序中进行调整来进行。
第1干燥工序(S21)和第2干燥工序(S22)中的干燥程度除了根据上述各工序中的温度、时间而变化外，还根据形成在基材膜上的聚乙烯醇系树脂涂敷层的厚度(或每单位面积的重量)、干燥工序中的氛围的水分浓度、水蒸气压、湿度等而变化，因此可以进行简单的预备实验来调节条件，从而在经过第2干燥工序(S22)后达到规定水分率(0.5质量％以上且4质量％以下，优选0.6质量％以上且2.5质量％以下)。某些情况下，还可以将调节至规定水蒸气压的空气引入干燥炉内。通过这种方式在第2干燥工序(S22)中干燥至规定水分率的层叠膜优选在保持其水分率的状态下供于拉伸工序(S31)，也可以在通过后述的调湿工序调整为规定水分率后供于拉伸工序(S31)。
(调湿工序)
在第2干燥工序(S22)后，还可以进一步具有调湿工序，其将两面层叠膜的水分率调节为0.5质量％以上且4质量％以下、优选0.6质量％以上且2.5质量％以下。这种情况下，能够将通过上述调湿工序调湿后的两面层叠膜在保持水分率0.5质量％以上且4质量％以下、优选0.6质量％以上且2.5质量％以下的状态下供于拉伸工序(S31)。关于该调湿工序中的调湿，适用与此前第1实施方式的调湿工序中所述内容同样的说明。
实施例
[实施例1]
如图2所示的流程图那样实施至染色工序(S40)，从而制造两面偏振性层叠膜，进而实施至剥离工序(S60)，从而制造偏振板。
(基材膜)
通过使用多层挤出成形机的共挤出成形，制作3层结构的基材膜，所述基材膜在由含有约5重量％的乙烯单元的丙烯/乙烯无规共聚物(住友化学(株)制，商品名：SumitomoNoblen W151，熔点Tm＝138℃)形成的树脂层的两侧配置有由作为丙烯的均聚物的均聚聚丙烯(住友化学(株)制，商品名：Sumitomo Noblen FLX80E4，熔点Tm＝163℃)形成的树脂层。得到的基材膜的总厚度为100μm，各层的厚度比(FLX80E4/W151/FLX80E4)为3/4/3。
(底涂溶液)
将聚乙烯醇粉末(日本合成化学工业(株)制，商品名：Z-200，平均聚合度1100，平均皂化度99.5摩尔％)溶解于95℃的热水，制备浓度3重量％的水溶液。在得到的水溶液中，混合相对于聚乙烯醇粉末2重量份为1重量份的交联剂(田冈化学工业(株)制，商品名：Sumirezresin 650)，得到底涂溶液。
(聚乙烯醇系树脂的水溶液)
将聚乙烯醇粉末((株)可乐丽制，商品名：PVA124，平均聚合度2400，平均皂化度98.0～99.0摩尔％)溶解于95℃的热水，制备浓度8重量％的聚乙烯醇水溶液。
(第1涂敷工序，第1干燥工序)
一边连续输送基材膜，一边对其一面实施电晕处理，然后使用小径凹版涂布机在电晕处理过的面上连续涂敷上述底涂溶液，并在60℃下干燥3分钟，由此形成厚度0.2μm的底涂层。接着，一边输送膜一边使用逗点涂布机在底涂层上连续涂敷上述聚乙烯醇水溶液(第1涂敷工序)，并在90℃下干燥4分钟(第1干燥工序)，由此在底涂层上形成厚度11.5μm的聚乙烯醇系树脂层(以下设为“第1PVA层”)，得到单面层叠膜。
(水分率的测定)
对按照上述方式制作的单面层叠膜的水分率进行测定，结果为0.39质量％。由该水分率和进入上述第1干燥工序前的涂敷膜的水分率，计算出第1干燥工序中的干燥速度以平均水分率变化计为16.4质量％/分钟。另外，对单面层叠膜的第1PVA层单体的水分率进行测定，结果为2.76质量％。
(第2涂敷工序、第2干燥工序)
对于按照上述方式制作的单面层叠膜，在与基材膜的形成有第1PVA层的面相反侧的面上，与上述同样地形成0.2μm的底涂层，在底涂层上涂敷聚乙烯醇水溶液(第2涂敷工序)，并在90℃下干燥4分钟(第2干燥工序)，从而在底涂层上形成厚度10.6μm的聚乙烯醇系树脂层(以下，“第2PVA层”)，得到两面层叠膜。
(水分率的测定)
对按照上述方式制作的两面层叠膜的水分率进行测定，结果为0.6质量％。由该水分率和进入上述第2干燥工序前的两面涂敷膜的水分率，计算出第2干燥工序中的干燥速度以平均水分率变化计为15.9质量％/分钟。另外，对两面层叠膜中的单独第1PVA层单体的水分率和单独第2PVA层的水分率进行测定，分别为4.66质量％和3.79质量％。
(拉伸工序)
一边连续输送按照上述方式得到的两面层叠膜，一边通过在夹持辊间拉伸的方法在拉伸温度160℃下沿着纵向(膜输送方向)拉伸5.8倍，得到拉伸层叠膜。在拉伸层叠膜中，第1PVA层的厚度变为5.7μm、第2PVA层的厚度变为5.4μm。
