专利摘要
本发明公开了一种焦点探测侧面式光刻焦面位置的检测装置，包括光源、竖直设在硅片侧面且与硅片垂直的定标板，以及设在光源和定标板之间且用于将光源产生的光线聚焦在定标板上的镜组，还包括用于探测定标板上光线焦点位置的探测器，以及与探测器连接且用于处理探测信号的控制器；利用具有较高精度的焦点探测方法，通过焦点检测硅片侧面的定标位置，将方便硅片的安放，减少因光刻胶吸收检测光产生的影响，并能够对硅片光刻焦面位置进行实时检测和校准，简单方便且精度较高。本发明还公开了一种与上述检测装置相适应的检测方法。
专利附图
一种焦点探测侧面式光刻焦面位置的检测装置及方法专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
动态评分
0.0