专利摘要
本发明公开了一种通过激光加热制作薄膜图案的方法。在磁控溅射沉积金属或非金属薄膜时，采用外部装置对溅射基座进行冷却，冷却的温度为-196～5℃，同时采用激光对基片表面图案化区域加热。激光加热区域与非加热区域的温度差导致薄膜的附着力不同，即在加热区域沉积的薄膜附着力大，未加热区域沉积的薄膜附着力小。然后采用离子束刻蚀技术，通过调节合适的离子束功率，使未加热区域的金属或非金属薄膜快速刻蚀，而加热区域的金属或非金属电极薄膜得以保留并形成所需图案。本发明无需物理掩膜，与光刻技术相比，具有工艺简单，成本低，易于实现工业化的特点，特别适合于各类薄膜器件的制备和加工。
一种通过激光加热制作薄膜图案的方法专利购买费用说明
Q：办理专利转让的流程及所需资料
A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。
1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。
2：按规定缴纳著录项目变更手续费。
3：同时提交相关证明文件原件。
4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。
Q:专利著录项目变更费用如何缴交
A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式
Q：专利转让变更，多久能出结果
A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。
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