(染色工序)
一边连续输送按照上述方式得到的拉伸层叠膜，一边将其浸渍在含有碘和碘化钾的30℃的染色溶液中使得滞留时间为180秒从而将第1PVA层和第2PVA层染色后，用10℃的纯水洗去多余的染色溶液。然后，将其浸渍在含有硼酸和碘化钾的76℃的交联溶液中使得滞留时间为600秒左右从而进行交联处理。然后，用10℃的纯水洗涤4秒，并在80℃下干燥300秒，从而得到偏振性层叠膜。
需要说明的是，染色溶液、交联溶液的配合比率设为：
<染色溶液>
水：100重量份
碘：0.6重量份
碘化钾：10重量份
<交联溶液>
水：100重量份
硼酸：9.5重量份
碘化钾：5重量份。
(光学性能的测定)
对于得到的偏振性层叠膜的第1PVA层(第1偏振片层)和第2PVA层(第2偏振片层)，将不是测定对象的偏振片层剥离除去，从而准备作为测定对象的包含偏振片层和基材膜的层叠体，在所述层叠体的偏振片层上层叠丙烯酸系粘合剂层并经由该丙烯酸系粘合剂层贴合在玻璃上，将其作为评价样品。
用带积分球分光光度计(日本分光株式会社制，V7100)测定评价样品的光学特性。入射光设为由玻璃侧入射，求出波长380nm～780nm范围内的MD透射率和TD透射率，基于式(3)、式(4)计算各波长下的单独透射率、偏振度，进而通过JIS Z 8701的2度视野(C光源)进行可见度校正，求出可见度校正单独透射率(Ty)和可见度校正偏振度(Py)。
上述中，“MD透射率”是指从格兰-汤普森棱镜出来的偏振光的朝向与评价样品的透射轴平行时的透射率，在式(3)、式(4)中表示为“MD”。另外，“TD透射率”是指从格兰-汤普森棱镜出来的偏振光的朝向与评价样品的透射轴正交时的透射率，在式(3)、式(4)中表示为“TD”。
单独透射率(％)＝(MD+TD)/2 式(3)
偏振度(％)＝{(MD-TD)/(MD+TD)}
(粘接剂溶液)
将聚乙烯醇粉末((株)可乐丽制，商品名：KL-318，平均聚合度1800)溶解于95℃的热水，制备浓度3重量％的聚乙烯醇水溶液。在得到的水溶液中，混合相对于聚乙烯醇粉末2重量份为1重量份的交联剂(田冈化学工业(株)制，商品名：Sumirezresin650)，作为粘接剂溶液。
(贴合工序)
一边连续输送上述所得到的偏振性层叠膜，一边在两面的偏振片层上涂敷上述粘接剂溶液后，在其涂敷面上贴合实施了皂化处理的厚度40μm的保护膜(KONICA MINOLTA(株)制，商品名：KC4UY，由三乙酰纤维素(TAC)形成的透明保护膜)，使其通过一对贴合辊间而进行压接，得到由KC4UY/第1偏振片层/底涂层/基材膜/底涂层/第2偏振片层/KC4UY构成的多层膜(贴合工序)。将多层膜在基材膜与底涂层之间剥离，成为KC4UY/第1偏振片层/底涂层/基材膜、底涂层/第2偏振片层/KC4UY这两个层叠体，进而，将基材膜剥离除去(剥离工序)。在各层叠体的底涂层上经由粘接剂层贴合厚度23μm的环状聚烯烃系树脂膜(日本瑞翁(株)制，商品名：ZF-14)，得到由KC4UY/偏振片层/底涂层/粘接剂层/ZF-14构成的两个偏振板。剥离工序中没有断裂的不良情况发生。
[实施例2]
将第1干燥工序和第2干燥工序中的干燥条件变更为90℃下3分钟，进而，使第1干燥工序后的第1PVA层的厚度变为9.2μm、使第2干燥工序后的第2PVA层的厚度变为9.4μm，除此以外，与实施例1同样地制作偏振性层叠膜和偏振板。剥离工序中没有断裂的不良情况发生。
[实施例3]
将第1干燥工序和第2干燥工序中的干燥条件均变更为90℃下2分钟、而后80℃下1.5分钟、共3.5分钟，进而，使第1干燥工序后的第1PVA层的厚度变为9.3μm、使第2干燥工序后的第2PVA层的厚度变为9.2μm，除此以外，与实施例1同样地制作偏振性层叠膜和偏振板。剥离工序中没有断裂的不良情况发生。
[实施例4]
将第1干燥工序和第2干燥工序中的干燥条件均变更为75℃下2分钟、而后80℃下2分钟、共4分钟，进而，使第1干燥工序后的第1PVA层的厚度变为9.0μm、使第2干燥工序后的第2PVA层的厚度变为9.1μm，除此以外，与实施例1同样地制作偏振性层叠膜和偏振板。剥离工序中没有断裂的不良情况发生。
[实施例5]
如图1所示的流程图那样实施至染色工序(S40)，从而制造单面偏振性层叠膜，进而实施至剥离工序(S60)，从而制造偏振板。基材膜、底涂溶液和聚乙烯醇水溶液使用与实施例1～4同样的物质。
(第1涂敷工序，第1干燥工序)
