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一种平板显示用蚀刻液的循环再生处理系统

一种平板显示用蚀刻液的循环再生处理系统

IPC分类号 : B01D29/50,B01D29/13,C03C15/00,H01L21/00

申请号
CN201820371248.2
可选规格
  • 专利类型: 实用新型专利
  • 法律状态: 有权
  • 申请日: 2018-03-19
  • 公开号: 208065893U
  • 公开日: 2018-11-09
  • 主分类号: B01D29/50
  • 专利权人: 苏州晶瑞化学股份有限公司

专利摘要

本实用新型提供了一种平板显示用蚀刻液的循环再生处理系统,其可以有效过滤排出蚀刻槽的液体中的杂质,使得蚀刻液可以循环再利用。其包括盛放排除废液的废酸槽,所述废酸槽的底部设置有一出口管路,所述出口管路外接有耐酸泵,所述出口管路的输出端通过三通和对应的第一支管分别外接至对应的第一袋式过滤器、第二袋式过滤器的入口,所述第一袋式过滤器、第二袋式过滤器的出口分别通过对应的第二支管接入二级总管的输入口,所述二级总管的输出口连接第三袋式过滤器的入口,所述第三袋式过滤器的出口通过输出总管接入混酸槽的入口,所述混酸槽的顶部设置有蚀刻液补充口,所述混酸槽的出口通过输出管外接至蚀刻槽。

权利要求

1.一种平板显示用蚀刻液的循环再生处理系统,其特征在于:其包括盛放排除废液的废酸槽,所述废酸槽的底部设置有一出口管路,所述出口管路外接有耐酸泵,所述出口管路的输出端通过三通和对应的第一支管分别外接至对应的第一袋式过滤器、第二袋式过滤器的入口,所述第一袋式过滤器、第二袋式过滤器的出口分别通过对应的第二支管接入二级总管的输入口,所述二级总管的输出口连接第三袋式过滤器的入口,所述第三袋式过滤器的出口通过输出总管接入混酸槽的入口,所述混酸槽的顶部设置有蚀刻液补充口,所述混酸槽的出口通过输出管外接至蚀刻槽。

2.如权利要求1所述的一种平板显示用蚀刻液的循环再生处理系统,其特征在于:其还包括有进水总管,所述进水总管通过第一进水支管连接所述第一袋式过滤器的入口前的第一支管,所述进水总管通过第二进水支管连接所述第二袋式过滤器的入口前的第一支管,所述进水总管通过第三进水支管连接所述第三袋式过滤器入口前的二级总管,所述第一袋式过滤器的出口后的第二支管上布置有第一出水管路,所述第二袋式过滤器的出口后的第二支管上布置有第二出水管路,所述第三袋式过滤器的出口后的输出总管上布置有第三出水管路。

3.如权利要求2所述的一种平板显示用蚀刻液的循环再生处理系统,其特征在于:在两根第一支管的所分别对应的所述第一进水支管、第二进水支管的前部分别对应设置有一个阀门,在两根第二支管所分别对应的所述第一出水管路、第二出水管路的后方分别设置有一个阀门,所述输出总管对应的所述第三出水管路的后方设置有一个阀门。

说明书

技术领域

本实用新型涉及蚀刻液的循环利用的技术领域,具体为一种平板显示用蚀刻液的循环再生处理系统。

背景技术

随着电子行业显示设备的高速发展,为了满足用户对轻、薄产品的需求,平板玻璃的厚度已从1.1毫米降至0.5毫米,在手机等便携式设备中应用的玻璃厚度更下降至0.3毫米以下,但由于受到制造工艺的限制,玻璃基板厚度已经无法做到更薄了,目前通常采用物理方法和化学蚀刻法将玻璃基板进行减薄。由于化学蚀刻方法减薄时间短,设备投入小,产品良率高,且减薄液的成分简单,成本低,逐渐成为了玻璃基板减薄的主流技术方法。

化学蚀刻法主要利用蚀刻液进行,其通过HF酸与玻璃发生反应,使玻璃表面被层层剥离。但生成的氟硅酸盐吸附在玻璃表面,使表面变得粗糙,同时沉淀附着在设备管路内壁,堵塞管路,玻璃减薄刻蚀液必须经常更换。

目前蚀刻后的含氟废酸主要有以下三种处理方式:1)直接处理废液,处理费用>2000元/吨,且废酸未能进行回收利用,造成浪费;2)静置澄清法,采用分级静置沉淀方式逐步进行。该方法占地面积大,澄清酸液效率低,约为30%;3)废酸压滤法,废酸中的沉淀通过压滤机压滤去除。该方法效率高,但占地面积较大,需重新铺设酸液管路,压滤设备及空间需全部进行防腐处理,所需费用>25万元。从清洁生产、资源回收利用等方面考虑,以上三种废酸处理方法都不能很好满足生产厂家的生产需求。

发明内容

针对上述问题,本实用新型提供了一种平板显示用蚀刻液的循环再生处理系统,其可以有效过滤排出蚀刻槽的液体中的杂质,使得蚀刻液可以循环再利用。

一种平板显示用蚀刻液的循环再生处理系统,其特征在于:其包括盛放排除废液的废酸槽,所述废酸槽的底部设置有一出口管路,所述出口管路外接有耐酸泵,所述出口管路的输出端通过三通和对应的第一支管分别外接至对应的第一袋式过滤器、第二袋式过滤器的入口,所述第一袋式过滤器、第二袋式过滤器的出口分别通过对应的第二支管接入二级总管的输入口,所述二级总管的输出口连接第三袋式过滤器的入口,所述第三袋式过滤器的出口通过输出总管接入混酸槽的入口,所述混酸槽的顶部设置有蚀刻液补充口,所述混酸槽的出口通过输出管外接至蚀刻槽。

