专利摘要

本发明涉及一种LED晶片清洗烘干装置，包括操作台、转盘和烘干筒，所述操作台上方设有传送带A，所述操作台上设有数个用于刷去晶片表面颗粒物的可旋转的毛刷；所述毛刷一端位于操作台上，另一端位于传送带A上方，紧贴传送带A上表面；所述转盘一侧通过一铰链与上盖连接；所述转盘内部中央设有一转轴，所述转轴连接数个转叶；所述转盘底部设有多个排液孔；所述转盘通过一转移筒连接烘干筒；所述烘干筒内部设有一传送板B；所述转盘上方和下方均设有喷嘴。本发明可以解决在LED晶片生产过程中晶片表面被污染的问题。

权利要求

1.一种LED晶片清洗烘干装置，包括操作台、转盘和烘干筒，其特征在于：所述操作台上方设有传送带A，所述操作台上设有数个用于刷去晶片表面颗粒物的可旋转的毛刷；所述毛刷一端位于操作台上，另一端位于传送带A上方，紧贴传送带A上表面；所述转盘一侧通过一铰链与上盖连接；所述转盘内部中央设有一转轴，所述转轴连接数个转叶；所述转盘底部设有多个排液孔；所述转盘通过一转移筒连接烘干筒；所述烘干筒内部设有一传送板B；所述转盘上方和下方均设有喷嘴，所述传送带A一端通过传送板A连接转盘，所述转盘上盖上设有数个排液孔，所述烘干箱内壁上设有加热丝，所述转盘底部设有一可抽挡板，挡板与转移筒相连接；

通过将晶片放置在传送带A上，随着传送带A的转动，晶片进入毛刷转动范围内，毛刷对晶片进行刷洗，刷去表面的颗粒物；当晶片被传送至传送板A进入转盘时，由于转盘内的转叶随着转轴转动，将晶片均匀带至转盘的内部，然后盖紧上盖，打开喷嘴，加快转轴转动，喷嘴喷出的清洗剂通过上盖的进液孔进入转盘，通过转盘底部的排液孔排出；清洗完成后，关闭喷嘴，加速转叶旋转，进行晶片甩干；甩干完成后，减缓转叶旋转，抽开挡板，晶片掉落在传送带B上，进入烘干筒烘干；烘干完成后通过传送板B传送出。

2.根据权利要求1所述的一种LED晶片清洗烘干装置，其特征在于，所述毛刷两两一对，排列在传送带A的两侧。

3.根据权利要求1所述的一种LED晶片清洗烘干装置，其特征在于，所述上盖一侧设有一圈用于盖紧上盖的卡条。

说明书

技术领域：

本发明涉及一种LED晶片清洗烘干装置，属于照明领域。

背景技术：

LED芯片的制造工艺流程：外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。

在制作过程中清洗是尤为重要的环节，如若清洗不彻底，将会造成晶片无法使用，造成极大的浪费。

发明内容：

本发明要解决的技术问题是提供一种可以解决在LED晶片生产过程中晶片表面被污染的问题。

为了解决背景技术所存在的问题，本发明是采用以下技术方案：

一种LED晶片清洗烘干装置，包括操作台、转盘和烘干筒，所述操作台上方设有传送带A，所述操作台上设有数个用于刷去晶片表面颗粒物的可旋转的毛刷；所述毛刷一端位于操作台上，另一端位于传送带A上方，紧贴传送带A上表面；所述转盘一侧通过一铰链与上盖连接；所述转盘内部中央设有一转轴，所述转轴连接数个转叶；所述转盘底部设有多个排液孔；所述转盘通过一转移筒连接烘干筒；所述烘干筒内部设有一传送板B；所述转盘上方和下方均设有喷嘴。

进一步的，所述传送带A一端通过传送板A连接转盘。

进一步的，所述转盘底部设有一可抽挡板，挡板与转移筒相连接。

进一步的，所述毛刷两两一对，排列在传送带A的两侧。

进一步的，所述转盘上盖上设有数个进液孔。

进一步的，所述上盖一侧设有一圈用于盖紧上盖的卡条。

进一步的，所述烘干箱内壁上设有加热丝。

将晶片放置在传送带A上，随着传送带A的转动，晶片进入毛刷转动范围内，毛刷对晶片进行刷洗，刷去表面的颗粒物；当晶片被传送至传送板A进入转盘时，由于转盘内的转叶随着转轴转动，将晶片均匀带至转盘的内部，然后盖紧上盖，打开喷嘴，加快转轴转动，喷嘴喷出的清洗剂通过上盖的进液孔进入转盘，通过转盘底部的排液孔排出。清洗完成后，关闭喷嘴，加速转叶旋转，进行晶片甩干；甩干完成后，减缓转叶旋转，抽开挡板，晶片掉落在传送带B上，进入烘干筒烘干。烘干完成后通过传送板B传送出。

本发明有益效果为：结构简单，提高晶片良好率，节约资源。

附图说明：

图1为本发明整体结构平面图；

附图中的标记：1、传送带A；2、毛刷；3、卡条；4、上盖；5、铰链；6、转叶；7、传送带B；8、烘干筒；9、排液孔；10、转盘；11、操作台。

图2为本发明整体结构示意图；

附图中的标记：12、喷嘴；13、挡板；14、传送板A；15、转移筒；16、传送板B。

具体实施方式：

为了使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面将结合附图对本发明作进一步的详细介绍。

请参考图1，图1为本发明所提供一种具体实施方式的结构示意图。

一种LED晶片清洗烘干装置，包括操作台、转盘和烘干筒，所述操作台上方设有传送带A，所述操作台上设有数个用于刷去晶片表面颗粒物的可旋转的毛刷；所述毛刷一端位于操作台上，另一端位于传送带A上方，紧贴传送带A上表面；所述转盘一侧通过一铰链与上盖连接；所述转盘内部中央设有一转轴，所述转轴连接数个转叶；所述转盘底部设有多个排液孔；所述转盘通过一转移筒连接烘干筒；所述烘干筒内部设有一传送板B；所述转盘上方和下方均设有喷嘴。

作为本发明的一种优选实施例，所述传送带A一端通过传送板A连接转盘。

作为本发明的一种优选实施例，所述转盘底部设有一可抽挡板，挡板与转移筒相连接。

作为本发明的一种优选实施例，所述毛刷两两一对，排列在传送带A的两侧。

作为本发明的一种优选实施例，所述转盘上盖上设有数个进液孔

作为本发明的一种优选实施例，所述上盖一侧设有一圈用于盖紧上盖的卡条。

作为本发明的一种优选实施例，所述烘干箱内壁上设有加热丝。

一种LED晶片清洗烘干装置专利购买费用说明

Q：办理专利转让的流程及所需资料

A：专利权人变更需要办理著录项目变更手续，有代理机构的，变更手续应当由代理机构办理。

1：专利变更应当使用专利局统一制作的“著录项目变更申报书”提出。

2：按规定缴纳著录项目变更手续费。

3：同时提交相关证明文件原件。

4：专利权转移的，变更后的专利权人委托新专利代理机构的，应当提交变更后的全体专利申请人签字或者盖章的委托书。

Q:专利著录项目变更费用如何缴交

A：（1）直接到国家知识产权局受理大厅收费窗口缴纳,（2）通过代办处缴纳，（3）通过邮局或者银行汇款,更多缴纳方式

Q：专利转让变更，多久能出结果

A：著录项目变更请求书递交后，一般1-2个月左右就会收到通知，国家知识产权局会下达《转让手续合格通知书》。