一边连续输送基材膜，一边对其一面实施电晕处理，然后使用小径凹版涂布机在电晕处理过的面上连续涂敷上述底涂溶液，在60℃下干燥3分钟，由此形成厚度0.2μm的底涂层。接着，一边输送膜一边使用逗点涂布机在底涂层上连续涂敷上述聚乙烯醇水溶液(第1涂敷工序)，在90℃下干燥2分钟，而后在80℃下干燥1.5分钟，合计干燥3.5分钟(第1干燥工序)，由此在底涂层上形成厚度9.2μm的第1PVA层，得到单面层叠膜。
(拉伸工序)
一边连续输送按照上述方式得到的单面层叠膜，一边通过在夹持辊间拉伸的方法在拉伸温度160℃下沿着纵向(膜输送方向)拉伸5.8倍，得到单面拉伸层叠膜。拉伸层叠膜中，第1PVA层的厚度变为4.7μm。
(染色工序)
将按照上述方式得到的单面拉伸层叠膜与实施例1同样地进行染色，得到单面偏振性层叠膜。
(贴合工序)
一边连续输送所得到的单面偏振性层叠膜，一边将与实施例1相同的粘接剂溶液涂敷在偏振片上(第1偏振片层)，然后在该涂敷面上贴合实施了皂化处理的厚度40μm的保护膜(KONICA MINOLTA(株)制，商品名：KC4UY，由三乙酰纤维素(TAC)形成的透明保护膜)，使其通过一对贴合辊间而进行压接，得到由KC4UY/第1偏振片层/底涂层/基材膜构成的多层膜(贴合工序)。
从多层膜中的基材膜和底涂层间将基材膜剥离除去，成为由KC4UY/第1偏振片层/底涂层构成的层叠体(剥离工序)。在得到的层叠体的底涂层上，经由粘接剂层贴合厚度23μm的环状聚烯烃系树脂膜(日本瑞翁(株)制，商品名：ZF-14)，得到由KC4UY/第1偏振片层/底涂层/粘接剂层/ZF-14构成的偏振板。剥离工序中没有断裂的不良情况发生。
[实施例6]
使第1干燥工序中的干燥条件与实施例4相同，使第1干燥工序后的PVA层的厚度为9.0μm，除此以外，与实施例5同样制作单面偏振性层叠膜和偏振板。剥离工序中没有断裂的不良情况发生。
[比较例1]
使第1干燥工序后的第1PVA层的厚度变为9.0μm、使第2干燥工序后的第2PVA层的厚度变为8.9μm，除了该变更以外，与实施例1同样地制作偏振性层叠膜和偏振板。
[比较例2]
使第1干燥工序后的第1PVA层的厚度变为9.2μm、使第2干燥工序后的第2PVA层的厚度变为9.3μm，除了该变更以外，与实施例1同样地制作偏振性层叠膜和偏振板。
表1为记载实施例1～6和比较例1、2中的干燥条件和各测定结果的表。
[表1]
如表1所示，比较例1、2中，供于拉伸工序的状态的层叠膜的水分率低于0.5质量％，进而第1干燥工序后的水分率低于0.3质量％。比较例1、2的偏振性层叠膜与实施例1～6的偏振性层叠膜相比，可见度校正偏振度Py为低值。
在实施例1～6所制作的由KC4UY/偏振片层/底涂层/粘接剂层/ZF-14构成的偏振板的KC4UY面上设置丙烯酸系粘合剂层并经由该粘合剂层贴合于玻璃，将其作为评价样品，进行以下所示的耐湿热性试验和耐热性试验。其结果是，任一评价样品在耐湿热性试验中的ΔPy均在0.001％左右、耐热试验中的ΔPy均在0.005％左右，为没有问题的水平。对比较例1和2所制作的偏振板进行同样评价的结果是，与实施例1～6的评价样品相比ΔPy大。
(1)耐湿热性的评价
使用吸光光度计(日本分光(株)制，V7100)，测定在温度65℃、相对湿度90％的环境下静置500小时的耐湿热性试验后的可见度校正偏振度Py和试验前的Py，求出两者的差ΔPy(试验前的Py-试验后的Py)。在测定Py时，按照使入射光照射玻璃面的方式来设置评价样品，另外，在上述耐湿热性试验后，在温度23℃、相对湿度55％的环境下静置约12小时后测定试验后的可见度校正偏振度Py。ΔPy的绝对值越小则耐湿热性越高。
(2)耐热性的评价
进行在温度85℃的干燥环境下静置500小时的耐热性试验，其它与上述耐湿热性试验中记载的方法相同，求出试验前后的可见度校正偏振度Py，并求出两者的差ΔPy(试验前的Py-试验后的Py)。ΔPy的绝对值越小则耐热性越高。
偏振性层叠膜或偏振板的制造方法专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
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Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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