其进一步特征在于:其还包括有进水总管,所述进水总管通过第一进水支管连接所述第一袋式过滤器的入口前的第一支管,所述进水总管通过第二进水支管连接所述第二袋式过滤器的入口前的第一支管,所述进水总管通过第三进水支管连接所述第三袋式过滤器入口前的二级总管,所述第一袋式过滤器的出口后的第二支管上布置有第一出水管路,所述第二袋式过滤器的出口后的第二支管上布置有第二出水管路,所述第三袋式过滤器的出口后的输出总管上布置有第三出水管路;其使得在袋式过滤器更换前,可以充分冲洗滤袋,消除残留液对操作者的安全隐患;

在两根第一支管的所分别对应的所述第一进水支管、第二进水支管的前部分别对应设置有一个阀门,在两根第二支管所分别对应的所述第一出水管路、第二出水管路的后方分别设置有一个阀门,所述输出总管对应的所述第三出水管路的后方设置有一个阀门,其使得操作时可根据实际情况开单路或双路进行工作,保证工作效率。

采用本实用新型后,将废酸中的氟硅酸盐沉淀过滤后,通过蚀刻液补充口对酸液成分进行补加,实现废酸回收再利用,由于存在两级袋式过滤器,其可以有效过滤排出蚀刻槽的液体中的杂质,使得蚀刻液可以循环再利用。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意简图;

图中序号所对应的名称如下:

废酸槽1、出口管路2、耐酸泵3、第一支管4、第一袋式过滤器5、第二袋式过滤器6、第二支管7、二级总管8、第三袋式过滤器9、输出总管10、混酸槽11、蚀刻液补充口12、输出管13、进水总管14、第一进水支管15、第二进水支管16、第三进水支管17、第一出水管路18、第二出水管路19、第三出水管路20、阀门21、水管阀门22。

具体实施方式

一种平板显示用蚀刻液的循环再生处理系统,见图1:其包括盛放排除废液的废酸槽1,废酸槽1的底部设置有一出口管路2,出口管路2外接有耐酸泵3,出口管路1的输出端通过三通和对应的第一支管4分别外接至对应的第一袋式过滤器5、第二袋式过滤器6的入口,第一袋式过滤器5、第二袋式过滤器6的出口分别通过对应的第二支管7接入二级总管8的输入口,二级总管8的输出口连接第三袋式过滤器9的入口,第三袋式过滤器9的出口通过输出总管10接入混酸槽11的入口,混酸槽11的顶部设置有蚀刻液补充口12,混酸槽11的出口通过输出管13外接至蚀刻槽。

其还包括有进水总管14,进水总管14通过第一进水支管15连接第一袋式过滤器5的入口前的第一支管4,进水总管14通过第二进水支管16连接第二袋式过滤器6的入口前的第一支管4,进水总管14通过第三进水支管17连接第三袋式过滤器9入口前的二级总管8,第一袋式过滤器5的出口后的第二支管7上布置有第一出水管路18,第二袋式过滤器10的出口后的第二支管7上布置有第二出水管路19,第三袋式过滤器9的出口后的输出总管10上布置有第三出水管路20;其使得在袋式过滤器更换前,可以充分冲洗滤袋,消除残留液对操作者的安全隐患;

在两根第一支管4的所分别对应的第一进水支管15、第二进水支管16的前部分别对应设置有一个阀门21,在两根第二支管4所分别对应的第一出水管路18、第二出水管路19的后方分别设置有一个阀门21,输出总管10对应的第三出水管路20的后方设置有一个阀门21,其使得操作时可根据实际情况开单路或双路进行工作,保证工作效率;

第一进水支管15、第二进水支管16、第三进水支管17、第一出水管路18、第二出水管路19、第三出水管路20上分别设置有水管阀门22。

其工作原理如下:将废酸中的氟硅酸盐沉淀过滤后,通过蚀刻液补充口对酸液成分进行补加,实现废酸回收再利用,由于存在两级袋式过滤器,其可以有效过滤排出蚀刻槽的液体中的杂质,使得蚀刻液可以循环再利用。

以上对本实用新型的具体实施例进行了详细说明,但内容仅为本实用新型创造的较佳实施例,不能被认为用于限定本实用新型创造的实施范围。凡依本实用新型创造申请范围所作的均等变化与改进等,均应仍归属于本专利涵盖范围之内。

一种平板显示用蚀刻液的循环再生处理系统专利购买费用说明

专利买卖交易资料

Q:办理专利转让的流程及所需资料

A:专利权人变更需要办理著录项目变更手续,有代理机构的,变更手续应当由代理机构办理。

1:专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2:按规定缴纳著录项目变更手续费。

3:同时提交相关证明文件原件。

4:专利权转移的,变更后的专利权人委托新专利代理机构的,应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A:(1)直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,(2)通过代办处缴纳,(3)通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q:专利转让变更,多久能出结果

A:著录项目变更请求书递交后,一般1-2个月左右就会收到通知,国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。

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