专利摘要
本实用新型公开了一种强光保护膜的上胶装置，包括外壳，所述外壳内壁底部固定安装有集料槽，所述集料槽内腔底部固定连接有隔板，所述隔板顶部设有第一上胶辊，所述第一上胶辊前后两侧均固定连接有转杆，所述转杆远离第一上胶辊的一端与集料槽内壁活动连接，通过第一上胶辊、第二上胶辊和集料槽等一系列部件之间的配合使用，使得本实用新型能够同时对强光保护膜的顶面与地面进行上胶操作，使得本实用新型的效率高；通过刮块、L形块和螺纹杆等一系列部件之间的配合使用，使得本实用新型能够在第二上胶辊使用结束后，对其外壁残留胶水进行刮除操作，避免胶水凝固对后续工作造成影响。
权利要求
1.一种强光保护膜的上胶装置，包括外壳(1)，其特征在于：所述外壳(1)内壁底部固定安装有集料槽(2)，所述集料槽(2)内腔底部固定连接有隔板(3)，所述隔板(3)顶部设有第一上胶辊(4)，所述第一上胶辊(4)前后两侧均固定连接有转杆(5)，所述转杆(5)远离第一上胶辊(4)的一端与集料槽(2)内壁活动连接，所述外壳(1)内壁顶部固定连接有竖板，所述竖板前侧活动连接有第二上胶辊(6)，所述外壳(1)内壁顶部靠近左右两侧处共同设有存胶机构，所述外壳(1)顶部固定连接有罩体(13)，所述罩体(13)内腔设有驱动机构。
2.如权利要求1所述的一种强光保护膜的上胶装置，其特征在于：所述存胶机构包括两个内壳(7)，两个所述内壳(7)均安装在外壳(1)内壁顶部，所述内壳(7)内腔安装有胶水袋(8)，两个所述胶水袋(8)相对一侧均安装有若干个出胶管(10)，所述胶水袋(8)远离竖板的一侧插接有注胶管(9)，所述注胶管(8)远离胶水袋(9)的一端贯穿内壳(7)和外壳(1)顶部，并延伸至外壳(1)顶部，所述内壳(7)底部设有清刮机构。
3.如权利要求1所述的一种强光保护膜的上胶装置，其特征在于：所述驱动机构包括电机(14)，所述电机(14)安装在罩体(13)内壁顶部，所述电机(14)底部固定连接有转动杆(15)，所述转动杆(15)底端与外壳(1)活动连接，且所述转动杆(15)外侧套接有共轭凸轮(16)，所述共轭凸轮(16)左右两侧均贴合有推杆(17)，所述推杆(17)远离共轭凸轮(16)的一侧固定连接有限位杆(20)，所述限位杆(20)远离推杆(17)的一端贯穿罩体(13)，并与罩体(13)活动连接，所述限位杆(20)外侧套设有第一弹簧(19)，所述第一弹簧(19)两端分别与推杆(17)和罩体(13)内壁固定连接，所述外壳(1)顶部开设有两个横槽(18)，两个所述横槽(18)为左右设置，所述推杆(17)底端贯穿横槽(18)，并活动连接有活动杆(22)，所述活动杆(22)远离推杆(17)的一端活动连接有侧杆(23)，所述侧杆(23)远离活动杆(22)的一端贯穿内壳(7)侧壁，并固定连接有夹块(21)，所述侧杆(23)与内壳(7)活动连接。
4.如权利要求2所述的一种强光保护膜的上胶装置，其特征在于：所述清刮机构包括L形块(27)，所述L形块(27)短边顶部固定连接有第二滑块(32)，所述内壳(7)底部开设有第二滑槽(31)，所述第二滑块(32)活动连接在第二滑槽(31)内腔，且所述第二滑块(32)靠近第二上胶辊(6)的一侧与第二滑槽(31)内壁之间固定连接有第三弹簧(33)，所述L形块(27)远离第二滑块(32)的一侧活动连接有刮块(28)。
5.如权利要求4所述的一种强光保护膜的上胶装置，其特征在于：所述L形块(27)远离第二滑块(32)的一侧开设有螺纹槽(30)，所述螺纹槽(30)内腔螺纹连接有螺纹杆(29)，所述螺纹杆(29)与刮块(28)固定连接。
6.如权利要求1所述的一种强光保护膜的上胶装置，其特征在于：所述转杆(5)远离第一上胶辊(4)的一端活动连接有第一滑块(24)，所述集料槽(2)内壁前后两侧均开设有第一滑槽(25)，所述第一滑块(24)活动连接在第一滑槽(25)内腔，且所述第一滑块(24)底部与第一滑槽(25)内壁底部之间固定连接有第二弹簧(26)。
7.如权利要求1所述的一种强光保护膜的上胶装置，其特征在于：所述外壳(1)右侧固定连接有回形板(11)，所述回形板(11)内壁顶部与底部均固定安装有烘干机(12)。
一种强光保护膜的上胶装置专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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